DE102013112270B4 - Component arrangement - Google Patents
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Abstract
Bauelementanordnung mit einem ersten optoelektronischen Bauelement (10) und mindestens einem zweiten optoelektronischen Bauelement (70), und mit einem elektrisch leitfähigen zweiten Steckelement (65), das über ein Kopplungselement (50) des ersten optoelektronischen Bauelements (10) mit einem Kontaktbereich (32, 34) des ersten optoelektronischen Bauelements (10) gekoppelt ist und das über ein weiteres Kopplungselement (50) des zweiten optoelektronischen Bauelements (70) mit einem Kontaktbereich (32, 34) des zweiten optoelektronischen Bauelements (70) elektrisch gekoppelt ist, und das so das erste optoelektronische Bauelement (10) mit dem zweiten optoelektronischen Bauelement (70) elektrisch koppelt, wobei das erste optoelektronische Bauelement (10) und das mindestens eine zweite optoelektronische Bauelement (70) aufweisen:- einen Trägerkörper (12),- eine optoelektronische Schichtenstruktur, die über dem Trägerkörper (12) ausgebildet ist und die mindestens einen Kontaktbereich (32, 34) zum elektrischen Kontaktieren der optoelektronischen Schichtenstruktur aufweist,- einen Abdeckkörper (38), der über der optoelektronischen Schichtenstruktur angeordnet ist,- mindestens eine Kontaktausnehmung (42, 44), die sich durch den Trägerkörper (12) und den Abdeckkörper (38) hindurch erstreckt und die bei dem Kontaktbereich (32, 34) eine Hinterschneidung (48) aufweist, wobei in der Hinterschneidung (48) zumindest ein Teil des Kontaktbereichs (32, 34) freigelegt ist, und- mindestens ein Kopplungselement (50), das ein plattenförmiges Einlegelement (52) und zum Aufnehmen eines elektrischen Leiters ein Halteelement (54) aufweist, zum elektrischen Kontaktieren des optoelektronischen Bauelements (10, 70), wobei das Einlegelement (52) zumindest teilweise in der Hinterschneidung (48) angeordnet und mit dem Kontaktbereich (32, 34) elektrisch gekoppelt ist, wobei- die optoelektronische Schichtenstruktur eine Verkapselungsschicht (24) und/oder eine Haftmittelschicht (36) aufweist, und sich die Kontaktausnehmung (42, 44) durch die Verkapselungsschicht (24) und/oder durch die Haftmittelschicht (36) hindurch erstreckt.Component arrangement with a first optoelectronic component (10) and at least one second optoelectronic component (70), and with an electrically conductive second plug-in element (65), which is connected via a coupling element (50) of the first optoelectronic component (10) to a contact area (32, 34) of the first optoelectronic component (10) is coupled and which is electrically coupled via a further coupling element (50) of the second optoelectronic component (70) to a contact area (32, 34) of the second optoelectronic component (70), and so on first optoelectronic component (10) is electrically coupled to the second optoelectronic component (70), wherein the first optoelectronic component (10) and the at least one second optoelectronic component (70) have: - a carrier body (12), - an optoelectronic layer structure, which is formed above the carrier body (12) and which has at least one contact region (32, 34) for electrically contacting the optoelectronic layer structure, - a cover body (38) which is arranged above the optoelectronic layer structure, - at least one contact recess (42, 44) which extends through the carrier body (12) and the cover body (38) and which has an undercut (48) in the contact area (32, 34), at least part of the contact area (32, 34) being in the undercut (48). ) is exposed, and - at least one coupling element (50), which has a plate-shaped insert element (52) and a holding element (54) for receiving an electrical conductor, for electrically contacting the optoelectronic component (10, 70), the insert element (52 ) is at least partially arranged in the undercut (48) and electrically coupled to the contact area (32, 34), wherein the optoelectronic layer structure has an encapsulation layer (24) and / or an adhesive layer (36), and the contact recess (42, 44) extends through the encapsulation layer (24) and/or through the adhesive layer (36).
Description
Die Erfindung betrifft eine Bauelementanordnung. Es werden weiterhin ein optoelektronisches Bauelement und ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements beschrieben.The invention relates to a component arrangement. An optoelectronic component and a method for producing an optoelectronic component are also described.
Herkömmliche optoelektronische Bauelemente, beispielsweise OLEDs, sind üblicherweise aus einem Substrat, optisch funktionellen Schichten, beispielsweise organischen funktionellen Schichten, Elektrodenschichten, einer Verkapselungsschicht, beispielsweise einer Dünnfilmverkapselungsschicht, gegen Feuchteeinwirkung und einem Abdeckkörper, beispielsweise einer Deckplatte, aufgebaut, und sind beispielsweise bekannt aus
Während des Herstellungsprozesses werden mehrere optoelektronische Bauelemente im Bauelementverbund hergestellt und anschließend vereinzelt, beispielsweise mittels Ritzens und Brechens des Substrats und der Deckplatte. Im Bauelementverbund erstrecken sich das Substrat und die Deckplatte jeweils einstückig über mehrere optoelektronische Bauelemente. Im Bauelementverbund sind daher elektrische Kontakte der Elektrodenschichten nicht zugänglich, was eine elektrische Kontaktierung und damit die Möglichkeit zur elektrooptischen Charakterisierung früh im Prozessablauf verhindert. Beim Ritzen und Brechen in Einzelbauteile wird das Deckglas über den Kontakten entfernt. Danach kann gegebenenfalls die Verkapselungsschicht auf den Kontakten beispielsweise mittels Laserablation entfernt werden. Erst nach diesen Prozessschritten kann das fertig prozessierte und insbesondere vereinzelte optoelektronische Bauelement elektrisch kontaktiert und elektrooptisch charakterisiert werden.During the manufacturing process, several optoelectronic components are produced in a component composite and then separated, for example by scoring and breaking the substrate and the cover plate. In the component assembly, the substrate and the cover plate each extend in one piece over several optoelectronic components. In the component composite, electrical contacts of the electrode layers are therefore not accessible, which prevents electrical contacting and thus the possibility of electro-optical characterization early in the process. When scoring and breaking into individual components, the cover glass over the contacts is removed. The encapsulation layer on the contacts can then optionally be removed, for example by means of laser ablation. Only after these process steps can the fully processed and in particular isolated optoelectronic component be electrically contacted and electro-optically characterized.
Bei diesem Verfahren können elektrooptische Messungen erst relativ spät im Fertigungsablauf und mit erhöhtem Aufwand bei der Handhabung an vereinzelten optoelektronischen Bauelementen erfolgen.With this method, electro-optical measurements can only be carried out relatively late in the production process and with increased effort when handling individual optoelectronic components.
Alternativ dazu ist es bekannt, die Leiterbahnen aller optoelektronischen Bauelemente zum Rand des Bauelementverbunds zu führen. Dafür muss jedoch eine ansonsten für die einzelnen optoelektronischen Bauelemente nutzbare Nutzfläche geopfert werden, wodurch die Ausnutzung des Substrats und insbesondere der Substratoberfläche schlechter wird. Ferner ist bei diesem Ansatz ein zusätzlicher Prozessschritt zum Freilegen der Verkapselung im Randbereich des Bauelementverbunds vor dem weiteren Prozessieren nötig. Darüber hinaus können dann aufgrund unterschiedlicher Leitungslängen unterschiedliche Spannungen im optoelektronischen Bauelement auftreten, wodurch im Betrieb eine homogene Lichterzeugung beeinträchtigt wird.Alternatively, it is known to guide the conductor tracks of all optoelectronic components to the edge of the component assembly. However, to do this, a usable area that would otherwise be usable for the individual optoelectronic components must be sacrificed, which means that the utilization of the substrate and in particular the substrate surface becomes worse. Furthermore, with this approach, an additional process step is necessary to expose the encapsulation in the edge area of the component composite before further processing. In addition, different voltages can then occur in the optoelectronic component due to different line lengths, which impairs homogeneous light generation during operation.
Außerdem besteht das herkömmliche optoelektronische Bauelement an den Kontakten im Wesentlichen aus dem Glassubstrat ohne schützende Deckplatte und ist dort besonders anfällig für Beschädigungen durch Eck- oder Kantenausbrüche. Ferner wird bei dem herkömmlichen optoelektronischen Bauelement der Laminierkleber strukturiert aufgebracht, was relativ aufwendig ist, damit die Kontakte nachfolgend einfach freigelegt werden können. Ferner kann eine Metallplatte als Wärmesenke oder Wärmeverteiler nicht direkt auf die Verkapselungsschicht aufgebrachten werden, da die Metallplatte nicht innerhalb des Bauelementverbunds separiert werden kann, um die Kontakte freizulegen.In addition, the conventional optoelectronic component at the contacts essentially consists of the glass substrate without a protective cover plate and is particularly susceptible to damage due to corner or edge breakouts. Furthermore, in the conventional optoelectronic component, the laminating adhesive is applied in a structured manner, which is relatively complex so that the contacts can subsequently be easily exposed. Furthermore, a metal plate cannot be applied directly to the encapsulation layer as a heat sink or heat distributor, since the metal plate cannot be separated within the component composite in order to expose the contacts.
Die freiliegenden Kontakte der optoelektronischen Bauelemente können mittels Federpins, Leitkleber, Leitpaste, Crimps, usw. oder über ACF (Anisotropic Conductive Film)-gebondete Leiterplatten, welche eine lötfähige metallische Fläche zum Anlöten weiterer Kontaktelemente (z.B. Pins, Ösen, Kabel etc.) zur Verfügung stellen, an nahezu beliebiger Stelle kontaktiert werden. Beispielsweise können Kontaktleisten der optoelektronischen Bauelemente mittels unterschiedlicher Prozesse, beispielsweise ACF-Bonden, US-Schweißen, oder (US-) Löten mit Kontaktpins oder Drähten gekoppelt werden. Für diese Prozesse ist jeweils eine Anlage mit entsprechenden Betriebskosten nötig. Es besteht auch die Möglichkeit flüssigen Leitkleber für die Kontaktierung von Drähten und Pins zu verwenden, jedoch ist hier für einen sauberen Prozess auch eine entsprechende Anlage nötig. Außerdem liegen die Aushärtetemperaturen für solche Leitkleber meist bei über 100° Celsius, wodurch die Leistungsfähigkeit des optoelektronischen Bauelements beeinträchtigt werden kann. Meist sind die Kontaktelemente nicht so ausgebildet, dass sie inhärent einen elektrisch isolierten Abstand zu seitlichen Außenkanten des optoelektronischen Bauelements haben. Daher müssen aufgrund diverser Sicherheitsnormen beim Entwerfen und Kontaktieren des optoelektronischen Bauelements vorgegebene Luft- und Kriechstrecken berücksichtigt werden.The exposed contacts of the optoelectronic components can be made using spring pins, conductive adhesive, conductive paste, crimps, etc. or via ACF (Anisotropic Conductive Film) bonded circuit boards, which have a solderable metallic surface for soldering on further contact elements (e.g. pins, eyelets, cables, etc.). Make available, can be contacted at almost any point. For example, contact strips of the optoelectronic components can be coupled to contact pins or wires using different processes, for example ACF bonding, US welding, or (US) soldering. Each of these processes requires a system with corresponding operating costs. It is also possible to use liquid conductive adhesive for contacting wires and pins, but an appropriate system is also necessary for a clean process. In addition, the curing temperatures for such conductive adhesives are usually over 100° Celsius, which can impair the performance of the optoelectronic component. The contact elements are usually not designed in such a way that they inherently have an electrically insulated distance from the lateral outer edges of the optoelectronic component. Therefore, due to various safety standards, specified clearance and creepage distances must be taken into account when designing and contacting the optoelectronic component.
Es wird ein optoelektronisches Bauelement bereitgestellt, das einfach herstellbar und/oder einfach kontaktierbar ist, das früh im Herstellungsprozess elektrisch kontaktierbar und/oder charakterisierbar ist und/oder das robust und/oder sicher ausgebildet ist.An optoelectronic component is provided that is easy to manufacture and/or easy to contact, that can be electrically contacted and/or characterized early in the manufacturing process and/or that is designed to be robust and/or safe.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine optoelektronische Baugruppe bereitgestellt, die einfach herstellbar und/oder einfach kontaktierbar ist.In various exemplary embodiments, an optoelectronic assembly is provided that is easy to produce and/or easy to contact.
Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements bereitgestellt, das einfach durchführbar ist und/oder bei dem früh während des Verfahrens das optoelektronische Bauelement elektrisch kontaktierbar und/oder charakterisierbar ist.A method for producing an optoelectronic component is provided which is easy to carry out and/or in which the optoelectronic component can be electrically contacted and/or characterized early during the method.
Es wird ein optoelektronisches Bauelement bereitgestellt. Das optoelektronische Bauelement weist einen Trägerkörper auf. Über dem Trägerkörper ist eine optoelektronische Schichtenstruktur ausgebildet. Die optoelektronische Schichtenstruktur weist mindestens einen Kontaktbereich zum elektrischen Kontaktieren der optoelektronischen Schichtenstruktur auf. Über der optoelektronischen Schichtenstruktur ist ein Abdeckkörper angeordnet. Mindestens eine Kontaktausnehmung erstreckt sich durch den Trägerkörper und den Abdeckkörper hindurch und weist bei dem Kontaktbereich eine Hinterschneidung auf. In der Hinterschneidung ist zumindest ein Teil des Kontaktbereichs freigelegt. Mindestens ein Kopplungselement zum elektrischen Kontaktieren des optoelektronischen Bauelements weist ein plattenförmiges Einlegelement und ein Halteelement zum Aufnehmen eines elektrischen Leiters auf. Das Einlegelement ist zumindest teilweise in der Hinterschneidung angeordnet und mit dem Kontaktbereich elektrisch gekoppelt.An optoelectronic component is provided. The optoelectronic component has a carrier body. An optoelectronic layer structure is formed over the carrier body. The optoelectronic layer structure has at least one contact region for electrically contacting the optoelectronic layer structure. A cover body is arranged above the optoelectronic layer structure. At least one contact recess extends through the carrier body and the cover body and has an undercut in the contact area. At least part of the contact area is exposed in the undercut. At least one coupling element for electrically contacting the optoelectronic component has a plate-shaped insert element and a holding element for receiving an electrical conductor. The insert element is at least partially arranged in the undercut and electrically coupled to the contact area.
Insbesondere ist zumindest der freigelegte Teil des Kontaktbereichs frei von Verkapselungsschicht. Über den freigelegten Teil des Kontaktbereichs hat das Einlegelement direkten körperlichen Kontakt zu dem Kontaktbereich. Der Kontaktbereich kann in der Hinterschneidung auch vollständig freigelegt sein. Alternativ dazu kann zumindest ein Teil des Kopplungselements die über dem Kontaktbereich, beispielsweise der Kontaktleiste, angeordnete Verkapselungsschicht durchdringen, beispielsweise aufgrund seiner geometrischen Ausbildung.In particular, at least the exposed part of the contact area is free of encapsulation layer. The insert element has direct physical contact with the contact area via the exposed part of the contact area. The contact area can also be completely exposed in the undercut. Alternatively, at least part of the coupling element can penetrate the encapsulation layer arranged above the contact area, for example the contact strip, for example due to its geometric design.
Das Ausbilden der Hinterschneidung, das Anordnen des Kopplungselements zumindest teilweise in der Hinterschneidung und die elektrische Kopplung des Kopplungselements mit dem Kontaktbereich ermöglicht die elektrische Kontaktierung und eine elektrooptische Charakterisierung des optoelektronischen Bauelements über die Kontaktausnehmung und das Kopplungselement noch im Bauelementverbund und damit früh während des Herstellungsverfahrens. Ferner sind die Kontaktbereiche, die beispielsweise von Kontaktleisten, die auch als Kontaktabschnitte bezeichnet werden können, gebildet sind, außerhalb der Kontaktausnehmungen durch den Abdeckkörper vor mechanischer Beschädigung geschützt, wodurch das optoelektronische Bauelement sehr robust ist. Ferner können einfach gesetzlich vorgeschriebene Normen, wie beispielsweise Luft- und Kriechstrecken, zu stromführenden Schichten der optoelektronischen Schichtenstruktur sichergestellt werden. Ein Haftmittel, beispielsweise ein Laminierkleber, zum Befestigen des Abdeckkörpers kann auf den entsprechenden Untergrund flächig aufgebracht werden, was zu einem einfachen Herstellen des optoelektronischen Bauelements beiträgt. Eine elektrische Kontaktierung des optoelektronischen Bauelements durch die Kontaktausnehmungen hindurch kann mit lediglich geringem Aufbau auf das optoelektronische Bauelement erfolgen.Forming the undercut, arranging the coupling element at least partially in the undercut and electrically coupling the coupling element to the contact area enables electrical contacting and electro-optical characterization of the optoelectronic component via the contact recess and the coupling element while still in the component assembly and thus early during the manufacturing process. Furthermore, the contact areas, which are formed, for example, by contact strips, which can also be referred to as contact sections, are protected from mechanical damage outside the contact recesses by the cover body, as a result of which the optoelectronic component is very robust. Furthermore, legally prescribed standards, such as clearance and creepage distances, for current-carrying layers of the optoelectronic layer structure can easily be ensured. An adhesive, for example a laminating adhesive, for fastening the cover body can be applied flatly to the corresponding substrate, which contributes to easy production of the optoelectronic component. Electrical contacting of the optoelectronic component through the contact recesses can be achieved with only a small amount of construction on the optoelectronic component.
Das Kopplungselement kann beispielsweis einstückig oder mehrstückig ausgebildet sein. Das Halteelement dient zum Halten eines elektrischen Leiters. Der elektrische Leiter kann beispielsweise ein Steckelement sein, das beispielsweise einen Stecker oder einen Draht, beispielsweise einen abisolierten Abschnitt eines Kabels, aufweisen kann. Die Hinterschneidung ist von einer Weitung der Kontaktausnehmung in einem axialen Abschnitt der Kontaktausnehmung gebildet. Im Bereich der Weitung ist eine lichte Weite, beispielsweise ein Radius, und/oder ein Abstand von Innenwänden der Kontaktausnehmung größer als außerhalb der Weitung. Dass die Weitung bzw. Hinterschneidung bei dem Kontaktbereich ausgebildet ist, kann beispielsweise bedeuten, dass der Kontaktbereich in der Hinterschneidung freigelegt ist oder dass in der Hinterschneidung über dem Kontaktbereich lediglich eine dünne Schicht, beispielsweise ein Teil einer Verkapselungsschicht, ausgebildet ist. Die Hinterschneidung kann somit nahe bei oder direkt bei dem Kontaktbereich ausgebildet sein.The coupling element can, for example, be designed in one piece or in several pieces. The holding element is used to hold an electrical conductor. The electrical conductor can, for example, be a plug-in element, which can have, for example, a plug or a wire, for example a stripped section of a cable. The undercut is formed by a widening of the contact recess in an axial section of the contact recess. In the area of the widening, a clear width, for example a radius, and/or a distance from inner walls of the contact recess is larger than outside the widening. The fact that the widening or undercut is formed in the contact area can mean, for example, that the contact area is exposed in the undercut or that only a thin layer, for example a part of an encapsulation layer, is formed in the undercut above the contact area. The undercut can therefore be formed close to or directly next to the contact area.
Dass das Einlegelement plattenförmig ausgebildet ist, kann beispielsweise bedeuten, dass das Einlegelement einen Radius, eine Breite und/oder eine Länge hat, die um ein Vielfaches größer ist als seine Dicke. Die Dickenrichtung des Einlegelements ist parallel zu einer Achse der Kontaktausnehmung. Das Einlegelement kann in Richtung senkrecht zur Dickenrichtung kreisförmig, beispielsweise oval oder rund, oder polygonal, beispielsweise viereckig, beispielsweise rechteckig oder quadratisch, oder sechseckig, ausgebildet sein.The fact that the insert element is plate-shaped can mean, for example, that the insert element has a radius, a width and/or a length that is many times larger than its thickness. The thickness direction of the insert element is parallel to an axis of the contact recess. The insert element can be circular, for example oval or round, or polygonal, for example square, for example rectangular or square, or hexagonal, in the direction perpendicular to the thickness direction.
Optional kann das Kopplungselement einen Abschnitt aufweisen, der außerhalb der Hinterschneidung parallel zu einer Wandung der Kontaktausnehmung verläuft. Gegebenenfalls kann dieser Abschnitt gemäß einem Dübel, beispielsweise einem Spreizdübel, ausgebildet sein. Beispielsweise kann der Abschnitt an seiner Außenseite, also zwischen der Wandung der Kontaktausnehmung und dem Abschnitt selbst von dem Abschnitt abstehende Widerhaken und/oder Spreizelemente aufweisen, durch die das Kopplungselement in der Kontaktausnehmung gehalten wird.Optionally, the coupling element can have a section that is outside the rear cutting runs parallel to a wall of the contact recess. If necessary, this section can be designed according to a dowel, for example an expansion dowel. For example, on its outside, i.e. between the wall of the contact recess and the section itself, the section can have barbs and/or spreading elements which protrude from the section and through which the coupling element is held in the contact recess.
Die optoelektronische Schichtenstruktur weist eine Verkapselungsschicht und/oder eine Haftmittelschicht auf. Die Kontaktausnehmung erstreckt sich durch die Verkapselungsschicht und/oder durch die Haftmittelschicht hindurch. Die Verkapselungsschicht dient zum Schützen der optisch funktionellen, beispielsweise organischen, Schichten, beispielsweise vor Feuchtigkeit. Die Haftmittelschicht dient beispielsweise zum Befestigen des Abdeckkörpers. Die Haftmittelschicht kann beispielsweise flächig auf der Verkapselungsschicht aufgebracht sein.The optoelectronic layer structure has an encapsulation layer and/or an adhesive layer. The contact recess extends through the encapsulation layer and/or through the adhesive layer. The encapsulation layer serves to protect the optically functional, for example organic, layers, for example from moisture. The adhesive layer serves, for example, to fasten the cover body. The adhesive layer can, for example, be applied flatly to the encapsulation layer.
Bei verschiedenen Ausführungsformen ist das Einlegelement scheibenförmig ausgebildet. Beispielsweise ist das Einlegelement gemäß einer Beilagscheibe ausgebildet.In various embodiments, the insert element is disc-shaped. For example, the insert element is designed according to a washer.
Bei verschiedenen Ausführungsformen ist das Einlegelement in Dickenrichtung mit einer Übermaßpassung bezüglich der Hinterschneidung ausgebildet. In anderen Worten ist das Einlegelement in der Hinterschneidung zwischen dem Abdeckkörper und dem Trägerkörper eingeklemmt. Die Übermaßpassung kann dazu beitragen, dass das Einlegelement in einen Kontaktabschnitt, der den Kontaktbereich aufweist, und/oder durch eine über dem Kontaktbereich ausgebildete Schicht, beispielsweise die Verkapselungsschicht und/oder die Haftmittelschicht, gedrückt wird. Dies kann zu einer besonders guten elektrischen Kopplung zwischen dem Einlegelement und dem Kontaktbereich beitragen. Ferner kann dies dazu beitragen, auf ein Entfernen der entsprechenden über dem Kontaktbereich ausgebildeten Schicht verzichten zu können, sofern diese aufgrund des Drucks auf das Einlegelement von zumindest dem Teil des Einlegelements durchdrungen wird.In various embodiments, the insert element is designed with an interference fit in the thickness direction with respect to the undercut. In other words, the insert element is clamped in the undercut between the cover body and the carrier body. The interference fit can contribute to the insert element being pressed into a contact section that has the contact area and/or through a layer formed over the contact area, for example the encapsulation layer and/or the adhesive layer. This can contribute to a particularly good electrical coupling between the insert element and the contact area. Furthermore, this can help to avoid having to remove the corresponding layer formed over the contact area, provided that at least part of the insert element penetrates it due to the pressure on the insert element.
Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das Einlegelement eine zentrale Ausnehmung auf, an deren Rand das Halteelement ausgebildet ist.In various embodiments, the insert element has a central recess, at the edge of which the holding element is formed.
Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das Einlegelement Kontaktelemente auf, die in direktem körperlichen Kontakt mit dem Kontaktbereich sind. Die Kontaktelemente können beispielsweise Zähne, Fächer, Nasen, Stifte, Widerhaken und/oder Spitzen sein. Die Kontaktelemente können auf einfache Weise zu der besonders guten elektrischen Kopplung zwischen dem Einlegelement und dem Kontaktbereich beitragen. Bei verschiedenen Ausführungsformen ist zwischen dem Einlegelement und dem Kontaktbereich zumindest teilweise die Verkapselungsschicht ausgebildet. Die Kontaktelemente erstrecken sich durch die Verkapselungsschicht hindurch, insbesondere hin zu dem Kontaktbereich. Die Kontaktelemente können somit dazu beitragen, auf ein Entfernen der über dem Kontaktbereich ausgebildeten Schicht verzichten zu können, sofern diese aufgrund des Drucks auf das Einlegelement von den Kontaktelementen durchdrungen wird. Dies kann zu einem besonders einfachen und/oder kostengünstigen Herstellen des optoelektronischen Bauelements beitragen.In various embodiments, the insert element has contact elements that are in direct physical contact with the contact area. The contact elements can be, for example, teeth, fans, noses, pins, barbs and/or tips. The contact elements can easily contribute to the particularly good electrical coupling between the insert element and the contact area. In various embodiments, the encapsulation layer is at least partially formed between the insert element and the contact area. The contact elements extend through the encapsulation layer, in particular towards the contact area. The contact elements can thus help to avoid having to remove the layer formed over the contact area if it is penetrated by the contact elements due to the pressure on the insert element. This can contribute to a particularly simple and/or cost-effective production of the optoelectronic component.
Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das Einlegelement eine Zahnscheibe oder eine Fächerscheibe auf. Die Kontaktelemente, beispielsweise die Zähne bzw. Fächer, der Zahnscheibe bzw. Fächerscheibe können den Kontaktabschnitt, an dem der Kontaktbereich ausgebildet ist, zumindest teilweise verformen und in diesen eindringen. Zusätzlich können die Kontaktelemente, beispielsweise die Zähne bzw. Fächer, die Verkapselungsschicht und/oder die Haftmittelschicht über dem Kontaktbereich durchdringen. Dies ermöglicht auf besonders einfache Weise die besonders gute elektrische Kopplung zwischen dem Einlegelement und dem Kontaktbereich und/oder die einfache Herstellung des optoelektronischen Bauelements.In various embodiments, the insert element has a toothed washer or a serrated lock washer. The contact elements, for example the teeth or compartments, of the toothed washer or serrated washer can at least partially deform the contact section on which the contact area is formed and penetrate into it. In addition, the contact elements, for example the teeth or compartments, can penetrate the encapsulation layer and/or the adhesive layer above the contact area. This enables particularly good electrical coupling between the insert element and the contact area and/or simple production of the optoelectronic component in a particularly simple manner.
Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das Einlegelement eine zentrale Ausnehmung auf. Das Halteelement weist mindestens zwei Blattfedern auf, die jeweils an dem Einlegelement angeordnet sind und die sich so in Richtung weg von dem Einlegelement erstrecken, dass zwischen den beiden Blattfedern ein Zwischenraum gebildet ist. Der Zwischenraum überlappt die Ausnehmung und wird in Richtung weg von dem Einlegelement schmäler. Die Blattfedern sind dazu geeignet, einen elektrischen Leiter, beispielsweise das Steckelement, insbesondere einen Draht, zu halten, dessen Durchmesser größer ist als der Abstand zwischen den Blattfedern. Beispielsweise kann der Draht die Blattfedern nach außen drücken, wodurch eine Gegenkraft von den Blattfedern auf den Draht ausgeübt wird. Dadurch kann eine kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Draht und den Blattfedern gebildet sein. Der haltende Effekt kann weiter verstärkt werden, wenn die Blattfedern so angeordnet sind und der Draht so eingesteckt wird, dass der Draht zunächst die Ausnehmung in dem Einlegelement durchdringt und erst beim weiteren Einschieben in Kontakt mit den Blattfedern kommt.In various embodiments, the insert element has a central recess. The holding element has at least two leaf springs, which are each arranged on the insert element and which extend in the direction away from the insert element so that a space is formed between the two leaf springs. The gap overlaps the recess and becomes narrower in the direction away from the insert element. The leaf springs are suitable for holding an electrical conductor, for example the plug-in element, in particular a wire, whose diameter is larger than the distance between the leaf springs. For example, the wire can push the leaf springs outward, thereby exerting a counterforce from the leaf springs on the wire. This allows a non-positive connection to be formed between the wire and the leaf springs. The holding effect can be further enhanced if the leaf springs are arranged and the wire is inserted in such a way that the wire first penetrates the recess in the insert element and only comes into contact with the leaf springs when it is pushed in further.
Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das optoelektronische Bauelement zum elektrischen Kontaktieren des optoelektronischen Bauelements ein elektrisch leitfähiges erstes Steckelement auf, das mittels des Halteelements an dem Kopplungselement befestigt ist und das über das Kopplungselement mit dem Kontaktbereich elektrisch gekoppelt ist. Das Steckelement kann beispielsweise der im Vorhergehenden erwähnte Draht sein. Der Draht kann beispielsweise ein abisolierter Abschnitt, beispielsweise ein Endabschnitt, eines Kabels sein. Alternativ dazu kann das Steckelement einen Stecker aufweisen. Der Stecker kann beispielsweise gemäß einer bekannten Steckernorm ausgebildet sein. Beispielsweise kann der Stecker ein GU10-Stift sein. Dementsprechend kann dann das Halteelement einen GU10-Sockel bilden.In various embodiments, the optoelectronic component has the ability to electrically contact the optoelectronic component an electrically conductive first plug-in element, which is attached to the coupling element by means of the holding element and which is electrically coupled to the contact area via the coupling element. The plug-in element can be, for example, the wire mentioned above. The wire can be, for example, a stripped section, for example an end section, of a cable. Alternatively, the plug-in element can have a plug. The plug can, for example, be designed according to a known plug standard. For example, the plug can be a GU10 pin. Accordingly, the holding element can then form a GU10 base.
Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das Halteelement ein Schraubgewinde auf. Beispielsweise kann das Halteelement ein Innengewinde aufweisen, in das ein Stecker oder ein Verbindungsstück mit einem entsprechenden Außengewinde einschraubbar ist. Alternativ dazu kann das Halteelement beispielsweise ein Außengewinde aufweisen, auf das ein Stecker oder ein Verbindungsstück mit einem entsprechenden Innengewinde aufschraubbar ist. Dieses Steckerelement bzw. Verbindungsstück kann gemäß verschiedenen Schnittstellen zur weiteren elektrischen Anbindung ausgestaltet sein und eine mechanische Haltefunktionen übernehmen. Beispielsweise kann das einschraubbare Verbindungsstück gemäß einer bekannten Kontaktstiftform ausgeführt sein, beispielsweise gemäß einem GU-10 Stift. Die Anordnung der Kontaktausnehmungen und Kopplungselemente kann sich an bereits existierende Schnittstellengeometrien orientieren, beispielsweise an GU-10 Sockeln.In various embodiments, the holding element has a screw thread. For example, the holding element can have an internal thread into which a plug or a connecting piece with a corresponding external thread can be screwed. Alternatively, the holding element can, for example, have an external thread onto which a plug or a connecting piece with a corresponding internal thread can be screwed. This plug element or connecting piece can be designed according to various interfaces for further electrical connection and can take on mechanical holding functions. For example, the screw-in connecting piece can be designed according to a known contact pin shape, for example according to a GU-10 pin. The arrangement of the contact recesses and coupling elements can be based on existing interface geometries, for example on GU-10 sockets.
Bei verschiedenen Ausführungsbeispielen ist das Halteelement mittig an dem Einlegelement ausgebildet. Beispielsweise ist das Halteelement zentral an dem Einlegelement ausgebildet. Dass das Halteelement mittig an dem Einlegelement ausgebildet ist, kann beispielsweise bedeuten, dass das Halteelement bezogen auf eine Länge, Breite und/oder einen Durchmesser des Einlegelements ungefähr bei der Mitte der Länge, der Breite und/oder des Durchmessers angeordnet ist und/oder dass zumindest ein Teilabschnitt des Haltelements ungefähr bei der Mitte der Länge, der Breite und/oder des Durchmessers angeordnet ist. Beispielsweise kann das Halteelement außer mittig an dem Einlegelement befestigt sein und in Richtung der Mitte des Einlegelements ragen, beispielsweise auch lediglich in einer Projektion auf das Einlegelement. Dass das Halteelement zentral an dem Einlegelement ausgebildet ist, kann beispielsweise bedeuten, dass das Halteelement von einem äußeren Rand des Einlegelements beabstandet oder in oder an einem zentralen Bereich des Einlegelements angeordnet ist. Das Halteelement muss also nicht genau mittig an dem Einlegelement angeordnet sein, sondern kann auch von einer Mitte des Einlegelements beabstandet angeordnet sein. Das Einlegelement kann beispielsweise eine zentrale Ausnehmung aufweisen, bei deren Rand das Halteelement angeordnet ist. Rechteckiges Einlegelement, Länge, Breite, Mitte, Rundes Einlegelement Zentral Mittelpunkt.In various exemplary embodiments, the holding element is formed centrally on the insert element. For example, the holding element is formed centrally on the insert element. The fact that the holding element is formed centrally on the insert element can mean, for example, that the holding element is arranged approximately at the middle of the length, width and/or diameter of the insert element and/or that at least a portion of the holding element is arranged approximately at the middle of the length, the width and / or the diameter. For example, the holding element can be attached to the insertion element off center and can protrude towards the center of the insertion element, for example only in a projection onto the insertion element. The fact that the holding element is formed centrally on the insert element can mean, for example, that the holding element is spaced from an outer edge of the insert element or is arranged in or on a central region of the insert element. The holding element therefore does not have to be arranged exactly in the middle of the insert element, but can also be arranged at a distance from a center of the insert element. The insert element can, for example, have a central recess, at the edge of which the holding element is arranged. Rectangular insert element, length, width, center, round insert element central center point.
In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Bauelementanordnung mit einem ersten optoelektronischen Bauelement und mindestens einem zweiten optoelektronischen Bauelement bereitgestellt. Beide optoelektronischen Bauelemente können beispielsweise gemäß einer Ausgestaltung des im Vorhergehenden erläuterten optoelektronischen Bauelements ausgebildet sein. Ein elektrisch leitfähiges zweites Steckelement ist über das Kopplungselement des ersten optoelektronischen Bauelements mit dem Kontaktbereich des ersten optoelektronischen Bauelements gekoppelt und über ein zweites Kopplungselement des zweiten optoelektronischen Bauelements mit einem Kontaktbereich des zweiten optoelektronischen Bauelements elektrisch gekoppelt. Das zweite Steckelement koppelt das erste optoelektronische Bauelement mit dem zweiten optoelektronischen Bauelement elektrisch. Das zweite Steckelement dient somit als elektrisches Verbindungselement mittels dessen aneinander angrenzende und/oder direkt nebeneinander angeordnete optoelektronische Bauelemente elektrische und/oder mechanisch miteinander verbunden werden können. Das zweite Steckelement kann beispielsweise in einem ersten Endabschnitt des zweiten Steckelements, der in der Kontaktausnehmung des ersten optoelektronischen Bauelements angeordnet ist, und/oder in einem zweiten Endabschnitt des zweiten Steckelements, der in der Kontaktausnehmung des zweiten optoelektronischen Bauelements angeordnet ist, gemäß einer Ausgestaltung des ersten Steckelements ausgebildet sein. Das zweite Steckelement kann beispielsweise dazu beitragen, zwei optoelektronische Bauelemente schnell und/oder einfach elektrisch miteinander zu koppeln, beispielsweise parallel zu schalten oder in Reihe zu schalten. Das zweite Steckelement kann auch als Verbindungselement bezeichnet werden.In various embodiments, a component arrangement with a first optoelectronic component and at least one second optoelectronic component is provided. Both optoelectronic components can be designed, for example, according to an embodiment of the optoelectronic component explained above. An electrically conductive second plug-in element is coupled to the contact region of the first optoelectronic component via the coupling element of the first optoelectronic component and is electrically coupled to a contact region of the second optoelectronic component via a second coupling element of the second optoelectronic component. The second plug-in element electrically couples the first optoelectronic component to the second optoelectronic component. The second plug-in element thus serves as an electrical connecting element by means of which adjacent and/or directly next to one another optoelectronic components can be electrically and/or mechanically connected to one another. The second plug-in element can, for example, be located in a first end portion of the second plug-in element, which is arranged in the contact recess of the first optoelectronic component, and/or in a second end portion of the second plug-in element, which is arranged in the contact recess of the second optoelectronic component, according to an embodiment of the be formed first plug element. The second plug-in element can, for example, help to quickly and/or easily electrically couple two optoelectronic components to one another, for example to connect them in parallel or in series. The second plug-in element can also be referred to as a connecting element.
Optional kann das zweite Steckelement in einem Mittelabschnitt, der zwischen den beiden Endabschnitten ausgebildet ist, einen Steckerkörper aufweisen. Der Mittelabschnitt kann beispielsweise in den Steckerkörper eingebettet sein. Der Steckerkörper kann beispielsweise ein elektrisch isolierendes Material und/oder Kunststoff aufweisen. Beispielsweise kann der Steckerkörper ein gespritzter Kunststoffkörper sein, wobei der Mittelabschnitt ein Draht sein kann, der von dem Kunststoff umspritzt ist. Optional kann der Steckerkörper so ausgebildet sein, dass er die Kontaktausnehmungen bedeckt, verschließt oder abdichtet. Ferner kann an dem zweiten Steckelement ein weiteres Kontaktelement zur elektrischen Anbindung der optoelektronischen Baugruppe an eine externe Vorrichtung angeordnet sein.Optionally, the second plug element can have a plug body in a middle section which is formed between the two end sections. The middle section can, for example, be embedded in the plug body. The plug body can, for example, have an electrically insulating material and/or plastic. For example, the plug body can be an injection-molded plastic body, with the middle section being a wire that is encapsulated by the plastic. Optionally, the plug body can be designed such that it covers, closes or seals the contact recesses. Furthermore, there can be two th plug element, a further contact element can be arranged for electrically connecting the optoelectronic assembly to an external device.
Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements beschrieben, bei dem der Trägerkörper und der Abdeckkörper bereitgestellt werden. In dem Trägerkörper und/oder in dem Abdeckkörper wird mindestens die eine Kontaktausnehmung so ausgebildet, dass sie sich durch den Trägerkörper und/oder den Abdeckkörper hindurch erstreckt und dass sie in dem axialen Endbereich der Kontaktausnehmung die Weitung aufweist. Eine optoelektronische Schichtenstruktur, die mindestens einen Kontaktbereich zum elektrischen Kontaktieren der optoelektronischen Schichtenstruktur aufweist, wird über dem Trägerkörper ausgebildet. In der Hinterschneidung ist zumindest ein Teil des Kontaktbereichs freigelegt. Mindestens das eine Kopplungselement weist zum elektrischen Koppeln mit dem Kontaktbereich das plattenförmige Einlegelement auf, das in der Weitung der Kontaktausnehmung angeordnet wird. Das Kopplungselement weist weiter zum Aufnehmen des elektrischen Leiters das Halteelement auf. Der Abdeckkörper wird so angeordnet, dass er die optoelektronische Schichtenstruktur bedeckt, dass die Weitung die Hinterschneidung in dem optoelektronischen Bauelement bildet und dass das Kopplungselement zwischen dem Abdeckkörper und dem Trägerkörper angeordnet ist.A method for producing an optoelectronic component is described, in which the carrier body and the cover body are provided. In the carrier body and/or in the cover body, at least one contact recess is formed in such a way that it extends through the carrier body and/or the cover body and that it has the widening in the axial end region of the contact recess. An optoelectronic layer structure, which has at least one contact region for electrically contacting the optoelectronic layer structure, is formed over the carrier body. At least part of the contact area is exposed in the undercut. At least one coupling element has the plate-shaped insert element for electrical coupling to the contact area, which is arranged in the widening of the contact recess. The coupling element further has the holding element for receiving the electrical conductor. The cover body is arranged so that it covers the optoelectronic layer structure, that the widening forms the undercut in the optoelectronic component and that the coupling element is arranged between the cover body and the carrier body.
Der Abdeckkörper kann auf den Trägerkörper mit der optoelektronischen Schichtenstruktur auflaminiert werden. Die Weitung der Kontaktausnehmung kann auch als Aussparung bezeichnet werden. Nach dem Anordnen des Abdeckkörpers über dem Trägerkörper bildet die Weitung einen Hohlraum zwischen dem Abdeckkörper und dem Trägerkörper. Der Hohlraum bildet die Hinterschneidung. Im Bereich der Hinterschneidung ist der Durchmesser der Kontaktausnehmung größer als außerhalb der Hinterschneidung.The cover body can be laminated onto the carrier body with the optoelectronic layer structure. The widening of the contact recess can also be referred to as a recess. After arranging the cover body over the support body, the widening forms a cavity between the cover body and the support body. The cavity forms the undercut. In the area of the undercut, the diameter of the contact recess is larger than outside the undercut.
Das Einlegelement kann in Dickenrichtung mit einer Übermaßpassung bezüglich der Hinterschneidung ausgebildet werden, so dass beim Anordnen des Abdeckkörpers das Kopplungselement zumindest teilweise gegen den Kontaktbereich gedrückt wird. Das Einlegelement kann beispielsweise so gegen die Verkapselungsschicht über dem Kontaktbereich gedrückt werden, dass zumindest ein Teil davon die Verkapselungsschicht durchdringt und in direkten körperlichen Kontakt mit dem Kontaktbereich kommt. Das Einlegelement kann beispielsweise so gegen die Verkapselungsschicht über dem Kontaktbereich gedrückt werden, dass gegebenenfalls seine Kontaktelemente die Verkapselungsschicht durchdringen. Alternativ oder zusätzlich kann das Einlegelement beispielsweise so gegen den Kontaktbereich gedrückt werden, dass es den Kontaktbereich und den entsprechenden Kontaktabschnitt verformt.The insert element can be designed with an interference fit with respect to the undercut in the thickness direction, so that when the cover body is arranged, the coupling element is at least partially pressed against the contact area. The insert element can, for example, be pressed against the encapsulation layer above the contact area in such a way that at least part of it penetrates the encapsulation layer and comes into direct physical contact with the contact area. The insert element can, for example, be pressed against the encapsulation layer above the contact area in such a way that, if necessary, its contact elements penetrate the encapsulation layer. Alternatively or additionally, the insert element can, for example, be pressed against the contact area in such a way that it deforms the contact area and the corresponding contact section.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are shown in the figures and are explained in more detail below.
Es zeigen:
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1 eine Schnittdarstellung eines herkömmlichen optoelektronischen Bauelements; -
2 eine Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines optoelektronischen Bauelements; -
3 eine detaillierte Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines optoelektronischen Bauelements; -
4 eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel eines optoelektronischen Bauelements; -
5 eine detailliere Draufsicht auf das optoelektronische Bauelement gemäß4 ; -
6 eine detaillierte Schnittdarstellung des optoelektronischen Bauelements gemäß3 mit einem Ausführungsbeispiel eines Steckelements; -
7 eine detaillierte Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer optoelektronischen Baugruppe; -
8 eine detaillierte Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer optoelektronischen Baugruppe; -
9 eine detaillierte Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines optoelektronischen Bauelements; -
10 eine Schnittdarstellung eines Beispiels eines optoelektronischen Bauelements; -
11 eine Schnittdarstellung eines Beispiels eines optoelektronischen Bauelements; -
12 eine Seitenansicht eines Ausführungsbeispiels eines Kopplungselements; -
13 eine Seitenansicht eines Ausführungsbeispiels eines Kopplungselements; -
14 eine Seitenansicht eines Ausführungsbeispiels eines Kopplungselements; -
15 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelementes; -
16 eine detaillierte Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Schichtenstruktur eines optoelektronischen Bauelementes.
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1 a sectional view of a conventional optoelectronic component; -
2 a sectional view of an exemplary embodiment of an optoelectronic component; -
3 a detailed sectional view of an exemplary embodiment of an optoelectronic component; -
4 a top view of an exemplary embodiment of an optoelectronic component; -
5 a detailed top view of the optoelectronic component according to4 ; -
6 a detailed sectional view of the optoelectronic component according to3 with an embodiment of a plug-in element; -
7 a detailed sectional view of an exemplary embodiment of an optoelectronic assembly; -
8th a detailed sectional view of an exemplary embodiment of an optoelectronic assembly; -
9 a detailed sectional view of an exemplary embodiment of an optoelectronic component; -
10 a sectional view of an example of an optoelectronic component; -
11 a sectional view of an example of an optoelectronic component; -
12 a side view of an exemplary embodiment of a coupling element; -
13 a side view of an exemplary embodiment of a coupling element; -
14 a side view of an exemplary embodiment of a coupling element; -
15 a flowchart of a method for producing an optoelectronic component; -
16 a detailed sectional view of an exemplary embodiment of a layer structure of an optoelectronic component.
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser Beschreibung bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsbeispiele gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsbeispielen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen Ausführungsbeispiele miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part of this description and in which are shown, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "back", etc. is used with reference to the orientation of the figure(s) being described. Because components of embodiments may be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is for illustrative purposes and is not in any way limiting. It is to be understood that the features of the various embodiments described herein may be combined with one another unless specifically stated otherwise. The scope of the present invention is defined by the appended claims.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.In the context of this description, the terms “connected”, “connected” and “coupled” are used to describe both a direct and an indirect connection, a direct or indirect connection and a direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are given identical reference numerals where appropriate.
Die Verbindung eines ersten Körpers mit einem zweiten Körper kann formschlüssig, kraftschlüssig und/oder stoffschlüssig sein. Die Verbindungen können lösbar ausgebildet sein, d.h. reversibel. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine reversible, schlüssige Verbindung beispielsweise als eine Schraubverbindung, ein Klettverschluss, eine Klemmung, eine Rastverbindung und/oder mittels einer Nutzung von Klammern realisiert sein. Die Verbindungen können jedoch auch nicht lösbar ausgebildet sein, d.h. irreversibel. Eine nicht lösbare Verbindung kann dabei nur mittels Zerstörens der Verbindungsmittel getrennt werden. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine irreversible, schlüssige Verbindung beispielsweise als eine Nietverbindung, eine Klebeverbindung oder eine Lötverbindung realisiert sein.The connection of a first body to a second body can be positive, non-positive and/or materially bonded. The connections can be designed to be detachable, i.e. reversible. In various embodiments, a reversible, locking connection can be realized, for example, as a screw connection, a Velcro fastener, a clamp, a snap connection and/or by using clips. However, the connections can also be designed to be non-detachable, i.e. irreversible. A non-detachable connection can only be separated by destroying the connecting means. In various embodiments, an irreversible, coherent connection can be realized, for example, as a rivet connection, an adhesive connection or a solder connection.
Bei einer formschlüssigen Verbindung kann die Bewegung des ersten Körpers von einer Fläche des zweiten Körpers beschränkt werden, wobei sich der erste Körper senkrecht, d.h. normal, in Richtung der beschränkenden Fläche des zweiten Körpers bewegt. In anderen Worten wird bei einer formschlüssigen Verbindung eine Relativbewegung der beiden Körper aufgrund ihrer zueinander korrespondierenden Formen in zumindest einer Richtung unterbunden. Ein Haken in einer Öse kann beispielsweise in mindestens einer Raumrichtung in der Bewegung beschränkt sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine formschlüssige Verbindung beispielsweise als eine Schraubverbindung, ein Klettverschluss, eine Klemmung, eine Rastverbindung und/oder mittels Klammern realisiert sein.In the case of a positive connection, the movement of the first body can be restricted by a surface of the second body, with the first body moving perpendicularly, i.e. normally, in the direction of the restricting surface of the second body. In other words, with a positive connection, a relative movement of the two bodies is prevented in at least one direction due to their corresponding shapes. A hook in an eyelet can, for example, be restricted in movement in at least one spatial direction. In various embodiments, a positive connection can be realized, for example, as a screw connection, a Velcro fastener, a clamp, a snap connection and/or by means of clamps.
Bei einer kraftschlüssigen Verbindung kann aufgrund eines körperlichen Kontakts der beiden Körper unter Druck, eine Haftreibung eine Bewegung des ersten Körpers parallel zu dem zweiten Körper beschränken. Ein Beispiel für eine kraftschlüssige Verbindung kann beispielsweise ein Flaschenkorken in einem Flaschenhals oder ein Dübel mit einer Übermaßpassung in einem entsprechenden Dübelloch sein. Die kraftschlüssige Verbindung kann auch als Presspassung bezeichnet werden.In the case of a non-positive connection, due to physical contact between the two bodies under pressure, static friction can limit movement of the first body parallel to the second body. An example of a non-positive connection can be, for example, a bottle cork in a bottle neck or a dowel with an interference fit in a corresponding dowel hole. The frictional connection can also be referred to as a press fit.
Bei einer stoffschlüssigen Verbindung kann der erste Körper mit dem zweiten Körper mittels atomarer und/oder molekularer Kräfte verbunden sein. Stoffschlüssige Verbindungen können häufig nicht lösbare Verbindungen sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine stoffschlüssige Verbindung beispielsweise als eine Klebeverbindung, eine Lotverbindung, beispielsweise eines Glaslotes oder eines Metalotes, oder als eine Schweißverbindung realisiert sein.In the case of a cohesive connection, the first body can be connected to the second body by means of atomic and/or molecular forces. Cohesive connections can often be non-detachable connections. In various embodiments, a cohesive connection can be realized, for example, as an adhesive connection, a solder connection, for example a glass solder or a metal solder, or as a welded connection.
Unter dem Begriff „transluzent“ bzw. „transluzente Schicht“ kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für elektromagnetische Strahlung durchlässig ist, beispielsweise für die von einem elektromagnetische Strahlung emittierenden Bauelement emittierte Strahlung, beispielsweise einer oder mehrerer Wellenlängenbereiche, beispielsweise für Licht in einem Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts (beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm). Beispielsweise ist unter dem Begriff „transluzente Schicht“ in verschiedenen Ausführungsbeispielen zu verstehen, dass im Wesentlichen die gesamte in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppelte Strahlungsmenge auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird, wobei ein Teil des Licht hierbei gestreut werden kann.The term “translucent” or “translucent layer” can be understood in various exemplary embodiments to mean that a layer is permeable to electromagnetic radiation, for example to the radiation emitted by a component emitting electromagnetic radiation, for example one or more wavelength ranges, for example to light in a wavelength range of visible light (for example at least in a portion of the wavelength range from 380 nm to 780 nm). For example, the term “translucent layer” in various exemplary embodiments means that essentially the entire amount of radiation coupled into a structure (e.g. a layer) is also coupled out of the structure (e.g. layer), whereby part of the light can be scattered .
Eine optoelektronische Baugruppe kann ein, zwei oder mehr optoelektronische Bauelemente aufweisen. Die optoelektronischen Bauelemente einer optoelektronischen Baugruppe können beispielsweise elektrisch und/oder körperlich miteinander gekoppelt sein. Ein optoelektronisches Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen ein organisches optoelektronisches Bauelement sein, also mindestens eine organische optisch funktionelle Schicht aufweisen. Ein optoelektronisches Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen ein elektromagnetische Strahlung-emittierendes Bauelement oder ein elektromagnetische Strahlung-absorbierendes Bauelement sein. Ein elektromagnetische Strahlung-absorbierendes Bauelement kann beispielsweise eine Solarzelle sein. Ein elektromagnetische Strahlung emittierendes Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen ein elektromagnetische Strahlung emittierendes Halbleiter-Bauelement sein und/oder als eine elektromagnetische Strahlung emittierende Diode, als eine organische elektromagnetische Strahlung emittierende Diode, als ein elektromagnetische Strahlung emittierender Transistor oder als ein organischer elektromagnetische Strahlung emittierender Transistor ausgebildet sein. Die Strahlung kann beispielsweise Licht im sichtbaren Bereich, UV-Licht und/oder Infrarot-Licht sein. In diesem Zusammenhang kann das elektromagnetische Strahlung-emittierende Bauelement beispielsweise als Licht emittierende Diode (light emitting diode, LED) als organische Licht emittierende Diode (organic light emitting diode, OLED), als Licht emittierender Transistor oder als organischer Licht emittierender Transistor ausgebildet sein. Das Licht emittierende Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen Teil einer integrierten Schaltung sein. Weiterhin kann eine Mehrzahl von Licht emittierenden Bauelementen vorgesehen sein, beispielsweise untergebracht in einem gemeinsamen Gehäuse.An optoelectronic assembly can have one, two or more optoelectronic components. The optoelectronic components of an optoelectronic assembly can, for example, be electrically and/or physically coupled to one another. In various exemplary embodiments, an optoelectronic component can be an organic optoelectronic component, i.e. have at least one organic optically functional layer. In various exemplary embodiments, an optoelectronic component can be an electromagnetic radiation-emitting component or an electromagnetic radiation-absorbing component. An electromagnet A typical radiation-absorbing component can be, for example, a solar cell. In various exemplary embodiments, an electromagnetic radiation-emitting component can be a semiconductor component that emits electromagnetic radiation and/or can be designed as a diode that emits electromagnetic radiation, as a diode that emits organic electromagnetic radiation, as a transistor that emits electromagnetic radiation, or as a transistor that emits organic electromagnetic radiation be. The radiation can be, for example, light in the visible range, UV light and/or infrared light. In this context, the electromagnetic radiation-emitting component can be designed, for example, as a light-emitting diode (LED), as an organic light-emitting diode (OLED), as a light-emitting transistor or as an organic light-emitting transistor. In various exemplary embodiments, the light-emitting component can be part of an integrated circuit. Furthermore, a plurality of light-emitting components can be provided, for example accommodated in a common housing.
Die optoelektronische Schichtenstruktur weist eine erste Elektrodenschicht 14 auf, die einen ersten Kontaktabschnitt 16, einen zweiten Kontaktabschnitt 18 und eine erste Elektrode 20 aufweist. Der erste Kontaktabschnitt 16 kann auch als erste Kontaktleiste bezeichnet werden und der zweite Kontaktabschnitt 18 kann auch als zweite Kontaktleiste bezeichnet werden. Der zweite Kontaktabschnitt 18 ist mit der ersten Elektrode 20 der optoelektronischen Schichtenstruktur elektrisch gekoppelt. Die erste Elektrode 20 ist von dem ersten Kontaktabschnitt 16 mittels einer elektrischen Isolierungsbarriere 21 elektrisch isoliert. Über der ersten Elektrode 20 ist eine optisch funktionelle Schichtenstruktur 22, beispielsweis eine organische funktionelle Schichtenstruktur, der optoelektronischen Schichtenstruktur ausgebildet. Die optisch funktionelle Schichtenstruktur 22 kann beispielsweise eine, zwei oder mehr Teilschichten aufweisen, wie weiter unten mit Bezug zu
Über der zweiten Elektrode 23 und teilweise über dem ersten Kontaktabschnitt 16 und teilweise über dem zweiten Kontaktabschnitt 18 ist eine Verkapselungsschicht 24 der optoelektronische Schichtenstruktur ausgebildet, die die optoelektronische Schichtenstruktur verkapselt. In der Verkapselungsschicht 24 sind über dem ersten Kontaktabschnitt 16 eine erste Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 und über dem zweiten Kontaktabschnitt 18 eine zweite Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ausgebildet. In der ersten Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ist ein erster Kontaktbereich 32 freigelegt und in der zweiten Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ist ein zweiter Kontaktbereich 34 freigelegt. Der erste Kontaktbereich 32 dient zum elektrischen Kontaktieren des ersten Kontaktabschnitts 16 und der zweite Kontaktbereich 34 dient zum elektrischen Kontaktieren des zweiten Kontaktabschnitts 18.An
Über der Verkapselungsschicht 24 ist eine Haftmittelschicht 36 ausgebildet. Die Haftmittelschicht 36 weist beispielsweise ein Haftmittel, beispielsweise einen Klebstoff, beispielsweise einen Laminierklebstoff, einen Lack und/oder ein Harz auf. Über der Haftmittelschicht 36 ist ein Abdeckkörper 38 ausgebildet. Die Haftmittelschicht 36 dient zum Befestigen des Abdeckkörpers 38 an der Verkapselungsschicht 24. Der Abdeckkörper 38 weist beispielsweise Glas, Metall und/oder Graphit auf. Beispielsweise kann der Abdeckkörper 38 im Wesentlichen aus Glas gebildet sein und eine dünne Metallschicht, beispielsweise eine Metallfolie, und/oder eine Graphitschicht, beispielsweise ein Graphitlaminat, auf dem Glaskörper aufweisen. Gegebenenfalls kann über der Graphitschicht eine Schutzschicht zum Schützen der Graphitschicht ausgebildet sein. Der Abdeckkörper 38 dient zum Schützen des herkömmlichen optoelektronischen Bauelements 1, beispielsweise vor mechanischen Krafteinwirkungen von außen. Ferner kann der Abdeckkörper 38 zum Verteilen und/oder Abführen von Hitze dienen, die in dem herkömmlichen optoelektronischen Bauelement 1 erzeugt wird. Beispielsweise kann das Glas des Abdeckkörpers 38 als Schutz vor äußeren Einwirkungen dienen und die Metallschicht des Abdeckkörpers 38 kann zum Verteilen und/oder Abführen der beim Betrieb des herkömmlichen optoelektronischen Bauelements 1 entstehenden Wärme dienen.An
Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise strukturiert auf die Verkapselungsschicht 24 aufgebracht werden. Dass die Haftmittelschicht 36 strukturiert auf die Verkapselungsschicht 24 aufgebracht wird, kann beispielsweise bedeuten, dass die Haftmittelschicht 36 schon direkt beim Aufbringen eine vorgegebene Struktur aufweist. Beispielsweise kann die Haftmittelschicht 36 mittels eines Dispens- oder Druckverfahrens strukturiert aufgebracht werden.The
Das herkömmliche optoelektronische Bauelement 1 ist in dem ersten Kontaktbereich 32 und dem zweiten Kontaktbereich 34 empfindlich gegenüber äußeren Einwirkungen, da in diesen Kontaktbereichen 32, 34 kein Abdeckkörper 38 vorgesehen ist.The conventional optoelectronic component 1 is sensitive to external influences in the
Das herkömmliche optoelektronische Bauelement 1 kann beispielsweise aus einem Bauelementverbund vereinzelt werden, indem der Träger 12 entlang seiner in
Das optoelektronische Bauelement 10 weist eine erste Kontaktausnehmung 42 und eine zweite Kontaktausnehmung 44 auf, die sich durch das optoelektronische Bauelement 10 erstrecken. Die Kontaktausnehmungen 42, 44 weisen je einen geweiteten Bereich bzw. eine Weitung auf, in dem bzw. bei der ein lichtes Maß der Kontaktausnehmungen 42, 44 größer ist als außerhalb der Weitungen. Von den Weitungen sind in den Kontaktausnehmungen 42, 44 je eine Hinterschneidung 48 gebildet. Die Hinterschneidungen 48 erstrecken sich in axialer Richtung über einen dem Trägerkörper 12 zugewandten Teil des Abdeckkörpers 38, durch die Haftmittelschicht 36 und durch die Verkapselungsschicht 24. Falls sich die Hinterschneidung 48 nicht durch die Verkapselungsschicht 24 und/oder die Haftmittelschicht 36 erstreckt, so können der erste Kontaktbereich 32 und der zweite Kontaktbereich 34 in den entsprechenden Hinterschneidungen 48 von der Verkapselungsschicht 24 bzw. der Haftmittelschicht 36 bedeckt sein. Im letzteren Fall sind die Hinterschneidungen 48 nahe bei den Kontaktbereichen 32, 34, beispielsweise über der Verkapselungsschicht 24 bzw. der Haftmittelschicht 36 ausgebildet. Die Kontaktausnehmungen 42, 44 können bezüglich ihres Querschnitts senkrecht zu einer länglichen Achse der Kontaktausnehmungen 42, 44 beispielsweise rechteckig, beispielsweise quadratisch und/oder beliebig polygon und/oder rundlich, beispielsweise oval oder kreisförmig, ausgebildet sein. Die Kontaktausnehmungen 42, 44 in dem Trägerkörper 12 können beispielsweise mittels Laserbohrens, mechanischen Bohrens oder nasschemischen Ätzens ausgebildet werden.The
Optional kann der Abdeckkörper 38 im Wesentlichen oder vollständig aus Metall gebildet sein. Alternativ dazu kann der Abdeckkörper 38 jedoch auch wie im Vorhergehenden erläutert ausgebildet sein.Optionally, the
Beim Vereinzeln aus dem Bauelementverbund kann das optoelektronische Bauelement 10 einfach entlang der gemeinsamen, bündigen seitlichen Außenkanten des Abdeckkörpers 38 und des Trägerkörpers 12 geschnitten und/oder gesägt werden. Alternativ dazu können die Außenkanten des Abdeckkörpers 38 und des Trägerkörpers 12 nicht bündig zueinander ausgebildet sein und unabhängig voneinander geschnitten und/oder gesägt werden.When separated from the component assembly, the
Das in
Das Einlegelement 52 ist plattenförmig ausgebildet und kann in Draufsicht beispielsweise rundlich, beispielsweise oval oder kreisrund, oder polygonal, beispielsweise viereckig oder sechseckig, ausgebildet sein. Das Einlegelement 52 ist in der Hinterschneidung 48 angeordnet. Das Einlegelement 52 ist in direktem körperlichem Kontakt mit dem zweiten Kontaktbereich 34. Beispielsweise ist zwischen dem Einlegelement 52 und dem zweiten Kontaktbereich 34 keine Verkapselungsschicht 24 ausgebildet. Alternativ dazu ist zwischen dem Einlegelement 52 und dem zweiten Kontaktbereich 34 die Verkapselungsschicht 24 ausgebildet und zumindest ein Teil des Einlegelements 52 erstreckt sich durch die Verkapselungsschicht 24 hindurch bis hin zu dem zweiten Kontaktbereich 34. Beispielsweise weist das Einlegelement 52 Kontaktelemente 53 auf, die beispielsweise Spitzen, Fächer, Zähne oder Stifte aufweisen und die sich durch die Verkapselungsschicht 24 hindurch erstrecken. Das Einlegelement 52 kann beispielsweise als Beilagscheibe, Fächerscheibe oder als Zahnscheibe ausgebildet sein.The
Das Einlegelement 52 kann in Dickenrichtung, die parallel zu der Achse der zweiten Kontaktausnehmung 44 ist, mit einer Übermaßpassung bezüglich der Hinterschneidung 48 ausgebildet sein. Das bedeutet, dass eine Höhe der Hinterschneidung 48 in Richtung parallel zu der Achse der zweiten Kontaktausnehmung 44 geringfügig kleiner ist als eine maximale Dicke des Einlegelements 52 im Bereich der Hinterschneidung 48. Dies bewirkt, dass das Einlegelement 52 in Richtung hin zu dem zweiten Kontaktbereich 34 gedrückt wird. Dies kann zu einer besonders guten und/oder sicheren elektrischen Kopplung zwischen dem Einlegelement 52 und dem zweiten Kontaktbereich 34 beitragen. Alternativ oder zusätzlich kann dies dazu beitragen, dass zumindest ein Teil des Einlegelements 52 die Verkapselungsschicht 24 bis hin zu dem zweiten Kontaktbereich 34 durchdringt.The
Das Halteelement 54 ist an dem Einlegelement 52 angeordnet, beispielsweise befestigt, oder ist einstückig mit dem Einlegelement 52 ausgebildet. Das Halteelement 54 dient zum Aufnehmen und Halten eines elektrischen Leiters, beispielsweise eines Steckelements 60 (siehe
Das Kopplungselement 50, insbesondere das Einlegelement 52 und das Halteelement 54 sind elektrisch leitfähig ausgebildet. Beispielsweise ist das Kopplungselement 50 von einem elektrisch leitfähigen Material gebildet oder weist dieses zumindest auf. Beispielsweise weist das Kopplungselement 50 ein Metall, beispielsweise Kupfer, Silber und/oder Gold auf.The
In der Hinterschneidung 48 kann ein nicht dargestelltes Kontaktmittel angeordnet sein. Das Kontaktmittel kann beispielsweise eine leitfähige Flüssigkeit, beispielsweise eine Legierung, ein leitfähiger Klebstoff oder eine Leitpaste, aufweisen oder sein. Das Kontaktmittel kann dauerhaft flüssig bleiben, oder zumindest zum Teil flüssig bleiben und teilweise aushärten oder trocknen, oder vollständig aushärten oder trocknen. Das Kontaktmittel kann so ausgebildet sein, dass das teilweise oder vollständige Aushärten bzw. Trocknen während des Verfahrens zum Herstellen des optoelektronischen Bauelements 10, während eines nachfolgenden Lagerungszeitraums des optoelektronischen Bauelements 10 oder anschließend im normalen Betrieb des optoelektronischen Bauelements 10 abgeschlossen ist. Das ausgehärtete bzw. getrocknete Kontaktmittel kann das Kopplungselement 50 fest mit dem zweiten Kontaktbereich 34 und somit fest mit den Kontaktabschnitten 16, 18, beispielsweise stoffschlüssig, verbinden. Falls das Kontaktmittel flüssig ist, so können die Kontaktausnehmungen 32, 34 dicht verschlossen werden, beispielsweise mittels der Steckelemente 60, 65.A contact means (not shown) can be arranged in the undercut 48. The contact means can, for example, have or be a conductive liquid, for example an alloy, a conductive adhesive or a conductive paste. The contact agent can remain permanently liquid, or at least partially remain liquid and partially harden or dry, or completely harden or dry. The contact means can be designed such that the partial or complete curing or drying is completed during the process for producing the
Falls als Kontaktmittel eine flüssige Legierung, beispielsweise eine erste Legierung, verwendet wird so kann die erste Legierung mit den metallischen Materialien des Kopplungselements 50 und des zweiten Kontaktbereichs 34 eine chemische Reaktion eingehen und eine zweite Legierung bilden, die in einen festen Aggregatszustand übergeht und das Kopplungselement 50 und den zweiten Kontaktbereich 34 nicht nur elektrisch koppelt sondern auch fest miteinander verbindet, beispielsweise stoffschlüssig. Dafür kann die erste Legierung einen Schmelzpunkt haben, der niedriger ist als der Schmelzpunkt der zweiten Legierung. Der niedrige Schmelzpunkt der ersten Legierung liegt beispielsweise unter einer Temperatur, ab der Materialien der optisch funktionellen Schichtenstruktur 22, beispielsweise organischer Schichten, geschädigt werden. Dies ermöglicht eine besonders schonende Herstellung des optoelektronischen Bauelements 10, wodurch wiederum die Lebensdauer und die Lagerbeständigkeit erhöht werden können. Die Schmelztemperatur der ersten Legierung kann insbesondere so gewählt sein, dass die erste Legierung unter allen Betriebs- und Lagerbedingungen flüssig ist, und die Schmelztemperatur der zweiten Legierung kann so gewählt sein, dass die zweite Legierung unter allen Betriebs- und Lagerbedingungen fest ist. Das Koppeln des Kopplungselements 50 mit dem zweiten Kontaktbereich 34 mit Hilfe der flüssigen ersten Legierung kann bei einer Temperatur stattfinden, bei der die erste Legierung flüssig ist und die zweite Legierung nicht flüssig ist. Beispielsweise kann die erste Legierung bei Raumtemperatur flüssig sein. Dies ermöglicht, das optoelektronische Bauelement 10 besonders günstig und einfach herzustellen. Insbesondere ist beim Verwenden der ersten Legierung keine Temperierung der Komponenten des optoelektronischen Bauelements 10 nötig. Insbesondere ist eine Verarbeitung unter Umgebungsluft im Reinraum möglich. Beim Kontakt mit den metallischen Materialien des zweiten Kontaktbereichs 34 und des Kopplungselements 50 kann sich dann aus den Metallen der ersten Legierung und den metallischen Materialien des Kopplungselements 50 und des zweiten Kontaktabschnitts 18 die zweite Legierung bilden. Diese geht aufgrund der aktuell herrschenden Temperatur in ihren festen Aggregatszustand über und erstarrt. Die erste Legierung kann vollständig oder nur teilweise zu der zweiten Legierung reagieren. Dabei werden das Kopplungselement 50 und der zweite Kontaktbereich 34, beispielsweise der zweite Kontaktabschnitt 18, der den zweiten Kontaktbereich 34 aufweist, miteinander verbunden.If a liquid alloy, for example a first alloy, is used as the contact means, the first alloy can enter into a chemical reaction with the metallic materials of the
Die erste Legierung kann beispielsweise Gallium, Indium, Zinn, Kupfer, Molybdän, Silber und/oder Bismut aufweisen. Beispielsweise kann die erste Legierung GaInSn oder InBiSn aufweisen. Das erste und/oder zweite metallische Material kann beispielsweis Aluminium, Zink, Chrom, Kupfer, Molybdän, Silber, Gold, Nickel, Gallium, Indium und/oder Zinn aufweisen. Dementsprechend kann die zweite Legierung oder die weitere Legierung beispielsweise Aluminium, Zinn, Magnesium, Silber, Kupfer, Silber, Gold, Molybdän oder Zink aufweisen.The first alloy can contain, for example, gallium, indium, tin, copper, molybdenum, silver and/or bismuth. For example, the first alloy may comprise GaInSn or InBiSn. The first and/or second metallic material may include, for example, aluminum, zinc, chromium, copper, molybdenum, silver, gold, nickel, gallium, indium and/or tin. Accordingly, the second alloy or the further alloy can contain, for example, aluminum, tin, magnesium, silver, copper, silver, gold, molybdenum or zinc.
Zwischen dem zweiten und dem dritten Endabschnitt 67, 69 weist das zweite Steckelement 65 einen Mittelabschnitt auf, der in einem Steckerkörper 71 eingebettet ist. Der Steckerkörper 71 kann beispielsweise von einem elektrisch isolierenden Material gebildet sein oder dieses aufweisen. Der zweite Steckerkörper 71 kann beispielsweise Kunststoff aufweisen. Der zweite Steckerkörper 71 kann beispielsweise in einem Spritzguss- oder einem Formpressverfahren hergestellt sein. Optional kann der Steckerkörper 71 so ausgebildet sein, dass er auf einer Seite die Kontaktausnehmungen 42, 44, beispielsweise dicht, beispielsweise flüssigkeitsdicht und/oder gasdicht, verschließt. Alternativ oder zusätzlich kann an dem Steckerkörper 71 ein Kontaktelement für eine externe Ankopplung der optoelektronischen Bauelemente 10, 70 angeordnet sein, beispielsweise zum Versorgen der optoelektronischen Bauelemente 10, 70 mit Energie und/oder zum Steuern oder Regeln der optoelektronischen Bauelemente 10, 70.Between the second and
Das zweite Steckelement 65 kann beispielsweise dazu beitragen, dass die beiden optoelektronischen Bauelemente 10, 70 auf einfache Weise in Reihe oder parallel geschaltet werden können.The second plug-in
Alternativ oder zusätzlich weist das erste Steckelement 60 eine Wandung 73 auf, die sich in der zweiten Kontaktausnehmung 44 in axialer Richtung erstreckt und an deren Innenseite das Innengewinde ausgebildet ist. An der Außenseite weist die Wandung 73 Widerhaken 75 auf. Die Wandung 73 mit den Widerhaken 75 kann beispielsweise gemäß einem Dübel, insbesondere gemäß einem Spreizdübel, ausgebildet sein.Alternatively or additionally, the first plug-in
Alternativ oder zusätzlich kann das erste Steckelement 60 eine Schnittstellengeometrie 74 aufweisen. Die Schnittstellengeometrie 74 kann beispielsweise zum Anschließen eines Drahtes, eines Kabels und/oder eines Steckers dienen. Die Schnittstellengeometrie 74 kann beispielsweise zum Ausbilden einer Löt-, Klemm- oder Schraubverbindung dienen. Die Schnittstellengeometrie 74 kann beispielsweise gemäß einer Buchse oder einem Sockel, beispielsweise einem GU-10 Sockel, ausgebildet sein.Alternatively or additionally, the first plug-in
Alternativ dazu können sich die Kontaktausnehmungen 42, 44 nicht oder nur teilweise durch die Verkapselungsschicht 24 hindurch erstrecken. Im letzteren Fall kann das Kopplungselement 50 so ausgebildet und angeordnet werden, dass zumindest ein Teil des Kopplungselements 50, beispielsweise die Kontaktelemente 53, die Verkapselungsschicht 24 bis hin zu den Kontaktbereichen 32, 34 durchdringt.Alternatively, the contact recesses 42, 44 may not or only partially extend through the
Das lichte Maß des Zwischenraums, in anderen Worten der Abstand, zwischen den beiden Blattfedern 56 ist an seiner schmalsten Stelle kleiner als ein Außenmaß, beispielsweise ein Außenradius, des ersten Steckelements 60 an seinem Endabschnitt 64. In anderen Worten ist der geringste Abstand zwischen den Blattfedern 56 kleiner als das Außenmaß des ersten Steckelements 60 im Kontaktbereich. Dies bewirkt ein Auseinanderbiegen der Blattfedern 56 infolge des Einschiebens des ersten Steckelements 60. Die dadurch von den Blattfedern 56 auf das erste Steckelement 60 ausgeübte Gegenkraft hält das erste Steckelement 60. Die zueinander geneigten und gebogenen Blattfedern 56 ermöglichen somit ein kraftschlüssiges Verbinden des Kopplungselements 50 mit einem der Steckelemente 60, 65, insbesondere von beiden Seiten aus.The clear dimension of the gap, in other words the distance, between the two
Das Kopplungselement 50 kann bei einem optoelektronischen Bauelement 10 eingesetzt werden, bei dem sich die Kontaktausnehmungen 42, 44 nicht durch das ganze optoelektronische Bauelement 10 hindurch erstrecken, wie beispielsweise bei einem optoelektronischen Bauelement 10 wie mit Bezug zu den
In einem Schritt S2 wird der Trägerkörper 12 bereitgestellt.In a step S2, the
In einem Schritt S4 wird die optoelektronische Schichtenstruktur ausgebildet, insbesondere die erste Elektrode 14, die optisch funktionelle Schichtenstruktur 22, der zweite Elektrode 23 und die Verkapselungsschicht 24.In a step S4, the optoelectronic layer structure is formed, in particular the
In einem Schritt S6 werden die Kontaktausnehmungen 42, 44 und die Weitungen, von denen nachfolgend die Hinterschneidungen 48 gebildet werden, in dem Abdeckkörper 38, der Haftmittelschicht 36, der Verkapselungsschicht 24 und/oder dem Trägerkörper 12 ausgebildet. Die Kontaktausnehmungen 42, 44 und/oder die Weitungen in dem Abdeckkörper 38, der Haftmittelschicht 36, der Verkapselungsschicht 24 bzw. dem Trägerkörper 12 können in einem oder mehreren Teilschritten des Schritts S6 ausgearbeitet werden. Die Kontaktausnehmungen 42, 44 und/oder die Weitungen können beispielsweise mittels Laserbohrens, mechanischen Bohrens oder mittels eines Ätzverfahrens, beispielsweise einem physikalischen und/oder chemischen Ätzverfahren, ausgebildet werden.In a step S6, the contact recesses 42, 44 and the widenings, from which the
In einem Schritt S8 werden das bzw. die Kopplungselemente 50 in den Kontaktausnehmungen 42, 44, insbesondere ganz oder teilweise in deren Weitungen, angeordnet.In a step S8, the coupling element(s) 50 are arranged in the contact recesses 42, 44, in particular completely or partially in their widenings.
In einem Schritt S10 wird der Abdeckkörper 38 über der Schichtenstruktur, beispielsweise über der Verkapselungsschicht 24, beispielsweise mittels Haftmittelschicht 36 angeordnet, und zwar so, dass gegebenenfalls die Kontaktausnehmungen 42, 44 die Kontaktbereiche 32, 44 überlappen und die Weitungen die Hinterschneidungen 48 bilden. Ferner kann mittels des Abdeckkörpers 38 Druck auf die Einlegelemente 52 der Kopplungselemente 50 ausgeübt werden, beispielsweise so dass die Kontaktelemente 53 der Einlegelemente 52 durch die Haftmittelschicht 36 und/oder die Verkapselungsschicht 24 hindurch gedrückt werden.In a step S10, the
In einem Schritt S12 werden das bzw. die ersten und/oder zweiten Steckelemente 60, 65 in die Kontaktausnehmungen 42, 44 eingeführt und mit den entsprechenden Kopplungselementen 50 mechanisch und/oder elektrisch gekoppelt.In a step S12, the first and/or second plug-in
Das optoelektronische Bauelement 10 weist den Träger 12 und einen aktiven Bereich über dem Träger 12 auf. Zwischen dem Träger 12 und dem aktiven Bereich kann eine erste nicht dargestellte Barriereschicht, beispielsweise eine erste Barrieredünnschicht, ausgebildet sein. Der aktive Bereich weist die erste Elektrode 20, die organische funktionelle Schichtenstruktur 22 und die zweite Elektrode 23 auf. Über dem aktiven Bereich ist die Verkapselungsschicht 24 ausgebildet. Die Verkapselungsschicht 24 kann als zweite Barriereschicht, beispielsweise als zweite Barrieredünnschicht, ausgebildet sein. Über dem aktiven Bereich und gegebenenfalls über der Verkapselungsschicht 24, ist die Abdeckung 38 angeordnet. Die Abdeckung 38 kann beispielsweise mittels einer Haftmittelschicht 36 auf der Verkapselungsschicht 24 angeordnet sein.The
Der aktive Bereich ist ein elektrisch und/oder optisch aktiver Bereich. Der aktive Bereich ist beispielsweise der Bereich des optoelektronischen Bauelements 10, in dem elektrischer Strom zum Betrieb des optoelektronischen Bauelements 10 fließt und/oder in dem elektromagnetische Strahlung erzeugt oder absorbiert wird.The active area is an electrically and/or optically active area. The active region is, for example, the region of the
Die organische funktionelle Schichtenstruktur 22 kann ein, zwei oder mehr funktionelle Schichtenstruktur-Einheiten und eine, zwei oder mehr Zwischenschichten zwischen den Schichtenstruktur-Einheiten aufweisen.The organic
Der Träger 12 kann transluzent oder transparent ausgebildet sein. Der Träger 12 dient als Trägerelement für elektronische Elemente oder Schichten, beispielsweise lichtemittierende Elemente. Der Träger 12 kann beispielsweise Glas, Quarz, und/oder ein Halbleitermaterial oder irgendein anderes geeignetes Material aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann der Träger 12 eine Kunststofffolie oder ein Laminat mit einer oder mit mehreren Kunststofffolien aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Kunststoff kann ein oder mehrere Polyolefine aufweisen. Ferner kann der Kunststoff Polyvinylchlorid (PVC), Polystyrol (PS), Polyester und/oder Polycarbonat (PC), Polyethylenterephthalat (PET), Polyethersulfon (PES) und/oder Polyethylennaphthalat (PEN) aufweisen. Der Träger 12 kann ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein, beispielsweise Kupfer, Silber, Gold, Platin, Eisen, beispielsweise eine Metallverbindung, beispielsweise Stahl. Der Träger 12 kann als Metallfolie oder metallbeschichtete Folie ausgebildet sein. Der Träger 12 kann ein Teil einer Spiegelstruktur sein oder diese bilden. Der Träger 12 kann einen mechanisch rigiden Bereich und/oder einen mechanisch flexiblen Bereich aufweisen oder derart ausgebildet sein.The
Die erste Elektrode 20 kann als Anode oder als Kathode ausgebildet sein. Die erste Elektrode 20 kann transluzent oder transparent ausgebildet sein. Die erste Elektrode 20 weist ein elektrisch leitfähiges Material auf, beispielsweise Metall und/oder ein leitfähiges transparentes Oxid (transparent conductive oxide, TCO) oder einen Schichtenstapel mehrerer Schichten, die Metalls oder TCOs aufweisen. Die erste Elektrode 20 kann beispielsweise einen Schichtenstapel einer Kombination einer Schicht eines Metalls auf einer Schicht eines TCOs aufweisen, oder umgekehrt. Ein Beispiel ist eine Silberschicht, die auf einer Indium-Zinn-Oxid-Schicht (ITO) aufgebracht ist (Ag auf ITO) oder ITO-Ag-ITO Multischichten. Als Metall kann beispielsweise Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ca, Sm oder Li, sowie Verbindungen, Kombinationen oder Legierungen dieser Materialien verwendet werden. Transparente leitfähige Oxide sind transparente, leitfähige Materialien, beispielsweise Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid, oder Indium-Zinn-Oxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoff-verbindungen, wie beispielsweise ZnO, SnO2, oder In2O3 gehören auch ternäre Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise AlZnO, Zn2SnO4, CdSnO3, ZnSnO3, MgIn2O4, GaInO3, Zn2In2O5 oder In4Sn3O12 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitfähiger Oxide zu der Gruppe der TCOs.The
Die erste Elektrode 20 kann alternativ oder zusätzlich zu den genannten Materialien aufweisen: Netzwerke aus metallischen Nanodrähten und -teilchen, beispielsweise aus Ag, Netzwerke aus Kohlenstoff-Nanoröhren, Graphen-Teilchen und -Schichten und/oder Netzwerke aus halbleitenden Nanodrähten. Alternativ oder zusätzlich kann die erste Elektrode 20 eine der folgenden Strukturen aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Netzwerk aus metallischen Nanodrähten, beispielsweise aus Ag, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sind, ein Netzwerk aus Kohlenstoff-Nanoröhren, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sind und/oder Graphen-Schichten und Komposite. Ferner kann die erste Elektrode 20 elektrisch leitfähige Polymere oder Übergangsmetalloxide aufweisen.The
Die erste Elektrode 20 kann beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von 10 nm bis 500 nm, beispielsweise von kleiner 25 nm bis 250 nm, beispielsweise von 50 nm bis 100 nm.The
Die erste Elektrode 20 kann einen ersten elektrischen Anschluss aufweisen, an den ein erstes elektrisches Potential anlegbar ist. Das erste elektrische Potential kann von einer Energiequelle (nicht dargestellt) bereitgestellt werden, beispielsweise von einer Stromquelle oder einer Spannungsquelle. Alternativ kann das erste elektrische Potential an den Träger 12 angelegt sein und der ersten Elektrode 20 über den Träger 12 mittelbar zugeführt werden. Das erste elektrische Potential kann beispielsweise das Massepotential oder ein anderes vorgegebenes Bezugspotential sein.The
Die optisch funktionelle Schichtenstruktur 22 kann eine organische funktionelle Schichtenstruktur sein und/oder eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Emitterschicht, eine Elektronentransportschicht und/oder eine Elektroneninjektionsschicht aufweisen.The optically
Die Lochinjektionsschicht kann auf oder über der ersten Elektrode 20 ausgebildet sein. Die Lochinjektionsschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: HAT-CN, Cu(I)pFBz, MoOx, WOx, VOx, ReOx, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Bi(III)pFBz, F16CuPc; NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro); DMFL-TPD N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DMFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); DPFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); Spiro-TAD (2,2',7,7'-Tetrakis(n,n-diphenylamino)-9,9 ‚-spirobifluoren); 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N‘-bis-naphthalen-2-yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor; N,N' bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin; 2,7 Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluoren; Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexan; 2,2',7,7' tetra(N, N-di-tolyl)amino-spiro-bifluoren; und/oder N, N,N',N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidin.The hole injection layer may be formed on or above the
Die Lochinjektionsschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 1000 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 30 nm bis ungefähr 300 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 50 nm bis ungefähr 200 nm.The hole injection layer may have a layer thickness in a range from about 10 nm to about 1000 nm, for example in a range from about 30 nm to about 300 nm, for example in a range from about 50 nm to about 200 nm.
Auf oder über der Lochinjektionsschicht kann die Lochtransportschicht ausgebildet sein. Die Lochtransportschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro); DMFL-TPD N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DMFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); DPFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); Spiro-TAD (2,2',7,7'-Tetrakis(n,n-diphenylamino)-9,9 ‚-spirobifluoren); 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N‘-bis-naphthalen-2-yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor; N,N' bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin; 2,7-Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluoren; Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexan; 2,2',7,7'-tetra(N, N-di-tolyl)amino-spiro-bifluoren; und N, N,N',N' tetra-naphthalen-2-yl-benzidin.The hole transport layer can be formed on or above the hole injection layer. The hole transport layer may include or be formed from one or more of the following materials: NPB (N,N'-bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine); beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine); TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine); Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine); Spiro-NPB (N,N'-bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro); DMFL-TPD N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethylfluorene); DMFL-NPB (N,N'-bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluorene); DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluorene); DPFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluorene); Spiro-TAD (2,2',7,7'-tetrakis(n,n-diphenylamino)-9,9'-spirobifluorene); 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-yl-amino)phenyl]-9H-fluorene; 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-yl-amino)phenyl]-9H-fluorene; 9,9-Bis[4-(N,N'-bis-naphthalen-2-yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor; N,N'bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine; 2,7-Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluorene; 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluorene; 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluorene; Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)phenyl]cyclohexane; 2,2',7,7'-tetra(N,N-di-tolyl)amino-spiro-bifluorene; and N, N,N',N' tetra-naphthalen-2-yl-benzidine.
Die Lochtransportschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.The hole transport layer may have a layer thickness in a range from approximately 5 nm to approximately 50 nm, for example in a range from approximately 10 nm to approximately 30 nm, for example approximately 20 nm.
Auf oder über der Lochtransportschicht können die eine oder mehrere Emitterschichten ausgebildet sein, beispielsweise mit fluoreszierenden und/oder phosphoreszierenden Emittern. Die Emitterschicht kann organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere, organische kleine, nichtpolymere Moleküle („small molecules“) oder eine Kombination dieser Materialien aufweisen. Die Emitterschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: organische oder organometallische Verbindungen, wie Derivate von Polyfluoren, Polythiophen und Polyphenylen (z.B. 2- oder 2,5-substituiertes Poly-p-phenylenvinylen) sowie Metallkomplexe, beispielsweise Iridium-Komplexe wie blau phosphoreszierendes FIrPic (Bis(3,5-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl)-iridium III), grün phosphoreszierendes Ir(ppy)3 (Tris(2-phenylpyridin)iridium III), rot phosphoreszierendes Ru (dtb-bpy)3*2(PF6) (Tris[4,4-di-tert-butyl-(2,2)-bipyridin]ruthenium(III)komplex) sowie blau fluoreszierendes DPAVBi (4,4-Bis[4-(di-p-tolylamino)styryl]biphenyl), grün fluoreszierendes TTPA (9,10-Bis[N,N-di-(p-tolyl)-amino]anthracen) und rot fluoreszierendes DCM2 (4-Dicyanomethylen)-2-methyl-6-julolidyl-9-enyl-4H-pyran) als nichtpolymere Emitter. Solche nichtpolymeren Emitter sind beispielsweise mittels thermischen Verdampfens abscheidbar. Ferner können Polymeremitter eingesetzt werden, welche beispielsweise mittels eines nasschemischen Verfahrens abscheidbar sind, wie beispielsweise einem Aufschleuderverfahren (auch bezeichnet als Spin Coating). Die Emittermaterialien können in geeigneter Weise in einem Matrixmaterial eingebettet sein, beispielsweise einer technischen Keramik oder einem Polymer, beispielsweise einem Epoxid, oder einem Silikon.The one or more emitter layers can be formed on or above the hole transport layer, for example with fluorescent and/or phosphorescent emitters. The emitter layer can have organic polymers, organic oligomers, organic monomers, organic small, non-polymeric molecules (“small molecules”) or a combination of these materials. The emitter layer may comprise or be formed from one or more of the following materials: organic or organometallic compounds, such as derivatives of polyfluorene, polythiophene and polyphenylene (e.g. 2- or 2,5-substituted poly-p-phenylene vinylene) and metal complexes, for example iridium Complexes such as blue phosphorescent FIrPic (bis(3,5-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl)iridium III), green phosphorescent Ir(ppy)3 (tris(2-phenylpyridine)iridium III) , red phosphorescent Ru (dtb-bpy)3*2(PF6) (tris[4,4-di-tert-butyl-(2,2)-bipyridine]ruthenium(III) complex) and blue fluorescent DPAVBi (4,4 -Bis[4-(di-p-tolylamino)styryl]biphenyl), green fluorescent TTPA (9,10-bis[N,N-di-(p-tolyl)-amino]anthracene) and red fluorescent DCM2 (4- Dicyanomethylene)-2-methyl-6-julolidyl-9-enyl-4H-pyran) as non-polymeric emitters. Such non-polymer emitters can be deposited, for example, by means of thermal evaporation. Furthermore, polymer emitters can be used which can be deposited, for example, using a wet chemical process, such as a spin coating process (also referred to as spin coating). The emitter materials can be suitably embedded in a matrix material, for example an technical ceramic or a polymer, for example an epoxy, or a silicone.
Die erste Emitterschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.The first emitter layer may have a layer thickness in a range from approximately 5 nm to approximately 50 nm, for example in a range from approximately 10 nm to approximately 30 nm, for example approximately 20 nm.
Die Emitterschicht kann einfarbig oder verschiedenfarbig (zum Beispiel blau und gelb oder blau, grün und rot) emittierende Emittermaterialien aufweisen. Alternativ kann die Emitterschicht mehrere Teilschichten aufweisen, die Licht unterschiedlicher Farbe emittieren. Mittels eines Mischens der verschiedenen Farben kann die Emission von Licht mit einem weißen Farbeindruck resultieren. Alternativ kann auch vorgesehen sein, im Strahlengang der durch diese Schichten erzeugten Primäremission ein Konvertermaterial anzuordnen, das die Primärstrahlung zumindest teilweise absorbiert und eine Sekundärstrahlung anderer Wellenlänge emittiert, so dass sich aus einer (noch nicht weißen) Primärstrahlung durch die Kombination von primärer Strahlung und sekundärer Strahlung ein weißer Farbeindruck ergibt.The emitter layer can have emitter materials that emit in one color or in different colors (for example blue and yellow or blue, green and red). Alternatively, the emitter layer can have several sub-layers that emit light of different colors. By mixing the different colors, the emission of light can result in a white color impression. Alternatively, it can also be provided to arrange a converter material in the beam path of the primary emission generated by these layers, which at least partially absorbs the primary radiation and emits a secondary radiation of a different wavelength, so that a (not yet white) primary radiation is obtained through the combination of primary radiation and secondary Radiation gives a white color impression.
Auf oder über der Emitterschicht kann die Elektronentransportschicht ausgebildet sein, beispielsweise abgeschieden sein. Die Elektronentransportschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NET-18; 2,2',2" -(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole,2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP); 8-Hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(Naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole; 1,3-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium; 6,6'-Bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracene; 2,7-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluorene; 1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; 2,9-Bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; Tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane; 1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthrolin; Phenyl-dipyrenylphosphine oxide; Naphtahlintetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide; Perylentetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide; und Stoffen basierend auf Silolen mit einer Silacyclopentadieneinheit.The electron transport layer can be formed, for example deposited, on or above the emitter layer. The electron transport layer may include or be formed from one or more of the following materials: NET-18; 2,2',2" -(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1 ,3,4-oxadiazole,2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP); 8-hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl- 4H-1,2,4-triazole; 1,3-bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 4,7-diphenyl -1,10-phenanthroline (BPhen); 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-( phenylphenolato)aluminum; 6,6'-bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di (naphthalen-2-yl)-anthracene; 2,7-bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluorene; 1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10- phenanthroline; 2,9-bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane; 1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthroline; phenyl-dipyrenylphosphine oxide; Naphthalinetetracarboxylic acid dianhydride or its imides; Perylenetetracarboxylic acid dianhydride or its imides; and materials based on silos with a silacyclopentadiene unit.
Die Elektronentransportschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.The electron transport layer may have a layer thickness in a range from approximately 5 nm to approximately 50 nm, for example in a range from approximately 10 nm to approximately 30 nm, for example approximately 20 nm.
Auf oder über der Elektronentransportschicht kann die Elektroneninjektionsschicht ausgebildet sein. Die Elektroneninjektionsschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NDN-26, MgAg, Cs2CO3, Cs3PO4, Na, Ca, K, Mg, Cs, Li, LiF; 2,2',2" -(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole,2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP); 8-Hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(Naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole; 1,3-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium; 6,6'-Bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracene; 2,7-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluorene; 1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; 2,9-Bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; Tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane; 1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthroline; Phenyl-dipyrenylphosphine oxide; Naphtahlintetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide; Perylentetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide; und Stoffen basierend auf Silolen mit einer Silacyclopentadieneinheit.The electron injection layer can be formed on or above the electron transport layer. The electron injection layer may include or be formed from one or more of the following materials: NDN-26, MgAg, Cs2CO3, Cs3PO4, Na, Ca, K, Mg, Cs, Li, LiF; 2,2',2"-(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1 ,3,4-oxadiazole,2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP); 8-hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl- 4H-1,2,4-triazole; 1,3-bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 4,7-diphenyl -1,10-phenanthroline (BPhen); 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-( phenylphenolato)alu minium; 6,6'-Bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl;2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracene;2,7-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluorene;1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene;2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline;2,9-Bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline;Tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane;1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthroline; Phenyl-dipyrenylphosphine oxide; Naphthalinetetracarboxylic acid dianhydride or its imides; Perylenetetracarboxylic acid dianhydride or its imides; and materials based on silos with a silacyclopentadiene unit.
Die Elektroneninjektionsschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 200 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 20 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise ungefähr 30 nm.The electron injection layer may have a layer thickness in a range from approximately 5 nm to approximately 200 nm, for example in a range from approximately 20 nm to approximately 50 nm, for example approximately 30 nm.
Bei einer organischen funktionellen Schichtenstruktur mit zwei oder mehr organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten können entsprechende Zwischenschichten zwischen den organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten ausgebildet sein. Die organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten können jeweils einzeln für sich gemäß einer Ausgestaltung der im Vorhergehenden erläuterten optisch funktionellen Schichtenstruktur 22 ausgebildet sein. Die Zwischenschicht kann als eine Zwischenelektrode ausgebildet sein. Die Zwischenelektrode kann mit einer externen Spannungsquelle elektrisch verbunden sein. Die externe Spannungsquelle kann an der Zwischenelektrode beispielsweise ein drittes elektrisches Potential bereitstellen. Die Zwischenelektrode kann jedoch auch ein keinen externen elektrischen Anschluss aufweisen, beispielsweise indem die Zwischenelektrode ein schwebendes elektrisches Potential aufweist.In the case of an organic functional layer structure with two or more organic functional layer structure units, corresponding intermediate layers can be formed between the organic functional layer structure units. The organic functional layer structure units can each be formed individually according to an embodiment of the optically
Die organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit kann beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich beispielsweise von 10 nm bis 3 um, beispielsweise von 50 nm bis 1 um, beispielsweise von 100 nm bis 300 nm.The organic functional layer structure unit can, for example, have a layer thickness in a range, for example, from 10 nm to 3 μm, for example from 50 nm to 1 μm, for example from 100 nm to 300 nm.
Das optoelektronische Bauelement 10 kann optional weitere funktionale Schichten aufweisen, beispielsweise angeordnet auf oder über der einen oder mehreren Emitterschichten oder auf oder über der Elektronentransportschicht. Die weiteren funktionalen Schichten können beispielsweise interne oder extern Ein-/Auskoppelstrukturen sein, die die Funktionalität und damit die Effizienz des optoelektronischen Bauelements 10 weiter verbessern können.The
Die zweite Elektrode 23 kann gemäß einer der Ausgestaltungen der ersten Elektrode 20 ausgebildet sein, wobei die erste Elektrode 20 und die zweite Elektrode 23 gleich oder unterschiedlich ausgebildet sein können. Die zweite Elektrode 23 kann als Anode oder als Kathode ausgebildet sein. Die zweite Elektrode 23 kann einen zweiten elektrischen Anschluss aufweisen, an den ein zweites elektrisches Potential anlegbar ist. Das zweite elektrische Potential kann von der gleichen oder einer anderen Energiequelle bereitgestellt werden wie das erste elektrische Potential. Das zweite elektrische Potential kann unterschiedlich zu dem ersten elektrischen Potential sein. Das zweite elektrische Potential kann beispielsweise einen Wert aufweisen derart, dass die Differenz zu dem ersten elektrischen Potential einen Wert in einem Bereich von ungefähr 1,5 V bis ungefähr 20 V aufweist, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 2,5 V bis ungefähr 15 V, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 3 V bis ungefähr 12 V.The
Die Verkapselungsschicht 24 kann auch als Dünnschichtverkapselung bezeichnet werden. Die Verkapselungsschicht 24 kann als transluzente oder transparente Schicht ausgebildet sein. Die Verkapselungsschicht 24 bildet eine Barriere gegenüber chemischen Verunreinigungen bzw. atmosphärischen Stoffen, insbesondere gegenüber Wasser (Feuchtigkeit) und Sauerstoff. In anderen Worten ist die Verkapselungsschicht 24 derart ausgebildet, dass sie von Stoffen, die das optoelektronische Bauelement schädigen können, beispielsweise Wasser, Sauerstoff oder Lösemittel, nicht oder höchstens zu sehr geringen Anteilen durchdrungen werden kann. Die Verkapselungsschicht 24 kann als eine einzelne Schicht, ein Schichtstapel oder eine Schichtstruktur ausgebildet sein.The
Die Verkapselungsschicht 24 kann aufweisen oder daraus gebildet sein: Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid Lanthaniumoxid, Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid, Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminium-dotiertes Zinkoxid, Poly(p-phenylenterephthalamid), Nylon 66, sowie Mischungen und Legierungen derselben.The
Die Verkapselungsschicht 24 kann eine Schichtdicke von ungefähr 0,1 nm (eine Atomlage) bis ungefähr 1000 nm aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von ungefähr 10 nm bis ungefähr 100 nm, beispielsweise ungefähr 40 nm.The
Die Verkapselungsschicht 24 kann ein hochbrechendes Material aufweisen, beispielsweise ein oder mehrere Material(ien) mit einem hohen Brechungsindex, beispielsweise mit einem Brechungsindex von mindestens 2.The
Gegebenenfalls kann die erste Barriereschicht auf dem Träger 12 korrespondierend zu einer Ausgestaltung der Verkapselungsschicht 24 ausgebildet sein.If necessary, the first barrier layer on the
Die Verkapselungsschicht 24 kann beispielsweise mittels eines geeigneten Abscheideverfahrens gebildet werden, z.B. mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens (Atomic Layer Deposition (ALD)), z.B. eines plasmaunterstützten Atomlagenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD)) oder eines plasmalosen Atomlageabscheideverfahrens (Plasma-less Atomic Layer Deposition (PLALD)), oder mittels eines chemischen Gasphasenabscheideverfahrens (Chemical Vapor Deposition (CVD)), z.B. eines plasmaunterstützten Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)) oder eines plasmalosen Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma-less Chemical Vapor Deposition (PLCVD)), oder alternativ mittels anderer geeigneter Abscheideverfahren.The
Gegebenenfalls kann eine Ein- oder Auskoppelschicht beispielsweise als externe Folie (nicht dargestellt) auf dem Träger 12 oder als interne Auskoppelschicht (nicht dargestellt) im Schichtenquerschnitt des optoelektronischen Bauelements 10 ausgebildet sein. Die Ein-/Auskoppelschicht kann eine Matrix und darin verteilt Streuzentren aufweisen, wobei der mittlere Brechungsindex der Ein-/Auskoppelschicht größer ist als der mittlere Brechungsindex der Schicht, aus der die elektromagnetische Strahlung bereitgestellt wird. Ferner können zusätzlich eine oder mehrere Entspiegelungsschichten ausgebildet sein.If necessary, an input or output layer can be formed, for example, as an external film (not shown) on the
Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise Klebstoff und/oder Lack aufweisen, mittels dessen die Abdeckung 38 beispielsweise auf der Verkapselungsschicht 24 angeordnet, beispielsweise aufgeklebt, ist. Die Haftmittelschicht 36 kann transparent oder transluzent ausgebildet ein. Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise Partikel aufweisen, die elektromagnetische Strahlung streuen, beispielsweise lichtstreuende Partikel. Dadurch kann die Haftmittelschicht 36 als Streuschicht wirken und zu einer Verbesserung des Farbwinkelverzugs und der Auskoppeleffizienz führen können.The
Als lichtstreuende Partikel können dielektrische Streupartikel vorgesehen sein, beispielsweise aus einem Metalloxid, beispielsweise Siliziumoxid (SiO2), Zinkoxid (ZnO), Zirkoniumoxid (ZrO2), Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO), Galliumoxid (Ga2Ox) Aluminiumoxid, oder Titanoxid. Auch andere Partikel können geeignet sein, sofern sie einen Brechungsindex haben, der von dem effektiven Brechungsindex der Matrix der Haftmittelschicht 36 verschieden ist, beispielsweise Luftblasen, Acrylat, oder Glashohlkugeln. Ferner können beispielsweise metallische Nanopartikel, Metalle wie Gold, Silber, Eisen-Nanopartikel, oder dergleichen als lichtstreuende Partikel vorgesehen sein.Dielectric scattering particles can be provided as light-scattering particles, for example made of a metal oxide, for example silicon oxide (SiO2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO2), indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), gallium oxide ( Ga2Ox) aluminum oxide, or titanium oxide. Other particles may also be suitable, provided they have a refractive index that is different from the effective refractive index of the matrix of the
Die Haftmittelschicht 36 kann eine Schichtdicke von größer als 1 um aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren pm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann der Klebstoff ein Laminations-Klebstoff sein.The
Die Haftmittelschicht 36 kann einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als der Brechungsindex der Abdeckung 38. Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise einen niedrigbrechenden Klebstoff aufweisen, wie beispielsweise ein Acrylat, der einen Brechungsindex von ungefähr 1,3 aufweist. Die Haftmittelschicht 36 kann jedoch auch einen hochbrechenden Klebstoff aufweisen der beispielsweise hochbrechende, nichtstreuende Partikel aufweist und einen schichtdickengemittelten Brechungsindex aufweist, der ungefähr dem mittleren Brechungsindex der organisch funktionellen Schichtenstruktur 22 entspricht, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 2,0.The
Auf oder über dem aktiven Bereich kann eine sogenannte Getter-Schicht oder Getter-Struktur, d.h. eine lateral strukturierte Getter-Schicht, (nicht dargestellt) angeordnet sein. Die Getter-Schicht kann transluzent, transparent oder opak ausgebildet sein. Die Getter-Schicht kann ein Material aufweisen oder daraus gebildet sein, das Stoffe, die schädlich für den aktiven Bereich sind, absorbiert und bindet. Eine Getter-Schicht kann beispielsweise ein Zeolith-Derivat aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Getter-Schicht kann eine Schichtdicke von größer als ungefähr 1 um aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren pm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Getter-Schicht einen Laminations-Klebstoff aufweisen oder in der Haftmittelschicht 36 eingebettet sein.A so-called getter layer or getter structure, i.e. a laterally structured getter layer (not shown), can be arranged on or above the active area. The getter layer can be translucent, transparent or opaque. The getter layer may include or be formed from a material that absorbs and binds substances that are harmful to the active area. A getter layer can, for example, have a zeolite derivative or be formed from it. The getter layer may have a layer thickness of greater than approximately 1 μm, for example a layer thickness of several μm. In various embodiments, the getter layer may include a lamination adhesive or be embedded in the
Die Abdeckung 38 kann beispielsweise von einer Glasabdeckung, einer Metallfolie oder einer abgedichteten Kunststofffolien-Abdeckung gebildet sein. Die Abdeckung 38 kann beispielsweise mittels einer Fritten-Verbindung (engl. glass frit bonding/glass soldering/seal glass bonding) mittels eines herkömmlichen Glaslotes in den geometrischen Randbereichen des organischen optoelektronischen Bauelements 10 auf der Verkapselungsschicht 24 bzw. dem aktiven Bereich angeordnet sein. Die Abdeckung 38 kann beispielsweise einen Brechungsindex (beispielsweise bei einer Wellenlänge von 633 nm) von 1,55 aufweisen.The
Beispielsweise kann das optoelektronische Bauelement 10 mehr oder weniger Kontaktausnehmungen 42, 44 aufweisen. Ferner können alle gezeigten optoelektronischen Bauelemente 10 mehr oder weniger Schichten aufweisen. Beispielsweise können diverse optische funktionelle Schichten ausgebildet sein, die beispielsweise die Effizienz des optoelektronischen Bauelements 10 verbessern oder das Abstrahlverhalten des optoelektronischen Bauelements 10 beeinflussen. Beispielsweise können Auskoppelschichten, Spiegelschichten, Antireflexschichten und/oder Streuschichten ausgebildet sein. Ferner können die Kopplungselemente 50 und/oder die Steckelemente 60, 65 bezüglich ihrer Form und Anzahl unterschiedlich sein. Ferner können die Ausführungsbeispiele kombiniert werden. Beispielsweise kann jedes der gezeigten Kopplungselemente 50 in einer sich vollständig oder nur teilweise durch das optoelektronische Bauelement erstreckenden Kontaktausnehmung angeordnet sein. Ferner kann jedes der gezeigten Kopplungselemente 50 die Wandung 73 mit den Widerhaken 75 aufweisen. Ferner können die Kopplungselemente 50 mehr oder weniger Kontaktelemente 53 aufweisen.For example, the
Claims (11)
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