DE102012202715A1 - Vacuum processing system for treatment of substrates, has pressure separation device with separation element, which is extended in direction transverse to transport direction of substrates, by extending formation of gap on substrate - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation gemäß Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben. The invention relates to a vacuum process system with a device for pressure separation according to the preamble of
In Vakuumprozessanlagen, insbesondere sogenannten Durchlaufanlagen, bei denen Substrate, beispielsweise plattenförmige Substrate wie Glasscheiben oder dergleichen mittels einer Transporteinrichtung in einer horizontalen Transportebene von einem ersten Ende zu einem zweiten Ende der Vakuumkammer bewegt werden, gibt es oftmals verschiedene Prozesszonen, in denen unterschiedliche Bedingungen aufrechterhalten werden müssen oder/und der Austausch von Bestandteilen der jeweils herrschenden Atmosphären zwischen unterschiedlichen Prozesszonen verhindert werden muss. Hierzu können zwischen verschiedenen Prozesszonen geeignete Maßnahmen, wie zwischengeschaltete Pumpsektionen, Transferkammern oder/und Druckseparationselemente vorgesehen sein. In vacuum processing plants, in particular so-called continuous plants, in which substrates, for example plate-shaped substrates such as glass panes or the like are moved by means of a transport device in a horizontal transport plane from a first end to a second end of the vacuum chamber, there are often different process zones in which different conditions are maintained or / and the replacement of components of the prevailing atmospheres between different process zones must be prevented. For this purpose, suitable measures, such as intermediate pumping sections, transfer chambers or / and pressure separation elements can be provided between different process zones.
Solche Druckseparationselemente können beispielsweise senkrechte Wände sein, die quer zur Transportrichtung der Substrate verlaufen und sich von der oberen Kammerwand der Vakuumkammer unter Bildung eines Spalts auf die Oberseite der Substrate zu erstrecken. Andere Beispiele von Druckseparationselementen sind horizontal, d.h. parallel zur Transportebene der Substrate verlaufend angebrachte Wände, die ebenfalls nur einen möglichst geringen Spalt über den Substraten bilden, um unerwünschten Gasfluss in der Transportrichtung der Substrate so stark wie möglich zu behindern. Schließlich sind auch Druckseparationselemente bekannt, die eine Kombination aus senkrechten und waagerechten Wänden darstellen, so dass separat evakuierbare bereiche entlang der Transportrichtung der Substrate entstehen. Such pressure separation elements may be, for example, vertical walls that are transverse to the transport direction of the substrates and extend from the upper chamber wall of the vacuum chamber to form a gap on top of the substrates. Other examples of pressure separation elements are horizontal, i. Parallel to the transport plane of the substrates extending walls mounted, which also form only the smallest possible gap over the substrates in order to hinder unwanted gas flow in the transport direction of the substrates as much as possible. Finally, pressure separation elements are known which represent a combination of vertical and horizontal walls, so that separately evacuatable areas along the transport direction of the substrates arise.
Alle bekannten Druckseparationselemente sind starr, d.h. ihre Position innerhalb der Vakuumkammer ist unveränderlich, so dass der verbleibende Spalt für den Transport der Substrate fest definiert ist. Beispiele für derartige Vakuumprozessanlagen sind in
Aus
Um eine möglichst wirkungsvolle Gas- und Druckseparation in derartigen Vakuumprozessanlagen auch für den Fall zu ermöglichen, dass Substrate unterschiedlicher Dicke behandelt werden sollen oder solche Substrate, die eine variable Dicke aufweisen, wird in
Alle beschriebenen Konstruktionsprinzipien sind jedoch nur sehr eingeschränkt einsetzbar bei der Verwendung von Substratträgern, z.B. sogenannten Rahmencarriern zur Aufnahme von Substraten. Diese Carrier sind konstruktiv bedingt meist erheblich dicker als das darin aufgenommene Substrat und der Spalt zwischen Einbauten und Substrat bzw. Carrier ist entsprechend der Carrier-Substrat-Kontur mehr oder weniger groß. Damit sind mit dieser Konstruktion häufig technologisch erforderliche Gastrennungsfaktoren nicht realisierbar. However, all described design principles are very limited in the use of substrate carriers, e.g. so-called Rahmencarriern for receiving substrates. Due to their design, these carriers are usually considerably thicker than the substrate accommodated therein, and the gap between internals and substrate or carrier is more or less large in accordance with the carrier-substrate contour. Thus, with this construction often technologically required gas separation factors are not feasible.
Eine Aufgabe der Erfindung besteht daher darin, eine verbesserte Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation anzugeben, bei der auch bei der Verwendung von Substratträgern hohe Gastrennungsfaktoren zwischen aufeinanderfolgenden Abschnitten der Anlage erreichbar sind. Dies betrifft insbesondere sogenannte Vertikalanlagen, bei denen plattenförmige Substrate wie Glasscheiben und dergleichen in stehender Position durch die Vakuumkammer bewegt werden. Gleichwohl ist die nachfolgend beschriebene Lösung selbstverständlich auch auf horizontale Anlagen, bei denen plattenförmige Substrate wie Glasscheiben und dergleichen in stehender Position durch die Vakuumkammer bewegt werden, mit gleichem Erfolg anwendbar. An object of the invention is therefore to provide an improved vacuum process system with a device for pressure separation, in which high gas separation factors between successive sections of the system can be achieved even when using substrate carriers. This relates in particular to so-called vertical installations in which plate-shaped substrates such as glass panes and the like are moved in a standing position through the vacuum chamber. Of course, the solution described below is of course also applicable to horizontal systems in which plate-shaped substrates such as glass panes and the like are moved in a standing position through the vacuum chamber, with equal success.
Zur Lösung der beschriebenen Aufgabe wird eine Vakuumprozessanlage zur Behandlung von Substraten vorgeschlagen, die eine Vakuumkammer mit einer darin angeordneten Transporteinrichtung für den Transport der Substrate durch die Vakuumkammer in einer Transportrichtung und mit mindestens einer quer zur Transportrichtung der Substrate verlaufenden Druckseparationseinrichtung umfasst, welche sich unter Bildung eines Spalts auf das Substrat zu erstreckt, wobei die Druckseparationseinrichtung mindestens ein dünnwandiges, flächiges, flexibles Druckseparationselement umfasst. To achieve the object described, a vacuum process system for the treatment of substrates is proposed which a vacuum chamber comprising a transport device arranged therein for transporting the substrates through the vacuum chamber in a transport direction and with at least one pressure separation device extending transversely to the transport direction of the substrates, which extends onto the substrate to form a gap, the pressure separation device comprising at least one thin-walled, planar, includes flexible pressure separation element.
Dieses Druckseparationselement wirkt – gegebenenfalls im Zusammenwirken mit anderen Druckseparationselementen – als Strömungswiderstand, der einerseits eine verbesserte Gasseparation zwischen aufeinanderfolgenden Funktionsbereichen und dadurch andererseits eine verkürzte Bauweise des beschriebenen Anlagentyps ermöglicht. This pressure separation element acts - if appropriate in cooperation with other pressure separation elements - as a flow resistance, which on the one hand enables improved gas separation between successive functional areas and, on the other hand, a shortened construction of the described type of installation.
Hierzu können beispielsweise in der Anlage abwechselnd Beschichtungsbereiche und Gasseparationsbereiche vorgesehen werden, wobei die Aufgabe der Gasseparationsbereiche die Atmosphärentrennung zwischen zwei Beschichtungsbereichen ist. Die Grenze zwischen Gasseparationsbereich und Beschichtungsbereich wird durch das beschriebene Druckseparationselement gebildet, das einen Strömungswiderstand für Gasteilchen bildet. Je effektiver dieses Druckseparationselement wirkt, d.h. je höher der durch das Druckseparationselement erzeugte Strömungswiderstand ist, umso kürzer können die Gasseparationsbereiche und damit die Baulänge der Anlage insgesamt gehalten werden. For this purpose, coating areas and gas separation areas can be alternately provided, for example, in the installation, the task of the gas separation areas being the separation of the atmospheres between two coating areas. The boundary between gas separation area and coating area is formed by the described pressure separation element, which forms a flow resistance for gas particles. The more effective this pressure separation element acts, i. the higher the flow resistance generated by the pressure separation element, the shorter the gas separation areas and thus the overall length of the system can be kept overall.
In einer Ausgestaltung der Erfindung sind quer zur Transportrichtung mehrere Druckseparationselemente nebeneinander angeordnet, d.h. anstelle eines einzigen, sich beispielsweise über die gesamte Substratbreite erstreckenden Druckseparationselements sind über die Substratbreite mehrere kleinere Druckseparationselemente nebeneinander angeordnet. Diese kleineren Druckseparationselemente können dabei mit ihren seitlichen Kanten aneinanderstoßen und dadurch mit ihren freien, dem Substrat zugewandten Kanten gemeinsam über die gesamte Substratbreite einen Spalt bilden. In einer Weiterbildung überlappen unmittelbar nebeneinander angeordnete Druckseparationselemente einander paarweise zumindest teilweise. In one embodiment of the invention, a plurality of pressure separation elements are arranged side by side transversely to the transport direction, i. instead of a single, for example, over the entire width of the substrate extending pressure separation element several smaller pressure separation elements are arranged side by side over the substrate width. These smaller pressure separation elements can abut each other with their lateral edges and thereby form a gap with their free, the substrate facing edges together over the entire width of the substrate. In a development overlap directly juxtaposed pressure separation elements each other in pairs at least partially.
In einer anderen Ausgestaltung der Erfindung ist das Druckseparationselement oder sind die Druckseparationselemente an einer Seite an einem starren Druckseparationselement befestigt und an der anderen Seite dem Substrat zugewandt. Das bedeutet, dass wie bei bekannten Anlagen ein starres, fest angeordnetes Druckseparationselement vorgesehen ist, dessen freie, dem Substrat zugewandte Kante jedoch einen relativ großen Abstand zur Substratoberfläche aufweisen kann. An dieser freien Kante des fest angeordneten Druckseparationselements können dann ein einzelnes oder mehrere nebeneinander, ggf. zumindest teilweise einander überlappend angeordnete kleinere, flexible Druckseparationselemente angebracht sein, die sich auf das Substrat zu erstrecken und dadurch einen sehr schmalen Spalt mit der Substratoberfläche bilden. In another embodiment of the invention, the pressure separation element or the pressure separation elements are fastened on one side to a rigid pressure separation element and on the other side facing the substrate. This means that, as in known systems, a rigid, fixedly arranged pressure separation element is provided, whose free, edge facing the substrate, however, may have a relatively large distance from the substrate surface. At this free edge of the fixed Druckseparationselements then a single or more juxtaposed, possibly at least partially overlapping arranged smaller, flexible Druckseparationselemente be attached, which extend to the substrate and thereby form a very narrow gap with the substrate surface.
In einer Ausgestaltung der Erfindung ist das Druckseparationselement oder sind die Druckseparationselemente aus einem flächigen Gestrick, Gewirk, Gewebe oder Geflecht aus Metallfasern oder Metalldrähten gefertigt. Die genannten Materialien sind bei den in Vakuumprozessanlagen üblicherweise herrschenden Temperaturen hitzebeständig und gleichzeitig flexibel, kostengünstig herstellbar und leicht konfektionierbar. Darüber hinaus sind diese Materialien sehr gut zum Auffangen von Streudampfteilchen geeignet. In one embodiment of the invention, the pressure separation element or the pressure separation elements made of a sheet-like knitted fabric, knitted fabric or fabric made of metal fibers or metal wires. The materials mentioned are heat resistant at the temperatures usually prevailing in vacuum processing plants and at the same time flexible, inexpensive to produce and easy to assemble. In addition, these materials are very well suited for collecting scattered vapor particles.
In einer Ausgestaltung der Erfindung bestehen die Metallfasern oder Metalldrähte aus Edelstahl. Diese weisen zudem den Vorteil auf, dass sie auch bei aggressiven Prozessatmosphären weitgehend inert sind und dadurch den ablaufenden Vakuumprozess nicht beeinträchtigen. In one embodiment of the invention, the metal fibers or metal wires made of stainless steel. These also have the advantage that they are largely inert even in aggressive process atmospheres and thus do not affect the running vacuum process.
Die vorgeschlagene technische Lösung ist dadurch gekennzeichnet, dass die bisher verwendeten flächigen starren, fest oder schwenkbar angeordneten Druckseparationselemente zumindest teilweise ersetzt werden durch dünnwandige, flexible, flächige Druckseparationselemente, die senkrecht, d.h. unter einem rechten Winkel, oder unter einem davon abweichenden Winkel zur Transportrichtung angebracht sind. The proposed technical solution is characterized in that the previously used flat rigid, fixed or pivotally arranged pressure separation elements are at least partially replaced by thin-walled, flexible, flat Druckseparationselemente that vertically, i. are mounted at a right angle, or at a different angle to the transport direction.
Bei Verwendung mehrerer nebeneinander angeordneter Druckseparationselemente, die beispielsweise streifenförmig sein können, können diese beispielsweise spaltfrei aneinander stoßen oder einander zumindest teilweise überlappend auf einer oder auf beiden Seiten oder allseitig des Substrates angeordnet sein. Sinnvollerweise werden die Trennelemente so montiert, dass die Kanten der Elemente einen minimal möglichen Abstand zur der zu beschichtenden Seite des Substrates bilden wobei der Carrier auch berührt werden kann, weil seine Oberfläche, anders als die Oberfläche des Substrats, nicht berührungsempfindlich ist. When using a plurality of juxtaposed pressure separation elements, which may be strip-shaped, for example, they may, for example, butt against each other or at least partially overlapping on one or both sides or on all sides of the substrate. It makes sense that the separating elements are mounted so that the edges of the elements form a minimum possible distance from the side of the substrate to be coated, whereby the carrier can also be touched because its surface, unlike the surface of the substrate, is not touch-sensitive.
Auf der von der Beschichtungsquelle abgewandten Seite des Substrats kann daher eine Berührung von Druckseparationselement und Carrier bzw. Substrat stattfinden. On the side of the substrate facing away from the coating source, therefore, contact between the printing separation element and the carrier or substrate can take place.
Es ist auch eine mehrreihige Anordnung dieser Druckseparationseinrichtungen realisierbar. Damit ist eine Anordnung mehrerer Druckseparationseinrichtungen der genannten Art gemeint, die mit geringem Abstand parallel zueinander verlaufen, d.h. die sämtlich gemeinsam zwischen zwei aufeinanderfolgenden Abschnitten der Vakuumprozessanlage angeordnet sind, zwischen welchen die Gastrennung erfolgen soll. Dadurch kann die Gastrennung zwischen den aufeinanderfolgenden Abschnitten nochmals deutlich verbessert werden. It is also a multi-row arrangement of pressure separation devices feasible. This means an arrangement of several pressure separation devices of the type mentioned, which run parallel to each other at a small distance, ie all of which are arranged in common between two successive sections of the vacuum process plant, between which the gas separation is to take place. As a result, the gas separation between the successive sections can be significantly improved again.
Bei einem in einem Carrier aufgenommenen Substrat mit einer ebenen Seite, z.B. Unter- oder Rückseite, ist auch eine Kombination der bekannten Lösung mit starren flächigen Druckseparationseinrichtungen auf der ebenen Seite und der neuen Lösung, d.h. einer Druckseparationseinrichtung mit einem oder mehreren flexiblen Druckseparationselementen, auf der gegenüberliegenden Seite denkbar. In a substrate received in a carrier having a flat side, e.g. Bottom or back, is also a combination of the known solution with rigid planar pressure separation devices on the flat side and the new solution, i. a pressure separation device with one or more flexible pressure separation elements, conceivable on the opposite side.
Die vorgeschlagene Druckseparationseinrichtung ist für vertikale oder unter einem bestimmten Winkel angeordnete Vakuumprozessanlagen wie auch für horizontale Vakuumprozessanlagen nutzbar. The proposed pressure separation device can be used for vertical or at a certain angle arranged vacuum process equipment as well as for horizontal vacuum processing equipment.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und einer zugehörigen Zeichnung näher erläutert. Dabei zeigen The invention will be explained in more detail with reference to an embodiment and an accompanying drawing. Show
In der dargestellten Vakuumprozessanlage werden in Substratträgern
Es versteht sich von selbst, dass die in
In der ersten Kammerhälfte
In der Transportrichtung der Substrate gesehen ist in der ersten, in den
In der zweiten, in den
Der Substratträger
Der Substratträger
In der zweiten Kammerhälfte
An der dem Substrat
Die flexiblen zweiten Druckseparationselemente
Die Druckseparationselemente
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1 1
- Kammerhälfte chamber half
- 11 11
- Grundgestell base frame
- 12 12
- Rolle role
- 13 13
- Schiene rail
- 2 2
- Substratbehandlungseinrichtung Substrate treatment facility
- 21 21
- Versorgungsendblock Supply SendBlock
- 22 22
- Rohrtarget tube target
- 23 23
- Antriebsendblock Drive end block
- 3 3
- Transporteinrichtung transport means
- 31 31
- Transportrolle transport roller
- 32 32
- Welle wave
- 33 33
- Riemenscheibe pulley
- 4 4
- Substratträger substrate carrier
- 41 41
- Rahmen frame
- 42 42
- Führungsschiene guide rail
- 5 5
- Substrat substratum
- 6 6
- Starres (erstes) Druckseparationselement Rigid (first) pressure separation element
- 7 7
- Flexibles (zweites) Druckseparationselement Flexible (second) pressure separation element
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- DE 19808163 C1 [0004] DE 19808163 C1 [0004]
- DE 102004021734 A1 [0004] DE 102004021734 A1 [0004]
- DE 202004005216 U1 [0005] DE 202004005216 U1 [0005]
- DE 102009659093 [0006] DE 102009659093 [0006]
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Publication Number | Publication Date |
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---|---|
DE (1) | DE102012202715B4 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102013210073A1 (en) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Von Ardenne Gmbh | Vacuum-tight bakeable rotary union for vacuum applications |
DE102014116711A1 (en) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | Von Ardenne Gmbh | Vacuum chamber and Vakuumprozessieranordnung |
WO2017071677A1 (en) * | 2015-10-26 | 2017-05-04 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Device and method for coating extra-long sheet-type substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating system |
DE102016119712A1 (en) * | 2016-10-17 | 2018-04-19 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Substrate carrier and processing arrangement |
DE102020101569A1 (en) | 2020-01-23 | 2021-07-29 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Processing device and method for operating a processing device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19808163C1 (en) | 1998-02-27 | 1999-07-15 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Airlock system for transfer chamber of vacuum coating installation |
DE202004005216U1 (en) | 2004-03-15 | 2004-07-15 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Vacuum treatment unit for coating glass components has at least two adjacent chambers or chamber regions separated from each other by walls with an opening via a valve device |
DE102004021734A1 (en) | 2004-04-30 | 2005-12-01 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Method and device for the continuous coating of flat substrates with optically active layer systems |
DE102009059093A1 (en) | 2009-12-18 | 2011-06-22 | VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 | Vacuum process system for treating substrates, comprises a vacuum chamber arranged with a transport equipment for transporting the substrates by the vacuum chamber in a transport direction |
-
2012
- 2012-02-22 DE DE102012202715.7A patent/DE102012202715B4/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19808163C1 (en) | 1998-02-27 | 1999-07-15 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Airlock system for transfer chamber of vacuum coating installation |
DE202004005216U1 (en) | 2004-03-15 | 2004-07-15 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Vacuum treatment unit for coating glass components has at least two adjacent chambers or chamber regions separated from each other by walls with an opening via a valve device |
DE102004021734A1 (en) | 2004-04-30 | 2005-12-01 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Method and device for the continuous coating of flat substrates with optically active layer systems |
DE102009059093A1 (en) | 2009-12-18 | 2011-06-22 | VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 | Vacuum process system for treating substrates, comprises a vacuum chamber arranged with a transport equipment for transporting the substrates by the vacuum chamber in a transport direction |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102013210073A1 (en) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Von Ardenne Gmbh | Vacuum-tight bakeable rotary union for vacuum applications |
DE102013210073B4 (en) * | 2013-05-29 | 2015-04-30 | Von Ardenne Gmbh | Vacuum-tight rotary feedthrough for vacuum applications |
DE102014116711A1 (en) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | Von Ardenne Gmbh | Vacuum chamber and Vakuumprozessieranordnung |
DE102014116711A9 (en) * | 2014-11-14 | 2016-08-18 | Von Ardenne Gmbh | Vacuum chamber and Vakuumprozessieranordnung |
WO2017071677A1 (en) * | 2015-10-26 | 2017-05-04 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Device and method for coating extra-long sheet-type substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating system |
US10590528B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-03-17 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Device for coating extra-long sheet-type substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating system |
DE102016119712A1 (en) * | 2016-10-17 | 2018-04-19 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Substrate carrier and processing arrangement |
DE102020101569A1 (en) | 2020-01-23 | 2021-07-29 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Processing device and method for operating a processing device |
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DE102012202715B4 (en) | 2014-05-08 |
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