DE102011086557B4 - coupler - Google Patents
coupler Download PDFInfo
- Publication number
- DE102011086557B4 DE102011086557B4 DE102011086557.8A DE102011086557A DE102011086557B4 DE 102011086557 B4 DE102011086557 B4 DE 102011086557B4 DE 102011086557 A DE102011086557 A DE 102011086557A DE 102011086557 B4 DE102011086557 B4 DE 102011086557B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- coupler
- coupling
- inductance
- arrangement according
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
- H01P5/12—Coupling devices having more than two ports
- H01P5/16—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port
- H01P5/18—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port consisting of two coupled guides, e.g. directional couplers
- H01P5/184—Conjugate devices, i.e. devices having at least one port decoupled from one other port consisting of two coupled guides, e.g. directional couplers the guides being strip lines or microstrips
- H01P5/187—Broadside coupled lines
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2242/00—Auxiliary systems
- H05H2242/20—Power circuits
- H05H2242/26—Matching networks
Abstract
Koppleranordnung (1, 100, 200) mit einem ersten Koppler (2, 101, 201) zum Koppeln zweier Hochfrequenzsignale mit einer Frequenz im Bereich 1–30 MHz, mit mindestens einem ersten und mindestens einem zweiten elektrischen Leiter (131, 133, 231, 231b, 233, 233b), die voneinander beabstandet sind und die in einem Kopplungsbereich (17, 114, 214) eine erste diskrete Kapazität und eine erste diskrete Induktivität bilden, wobei im Kopplungsbereich (17, 114, 214) der Leiter (131, 133, 231, 231b, 233, 233b) zur Erhöhung der ersten Induktivität zumindest ein erstes Induktivitätserhöhungselement (117) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass ein zweiter in Serie zu dem ersten Koppler (2, 101, 201) angeordneter Koppler (3, 102, 202) vorgesehen ist, der ebenfalls mindestens einen ersten und mindestens einen zweiten elektrischen Leiter (131, 134, 231, 231b, 234, 234b), die voneinander beabstandet sind, aufweist, die in einem Kopplungsbereich (115, 215) eine zweite diskrete Kapazität und eine zweite diskrete Induktivität bilden, wobei im Kopplungsbereich (115, 215) zur Erhöhung der zweiten Induktivität zumindest ein zweites Induktivitätserhöhungselement (118) angeordnet ist, wobei der Kopplungsbereich (115, 215) des zweiten Kopplers (3, 102, 202) kürzer ist als der Kopplungsbereich (17, 114, 214) des ersten Kopplers (2, 101, 201).Coupler arrangement (1, 100, 200) having a first coupler (2, 101, 201) for coupling two high-frequency signals with a frequency in the range 1-30 MHz, with at least one first and at least one second electrical conductor (131, 133, 231, 231b, 233, 233b), which are spaced from one another and which form a first discrete capacitance and a first discrete inductance in a coupling region (17, 114, 214), wherein in the coupling region (17, 114, 214) the conductors (131, 133 , 231, 231b, 233, 233b) for increasing the first inductance at least a first inductance increasing element (117) is arranged, characterized in that a second in series with the first coupler (2, 101, 201) arranged coupler (3, 102, 202), which likewise has at least one first and at least one second electrical conductor (131, 134, 231, 231b, 234, 234b), which are spaced from one another, which has a second discrete capacitance in a coupling region (115, 215) and e form in the second discrete inductance, wherein in the coupling region (115, 215) for increasing the second inductance at least a second inductance increasing element (118) is arranged, wherein the coupling region (115, 215) of the second coupler (3, 102, 202) is shorter than the coupling region (17, 114, 214) of the first coupler (2, 101, 201).
Description
Die Erfindung betrifft eine Koppleranordnung mit einem ersten Koppler zum Koppeln zweier Hochfrequenzsignale mit einer Frequenz im Bereich 1 bis 30 MHz, mit mindestens einem ersten und mindestens einem zweiten elektrischen Leiter, die voneinander beabstandet sind und die in einem Kopplungsbereich eine erste diskrete Kapazität und eine erste diskrete Induktivität bilden, wobei im Kopplungsbereich der Leiter zur Erhöhung der ersten Induktivität zumindest ein erstes Induktivitätserhöhungselement angeordnet ist.The invention relates to a coupler arrangement with a first coupler for coupling two high-frequency signals having a frequency in the
Im Bereich der Laseranregungs- und Plasmaprozesse sind Hochfrequenzverstärker mit den üblichen Industriefrequenzen, wie beispielsweise 13,56 MHz und 27,12 MHz, und Ausgangsleistungen im Bereich von 1 kW bis 50 kW bekannt. Die Verwendung von Hochfrequenzverstärkern größerer Leistung und höherer Frequenzen wird angestrebt, lässt sich aus unterschiedlichsten Gründen jedoch nur schwer realisieren.In the field of laser excitation and plasma processes, high frequency amplifiers with the usual industrial frequencies, such as 13.56 MHz and 27.12 MHz, and output powers in the range of 1 kW to 50 kW are known. The use of high frequency amplifiers of higher power and higher frequencies is sought, but can be realized for various reasons, but difficult.
Ein Grund hierfür ist die Nichtlinearität und die dynamische, oftmals unvorhersehbare Änderung der Lastimpedanzen von Laseranregungs- oder Plasmaprozessen. Diese dynamischen Änderungen der Impedanz erzeugen Reflektionen, die im Verstärker zu Verlusten führen. Hohe Blindenergien, die in den Blindelementen von den Verstärkern, in den Zuleitungen und in Blindelementen von Anpassungsnetzwerken gespeichert sind, können sich dabei entladen und zu hohen Spannungen oder Strömen aufbauen und den Verstärker zu Oszillationen anregen oder Bauteile zerstören.One reason for this is the nonlinearity and the dynamic, often unpredictable change in the load impedances of laser excitation or plasma processes. These dynamic changes in impedance create reflections that cause losses in the amplifier. High reactive energies stored in the dummy elements of the amplifiers, in the leads and in dummy elements of matching networks can thereby discharge and build up to high voltages or currents and excite the amplifier to oscillate or destroy components.
Solche Lastimpedanzänderungen treten beispielsweise beim Zünden der Laseranregungs- oder Plasmaprozesse oder bei Überschlägen (sogenannten Arcs) im Plasmaprozess auf. Zusätzlich muss berücksichtigt werden, dass hochfrequenzbetriebene Laseranregungen und in zunehmendem Maße auch hochfrequenzangeregte Plasmaprozesse gepulst betrieben werden, also die Hochfrequenzverstärker mit Pulsfrequenzen von beispielsweise 100 Hz bis 300 kHz ein- und ausgeschaltet werden oder zwischen zwei Leistungsbereichen geschaltet werden. Bei jedem Schaltvorgang entstehen dann kurzzeitig Reflektionen, die zum größten Teil in den Verstärkern in Verlustenergie, also Wärme, umgesetzt werden.Such load impedance changes occur, for example, when the laser excitation or plasma processes are ignited or during flashovers (so-called arcs) in the plasma process. In addition, it must be taken into account that high-frequency-driven laser excitations and, increasingly, high-frequency excited plasma processes are pulsed, ie the high-frequency amplifiers are switched on and off at pulse frequencies of for example 100 Hz to 300 kHz or switched between two power ranges. Reflections then occur for a short time during each switching process, most of which are converted into energy losses in the amplifiers, ie heat.
Ausgangsstufen solcher Hochfrequenzverstärker werden für kleine Leistungen (1 bis 6 kW) häufig mit Transistoren realisiert, für größere Leistungen werden üblicherweise Röhren eingesetzt. Röhren sind robuster gegenüber Reflektionen und können die Verlustenergie besser abführen als Transistoren. Sie sind aber teurer und unterliegen einem betriebsbedingten Verschleiß. Außerdem sind sie relativ groß.Output stages of such high-frequency amplifiers are often realized with transistors for small powers (1 to 6 kW), tubes are usually used for larger powers. Tubes are more robust to reflections and can dissipate the loss energy better than transistors. But they are more expensive and subject to operational wear. Besides, they are relatively big.
Daher wird zunehmend versucht, auch Hochfrequenzverstärker größerer Leistung mit Transistorausgangsstufen auszurüsten. Mit dem Einsatz von transistorisierten Verstärkern hat der Einsatz von geschalteten Verstärkern, die im Resonanzbetrieb arbeiten, stark zugenommen. Dabei werden die Transistoren so geschaltet, dass nur eine sehr geringe Verlustenergie produziert wird. Damit lassen sich Verstärker mit sehr geringen Abmessungen und vergleichsweise hoher Leistung aufbauen. Solche Verstärker können aufgrund ihrer geringen Baugröße besser in Plasmaanlagen oder Laseranregungsanordnungen integriert werden.Therefore, an attempt is increasingly being made to equip even high-frequency amplifiers of greater power with transistor output stages. The use of transistorized amplifiers has greatly increased the use of switched amplifiers operating in resonant mode. The transistors are switched so that only a very low energy loss is produced. This makes it possible to build amplifiers with very small dimensions and comparatively high power. Such amplifiers, due to their small size, can be better integrated into plasma systems or laser excitation arrangements.
Große Leistungen mit transistorisierten Ausgangsstufen lassen sich mit der Zusammenschaltung mehrerer synchron laufender Hochfrequenzverstärker erzielen. Die Zusammenschaltung erfolgt durch so genannte Koppler oder Combiner.Great performances with transistorized output stages can be achieved with the interconnection of several synchronously running high frequency amplifiers. The interconnection is done by so-called couplers or combiners.
Üblicherweise weisen Koppler im Kopplungsbereich eine Leitung mit einer Länge von λ/4 der zu koppelnden Signale auf. Bei Signalen mit einer Frequenz von 13,56 MHz würde das bedeuten, dass die Kopplungsbereiche eine Länge von etwa 4 m haben müssten. Dies ist für eine Plasma- oder Laseranregungsanordnung deutlich zu groß.Usually couplers in the coupling region on a line with a length of λ / 4 of the signals to be coupled. For signals with a frequency of 13.56 MHz, this would mean that the coupling areas should have a length of about 4 m. This is clearly too large for a plasma or laser excitation arrangement.
Weiterhin ist es bekannt, mehrere Koppler kaskadiert vorzusehen. Dies bedeutet, dass ein Koppler immer zwei Hochfrequenzsignale zu einem Ausgangssignal koppelt. In einer nächsten Stufe würden dann wiederum zwei Ausgangssignale der vorhergehenden Stufe durch einen Koppler gekoppelt. Die Koppler unterschiedlicher Koppelstufen müssen dann durch teure Hochfrequenzverbindungstechnik verbunden werden.Furthermore, it is known to provide several couplers cascaded. This means that a coupler always couples two high-frequency signals to one output signal. In a next stage, in turn, two output signals of the previous stage would be coupled by a coupler. The couplers of different coupling stages must then be connected by expensive high-frequency connection technology.
Die
Die
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Koppleranordnung bereit zu stellen, mit der mehrere Hochfrequenzsignale gekoppelt werden können und die eine kompakte Bauweise aufweist.The object of the present invention is to provide a coupler arrangement with which a plurality of high-frequency signals can be coupled and which has a compact design.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Koppleranordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Durch die Verwendung von Induktivitätserhöhungselementen können die Abmessungen der Koppler für Frequenzen unter 50 MHz deutlich reduziert werden. Sie können kleiner als λ/4, jedoch insbesondere auch kleiner als λ/8 und sogar kleiner als λ/10 gewählt werden. Die Kopplung zwischen den Leitern in den jeweiligen Kopplungsbereichen entspricht einer kapazitiven Kopplung zwischen den Leitern, abhängig von der Fläche und dem Abstand der Leiter und einer induktiven Kopplung, abhängig von der Länge der Leiter und von den zusätzlichen Induktivitätserhöhungselementen. Durch die Reihenschaltung der beiden Koppler können diese quasi in einem Stück realisiert werden. Mit dieser Anordnung werden weniger Induktivitätserhöhungselemente benötigt. Verbindungsleitungen zwischen den Kopplern sind nicht notwendig, da diese auf nur einer einzigen Leiterplatte realisiert werden können. Auf teure HF-Verbindungstechnik kann verzichtet werden. Insbesondere kann ein besonders einfacher Aufbau der Koppleranordnung realisiert werden. Mit der erfindungsgemäßen Koppleranordnung können insbesondere Signale mit Leistungen > 1 kW bei Frequenzen zwischen 3 MHz und 30 MHz, insbesondere bei einer festen Frequenz, die nur wenig variiert (+/–5%) gekoppelt werden.This object is achieved by a coupler arrangement with the features of
Der Kopplungsbereich des zweiten Kopplers ist kürzer als der Kopplungsbereich des ersten Kopplers. Dadurch kann der zweite Koppler einen anderen Kopplungsfaktor aufweisen als der erste Koppler.The coupling region of the second coupler is shorter than the coupling region of the first coupler. This allows the second coupler to have a different coupling factor than the first coupler.
Der Kopplungsbereich des zweiten Kopplers kann um den Faktor
Zwischen dem ersten und dem zweiten Leiter des ersten und des zweiten Kopplers kann ein gemeinsames, die Koppler verbindendes isolierendes Trägermaterial, insbesondere ein Leiterplattenmaterial, vorgesehen sein. Dies bedeutet, dass beide Koppler auf derselben Leiterplatte realisiert werden können.Between the first and the second conductor of the first and the second coupler can be provided a common, the coupler connecting insulating carrier material, in particular a printed circuit board material. This means that both couplers can be realized on the same circuit board.
Die zweite Induktivität kann geringer sein als die erste Induktivität. Dadurch können unterschiedliche Kopplungsfaktoren für die Koppler realisiert werden. Die zweite Induktivität kann um den Faktor
Weiterhin kann vorgesehen sein, dass die zweite Kapazität geringer ist als die erste Kapazität. Auch dies kann zu unterschiedlichen Kopplungsfaktoren führen.Furthermore, it can be provided that the second capacity is less than the first capacity. This too can lead to different coupling factors.
Die zweite Kapazität kann um den Faktor
Ein besonders kompakter Aufbau der Koppleranordnung ergibt sich, wenn der Kopplungsbereich des ersten Kopplers kürzer als λ/4 ist, insbesondere kleiner als λ/10 ist, wobei λ die Wellenlänge der zu koppelnden Hochfrequenzsignale ist.A particularly compact design of the coupler arrangement results when the coupling region of the first coupler is shorter than λ / 4, in particular smaller than λ / 10, where λ is the wavelength of the high-frequency signals to be coupled.
Die Koppler können einen gemeinsamen Leiter aufweisen. Dadurch ist es möglich, die Koppleranordnung besonders kompakt aufzubauen. Es ist nicht notwendig, für jeden Koppler separate Anschlüsse vorzusehen und diese durch HF-Verbindungstechnik miteinander zu verbinden.The couplers may have a common conductor. This makes it possible to construct the coupler arrangement particularly compact. It is not necessary to provide separate connections for each coupler and to connect them together by means of HF connection technology.
Besonders kostengünstig und mit wenigen Bauteilen kann die Koppleranordnung aufgebaut werden, wenn die Koppler auf derselben Leiterkarte realisiert sind.Particularly cost-effective and with few components, the coupler arrangement can be constructed when the couplers are implemented on the same printed circuit board.
Zumindest ein Induktivitätserhöhungselement kann die Leiter im Kopplungsbereich zumindest teilweise umgeben. Durch ein Induktivitätserhöhungselement, welches die Leiter im Kopplungsbereich teilweise umgibt, kann eine besonders gute Induktivitätserhöhung realisiert werden.At least one inductance-increasing element may at least partially surround the conductors in the coupling region. By an inductance increasing element, which partially surrounds the conductors in the coupling region, a particularly good inductance increase can be realized.
Zumindest ein Induktivitätserhöhungselement kann ringförmig ausgebildet sein. Grundsätzlich kann ein Induktivitätserhöhungselement eine beliebige Form aufweisen. Vorzugsweise umgibt es die Leiter im Kopplungsbereich jedoch zumindest teilweise. Es kann z. B. parallel zu ihnen liegen. Dadurch kann auch eine besonders einfache und effektive Kopplung erreicht werden. Bevorzugt wird das Induktivitätserhöhungselement die Leiter im Kopplungsbereich ringförmig umgeben. Dabei ist mit ringförmig gemeint, dass die Leiterbahnen von einer geschlossenen Geometrie umgeben sind, sie kann kreisförmig, ellipsoid, rechteckig oder anders geformt sein. Der Vorteil einer ringförmigen Geometrie ist, dass Streufelder reduziert werden. Bei einer rechteckigen Bauweise der Ringform kann die Wärme, die im Induktivitätserhöhungselement entsteht, besonders gut an eine planare Kühlplatte abgeführt werden. At least one inductance-increasing element may be annular. In principle, an inductance-increasing element can have any shape. Preferably, however, it at least partially surrounds the conductors in the coupling region. It can, for. B. parallel to them. As a result, a particularly simple and effective coupling can be achieved. The inductance-increasing element is preferably surrounded annularly in the coupling area by the conductors. In this case, by annular is meant that the conductor tracks are surrounded by a closed geometry, they can be circular, ellipsoidal, rectangular or otherwise shaped. The advantage of an annular geometry is that stray fields are reduced. In a rectangular construction of the ring shape, the heat generated in the inductance increasing element can be particularly well dissipated to a planar cooling plate.
Die rechteckige Bauform kann aus mehreren Teilen zusammengesetzt sein, z. B. aus vier Quadern oder aus zwei U-förmigen Teilen oder auch aus einem U-förmigen Teil und einem Quader. Bei den aus mehreren Teilen zusammengesetzten Bauformen ist eine vereinfachte Fertigung möglich.The rectangular shape may be composed of several parts, for. B. four blocks or two U-shaped parts or from a U-shaped part and a cuboid. In the assembled from several parts designs a simplified production is possible.
Außerdem können zur Einstellung der Induktivität einstellbare Spalte zwischen den Teilen vorgesehen sein. Es ist daher vorteilhaft, wenn zumindest ein Induktivitätserhöhungselement zumindest einen einstellbaren Spalt aufweist.In addition, adjustable gaps can be provided between the parts to adjust the inductance. It is therefore advantageous if at least one inductance-increasing element has at least one adjustable gap.
Zumindest ein Induktivitätserhöhungselement kann aus ferritischem Material ausgebildet sein. Das aus ferritischem Material ausgebildete Induktivitätserhöhungselement kann dabei einen AL-Wert zwischen 40 nH und 200 nH aufweisen. Je nach den zu koppelnden Leistungen können Ferrite mit relativ hohen oder niedrigen magnetischen Verlusten eingesetzt werden. Während bei vergleichsweise kleinen Leistungen Ferrite mit relativ hohen magnetischen Verlusten eingesetzt werden können, sollte für hohe Leistungen ferritisches Material mit sehr niedrigen magnetischen Verlusten eingesetzt werden. Bei gleicher Baugröße weisen Ferritkörper mit niedrigen magnetischen Verlusten in der Regel auch niedrige AL-Werte auf, weshalb zur Erzielung der gleichen Induktivität entsprechend mehr Ferritkörper eingesetzt werden müssen. Während also bei vergleichsweise kleinen Leistungen Ferrite mit großem AL-Wert von beispielsweise 200 nH einsetzbar sind und damit nur wenige Ferrite erforderlich sind, um die notwendige Induktivität von z. B. 500 nH zu erreichen, müssen für hohe Leistungen, z. B. 5 kW, mit entsprechend großen Strömen in den Leiterbahnen Ferrite mit geringem AL-Wert verwendet werden, weil sonst entsprechend hohe ferromagnetische Verluste in den Ferritkernen auftreten. Die magnetischen oder auch gyromagnetischen Verluste steigen in einem Ferritkern materialabhängig bei bestimmten Frequenzen bis zu einer magnetischen Resonanzfrequenz an. Liegt diese ferromagnetische Resonanzfrequenz zu niedrig und zu nah an der Betriebsfrequenz, so erwärmen die Verluste den Ferrit. Es werden deshalb bei hohen Leistungen vorzugsweise Ferritringe bzw. Ferritringkerne verwendet, die einen geringen AL-Wert aufweisen und dafür wird eine entsprechend höhere Anzahl verwendet.At least one inductance increasing element may be formed of ferritic material. The inductance-increasing element formed of ferritic material may have an A L value between 40 nH and 200 nH. Depending on the power to be coupled, ferrites with relatively high or low magnetic losses can be used. While at comparatively low powers ferrite with relatively high magnetic losses can be used, for high power ferritic material with very low magnetic losses should be used. With the same size, ferrite bodies with low magnetic losses generally also have low A L values, which is why more ferrite bodies must be used in order to achieve the same inductance. Thus, while at relatively low powers ferrites with a large A L value of, for example 200 nH are used and thus only a few ferrites are required to achieve the necessary inductance of z. B. 500 nH, must for high performance, eg. B. 5 kW, with correspondingly large currents in the interconnects ferrites are used with low A L value, because otherwise correspondingly high ferromagnetic losses occur in the ferrite cores. The magnetic or gyromagnetic losses increase in a ferrite core depending on the material at certain frequencies up to a magnetic resonance frequency. If this ferromagnetic resonance frequency is too low and too close to the operating frequency, the losses heat the ferrite. It is therefore preferably used at high power ferrite rings or ferrite cores, which have a low A L value and for a correspondingly higher number is used.
Ein Serienkoppler kann realisiert werden, wenn mehr als zwei Koppler mit unterschiedlichen Kopplungsfaktoren in Serie miteinander verbunden sind.A serial coupler can be realized if more than two couplers with different coupling factors are connected in series.
Dabei kann der Koppler, der den Leistungsausgang der Koppleranordnung aufweist, den kürzesten Kopplungsbereich aufweisen. Insbesondere können die Kopplungsfaktoren der Koppler bis zum Leistungsausgang hin stets zunehmen.In this case, the coupler, which has the power output of the coupler arrangement, have the shortest coupling region. In particular, the coupling factors of the coupler can always increase towards the power output.
Die Koppleranordnung kann wenigstens drei Eingangsanschlüsse zum Koppeln von drei Hochfrequenzsignalen gleicher Leistung und gleicher Frequenz aufweisen. Somit kann mit der Koppleranordnung bei geringen Dimensionen eine Kopplung von drei Hochfrequenzleistungssignalen zu einem Ausgangssignal durchgeführt werden.The coupler arrangement may have at least three input terminals for coupling three high frequency signals of equal power and frequency. Thus, with the coupler assembly, at small dimensions, coupling of three high frequency power signals to one output signal can be performed.
Die Koppleranordnung kann wenigstens drei Eingangsanschlüsse zum Koppeln von drei Hochfrequenzsignalen mit unterschiedlicher Phase zueinander aufweisen. Dabei kann der Eingangsanschluss des zweiten Kopplers gleichzeitig ein Tor des ersten Kopplers darstellen. Ein Eingangsanschluss des dritten Kopplers kann dabei auch ein Tor des zweiten Kopplers darstellen. Somit ergibt sich eine integrierte Anordnung. Die Tore der einzelnen Koppler müssen nicht durch zusätzliche Leitungen miteinander verbunden werden. Insbesondere können Tore bzw. Anschlüsse von zwei benachbarten Kopplern gemeinsam genutzt werden.The coupler arrangement may have at least three input terminals for coupling three high-frequency signals of different phase to each other. In this case, the input terminal of the second coupler can simultaneously represent a gate of the first coupler. An input terminal of the third coupler can also represent a gate of the second coupler. This results in an integrated arrangement. The gates of each coupler do not need to be connected by additional lines. In particular, gates or connections of two adjacent couplers can be shared.
Die Koppleranordnung kann wenigstens zwei Anschlüsse für jeweils einen Ausgleichswiderstand aufweisen. Leistung, die aufgrund von leichten Phasenverschiebungen nicht gekoppelt werden kann, kann somit in einen Ausgleichswiderstand abgeleitet werden.The coupler arrangement can have at least two connections for one compensation resistor each. Power that can not be coupled due to slight phase shifts can thus be derived into a compensation resistor.
Die Koppleranordnung kann einen ersten durchgehenden Leiter von einem ersten Anschluss für ein erstes Hochfrequenzsignal zu einem Anschluss zum Ausgeben eines gekoppelten Ausgangssignals aufweisen, einen weiteren Leiter von einem zweiten Anschluss für ein zweites Hochfrequenzsignal zu einem ersten Ausgleichswiderstand und einen weiteren Leiter von einem dritten Anschluss für ein drittes Hochfrequenzsignal zu einer zweiten Ausgleichswiderstand.The coupler assembly may include a first continuous conductor from a first terminal for a first RF signal to a terminal for outputting a coupled output signal, another conductor from a second terminal for a second RF signal to a first compensation resistor, and another conductor from a third terminal for a third high-frequency signal to a second compensation resistance.
Die Induktivitätserhöhungselemente können jeweils mehrere gleichförmige Induktivitätserhöhungssegmente, z. B. Ferritsegmente, aufweisen. Insbesondere können die Segmente baugleich sein. Dadurch kann eine Kostenersparnis erfolgen. Außerdem wird die Herstellung der Ferritsegmente vereinfacht, da diese gemeinsam hergestellt werden können. Ausfälle im Produktionsprozess der Ferrite können dadurch besser ausgeglichen werden. Geringe Fertigungstoleranzen im Bereich bis zu 10% weisen selbst baugleiche Induktivitätserhöhungssegmente, z. B. Ferritsegmente auf. Die Induktivitätserhöhungssegmente, insbesondere Ferritsegmente, bestimmen aber zu einer ganz wesentlichen Teil die Induktivität der Koppler. Bei der Induktivität der Koppler wird zumeist eine höhere Genauigkeit gefordert, insbesondere kleiner 2% oder kleiner 1%. Die Ferrite können dafür ausgemessen und selektiert werden. Dadurch können besonders genaue Kopplungsfaktoren eingestellt werden. The inductance enhancement elements may each comprise a plurality of uniform inductance enhancement segments, e.g. B. ferrite segments. In particular, the segments can be identical. This can be a cost savings. In addition, the production of the ferrite segments is simplified because they can be manufactured together. Failures in the production process of ferrites can thus be better compensated. Low manufacturing tolerances in the range up to 10% have even identical Induktivitätserhöhungssegmente, z. B. ferrite segments on. However, the inductance enhancement segments, particularly ferrite segments, determine to a very substantial extent the inductance of the couplers. In the inductance of the coupler usually a higher accuracy is required, in particular less than 2% or less than 1%. The ferrites can be measured and selected for this purpose. As a result, particularly accurate coupling factors can be set.
Wenn die zweite Induktivität um den Faktor
Wenn eine dritte Induktivität eines dritten in Serie geschalteten Kopplers um den Faktor
Die Induktivität zumindest eines Kopplers kann eine oder mehrere Windungen aufweisen. Dadurch sind weniger Induktivitätserhöhungssegmente zur Einstellung der Induktivität des Kopplers notwendig. Dies führt zu geringeren Kosten und zu einer Platzersparnis.The inductance of at least one coupler may have one or more turns. As a result, less Induktivitätserhöhungssegmente necessary to adjust the inductance of the coupler. This leads to lower costs and to a space saving.
Die Induktivitätserhöhungselemente können aus Perminvar-Ferrit ausgebildet sein. Dieses Material eignet sich besonders zur Verwendung als Induktivitätserhöhungselement.The inductance enhancement elements may be formed of Perminvar ferrite. This material is particularly suitable for use as an inductance enhancement element.
Die beschriebene Koppleranordnung eignet sich vor allem zur Kopplung von mehreren Hochfrequenzgeneratoren mit Leistungen größer 500 W zu Leistungen größer 1,5 kW, wenn die Anzahl der gekoppelten Hochfrequenzgeneratoren ungleich einer Potenz von zwei ist, also z. B. bei x Hochfrequenzgeneratoren, x = 3, 5, 6, 7, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 17, 18, 19, oder weitere Zahlen für die gilt: n ≠ 2n, (n = 1, 2, 3, 4, 5, ...).The described coupler arrangement is particularly suitable for the coupling of several high-frequency generators with powers greater than 500 W to powers greater than 1.5 kW, when the number of coupled high-frequency generators is not equal to a power of two, ie z. At x high-frequency generators, x = 3, 5, 6, 7, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 17, 18, 19, or further numbers for which: n ≠ 2 n , (n = 1, 2, 3, 4, 5, ...).
Die beschriebene Koppleranordnung eignet sich bei der Versorgung von Plasmaprozessen größerer Leistung (> 1,5 kW), da diese Koppleranordnung besonders geeignet ist, reflektierte Leistungsanteile nicht vollständig zurück zu den Generatoren zu reflektieren, sondern zumindest teilweise in den Ausgleichswiderständen in Wärme umzuwandeln. Außerdem kann eine Leistungsregelung durch Phasenverstellung der Hochfrequenzgeneratoren gegeneinander erfolgen. Außerdem können einzelne Hochfrequenzgeneratoren, während dem Betrieb abgekoppelt und durch neue ersetzt werden, was den Einsatz der Plasmaanregung zur Halbleiterbearbeitung oder Laseranregung besonders interessant macht.The described coupler arrangement is suitable for supplying plasma processes of greater power (> 1.5 kW), since this coupler arrangement is particularly suitable for not reflecting reflected power components back completely to the generators, but at least partially converting them into heat in the compensation resistors. In addition, a power control by phase adjustment of the high frequency generators against each other. In addition, individual high-frequency generators can be decoupled during operation and replaced by new ones, which makes the use of plasma excitation for semiconductor processing or laser excitation particularly interesting.
Die Hochfrequenzgeneratoren, die an die Eingangsanschlüsse angeschlossen werden, haben alle die gleiche Ausgangsimpedanz. Die Koppleranordnung kann auf eine Ausgangsimpedanz von 50 Ohm ausgelegt sein. Die Ausgleichswiderstände werden dann auch zu 50 Ohm ausgelegt. Die Ausgangsimpedanz der Hochfrequenzgeneratoren kann ungleich 50 Ohm, insbesondere geringer als 50 Ohm, ausgelegt werden. Damit kann dafür gesorgt werden, dass ein noch größerer Teil von reflektierter Energie nicht von den Hochfrequenzgeneratoren sondern von den Ausgleichswiderständen in Wärme gewandelt wird und gleichzeitig der Ausgang der Koppleranordnung stabile 50 Ohm beträgt, was sehr vorteilhaft für alle Industrieprozesse ist.The high frequency generators connected to the input terminals all have the same output impedance. The coupler arrangement can be designed for an output impedance of 50 ohms. The compensation resistors are then designed to 50 ohms. The output impedance of the high-frequency generators can be designed not equal to 50 ohms, in particular less than 50 ohms. Thus, it can be ensured that an even greater part of reflected energy is not converted by the high-frequency generators but by the balancing resistors into heat and at the same time the output of the coupler arrangement is stable 50 ohms, which is very advantageous for all industrial processes.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.Further features and advantages of the invention will become apparent from the following description of embodiments of the invention, with reference to the figures of the drawing, which show details essential to the invention and from the claims. The individual features can be realized individually for themselves or for several in any combination in a variant of the invention.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung schematisch dargestellt und werden nachfolgend mit Bezug zu den Figuren der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:Preferred embodiments of the invention are shown schematically in the drawing and are explained below with reference to the figures of the drawings. Show it:
Die
Der erste Koppler
Die Koppler
In der
Im Kopplungsbereich
Die
Entsprechend weist der zweite Koppler
In der
In der
Auf einer darunter liegenden Leiterkarte bzw. Leiterkartenebene
Im Unterschied zum vorhergehenden Ausführungsbeispiel der
Hieraus ergibt sich, dass die Koppler
Aufgrund der in unterschiedlichen Ebenen verlaufenden Leiterbahnen, die miteinander verbunden sind, entstehen Windungen. Beispielsweise stellen die miteinander verbundenen Leiterbahnen
Aus den Ausführungsbeispielen der
Aus den
Claims (16)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011086557.8A DE102011086557B4 (en) | 2011-11-17 | 2011-11-17 | coupler |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011086557.8A DE102011086557B4 (en) | 2011-11-17 | 2011-11-17 | coupler |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102011086557A1 DE102011086557A1 (en) | 2013-05-23 |
DE102011086557B4 true DE102011086557B4 (en) | 2014-11-27 |
Family
ID=48221817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102011086557.8A Active DE102011086557B4 (en) | 2011-11-17 | 2011-11-17 | coupler |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102011086557B4 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023194535A1 (en) | 2022-04-08 | 2023-10-12 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Method for supplying a laser or plasma with power, and plasma or laser system |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1739716A1 (en) * | 2005-07-02 | 2007-01-03 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | HF plasma process system |
DE202010016850U1 (en) * | 2010-12-22 | 2011-04-14 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | RF power coupler |
-
2011
- 2011-11-17 DE DE102011086557.8A patent/DE102011086557B4/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1739716A1 (en) * | 2005-07-02 | 2007-01-03 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | HF plasma process system |
DE202010016850U1 (en) * | 2010-12-22 | 2011-04-14 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | RF power coupler |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023194535A1 (en) | 2022-04-08 | 2023-10-12 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Method for supplying a laser or plasma with power, and plasma or laser system |
DE102022108631A1 (en) | 2022-04-08 | 2023-10-12 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Method for supplying a laser or plasma with power and a plasma or laser system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102011086557A1 (en) | 2013-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1699107B1 (en) | 3 dB coupler | |
EP1701376B1 (en) | Vacuum plasma generator | |
DE69834353T2 (en) | Power split - / - adder | |
WO2009012868A1 (en) | Plasma supply system | |
EP3579409A1 (en) | High-frequency amplifier arrangement | |
DE102010002754B4 (en) | Plasma supply arrangement with quadrature coupler | |
EP3317917A1 (en) | Power combiner having a symmetrically arranged cooling body and power combiner arrangement | |
EP0790660A2 (en) | Directional coupler for high frequency range | |
DE2329747A1 (en) | VOLTAGE CONTROLLED VARIABLE POWER DIVIDER | |
DE69732201T2 (en) | Dielectric resonator in TM mode and dielectric filter in TM mode and duplexer with the resonator | |
DE112004001614B4 (en) | 90 ° hybrid | |
DE102011006061B4 (en) | Amplifier module for a power amplifier device, power amplifier device and magnetic resonance device | |
DE3942560A1 (en) | High frequency generator for plasma producing consumer - comprises electronic switches, pref. MOSFET transistor, connected to energy supply | |
DE102011086557B4 (en) | coupler | |
DE202010016850U1 (en) | RF power coupler | |
DE102010002753B4 (en) | Plasma power supply arrangement with multiple power coupling stages | |
DE102011075219A1 (en) | RF generator | |
EP1739716A1 (en) | HF plasma process system | |
DE102012216326B4 (en) | RF power inverter system | |
DE102012200634B4 (en) | Power coupler and control cabinet with power coupler | |
DE102017123377A1 (en) | High-frequency amplifier unit with amplifier modules arranged on outer conductors | |
EP3096395A1 (en) | Combiner assembly | |
DE2135701C3 (en) | ||
WO2005038976A1 (en) | Electrical adaptation network comprising a transformation line | |
EP2885837B1 (en) | Device for coupling hf-power into a waveguide |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: TRUMPF HUETTINGER GMBH + CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG, 79111 FREIBURG, DE Effective date: 20130801 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE PARTNERSCH, DE Effective date: 20130801 Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE, DE Effective date: 20130801 |
|
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |