DE102011014779A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung eines Gegenstandes - Google Patents

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Abstract

Gegenstand der Erfindung ist eine Vorrichtung zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten mindestens eines Gegenstandes, wobei die Vorrichtung eine Beleuchtungseinheit (10), eine Projektionsoptik zum Formen von Licht (L) auf einen in einem Messfeld (19) angeordneten Gegenstand (29) geeignet ist, einer Aufnahmevorrichtung (24) zur Erzeugung eines Bildes des Gegenstandes und einer Auswerteeinheit (25) zur Auswertung des erzeugten Bildes und zur Bestimmung der Entfernungen.
Erfindungsgemäß umfasst die Beleuchtungsoptik mindestens eine Freiformoptik (11; 22), welche derart ausgebildet ist, dass von der Beleuchtungseinheit emittiertes Licht mittels mindestens einer Freiformoberfläche der Freiformoptik zu einem räumlich strukturierten Lichtmuster (14) in die Objektebene (12) gelenkt wird.

Description

  • Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Vorrichtung zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten mindestens eines Gegenstands nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie ein Verfahren nach dem Anspruch 10.
  • Zur Beobachtung und zur Vermessung von Objekten bzw. Gegenständen spielt bei aktiver Beleuchtung des Gegenstands die Intensitätsverteilung der Beleuchtung eine wichtige Rolle.
  • Bei vielen Anwendungen ist dabei die Erzeugung einer spezifischen Intensitätsverteilung im Messvolumen (nachfolgend auch ”Objektebene” oder ”Zielebene” genannt) von zentraler Bedeutung. Neben einer möglichst homogenen Intensitätsverteilung, wie sie für viele Beobachtungs-Anwendungen (z. B. Mikroskopie, oder das Monitoring in der Produktion) wichtig ist, ist oft auch die Forderung nach einer spezifischen Intensitätsverteilung von großem Interesse. Hierbei spielen definierte räumlich niederfrequente Intensitätsverteilungen insbesondere in der Beleuchtungstechnik (Straßenbeleuchtung, Autoscheinwerfer; Stichwort ”passive Beleuchtung”) eine wichtige Rolle.
  • Einen Schritt weiter geht die strukturierte Beleuchtung, die häufig zur aktiven Objektbeleuchtung in der Messtechnik zur Formvermessung eingesetzt wird (z. B. Lichtschnitt, Streifenprojektion oder stochastische Muster).
  • Homogene Beleuchtung und spezifische Intensitätsverteilung mit niederfrequenter Intensitätsänderung (d. h. kleine relative Ortsfrequenz bzw. die Hüllkurve einer Intensitätsverteilung mit nur vereinzelten lokalen Minima und Maxima, hauptsächlich für passive Beleuchtungsanwendungen) können auf verschiedene Weisen realisiert werden. Neben den Möglichkeiten der klassischen Optik mit Hilfe sphärischer und asphärischer Linsen und Spiegel kommen auch GRIN(gradient index)-Linsen oder Freiformoptiken zum Einsatz. Ein weiterer Ansatz ist der Einsatz von diffraktiven Elementen zur Strahlformung.
  • Dahingegen wird die strukturierte, d. h. aktive Beleuchtung von Objekten (und damit Intensitätsverteilung mit hoher relativer Ortsfrequenz, d. h. das gehäufte Auftreten von Minima und Maxima in der durch die Hüllkurve begrenzten Intensitätsverteilung oder starke Intensitätsgradienten an Kanten) im Normalfall mit Projektionssystemen gelöst. Dazu wird ein strukturgebendes Element, z. B. ein Dia, eine Chrommaske oder ein räumlicher Lichtmodulator, mit einer Beleuchtungseinheit beleuchtet und mittels einer Projektionsoptik in die Objektebene abgebildet. Die Beleuchtungseinheit kann platzsparend mit dem strukturgebenden Element kombiniert werden, wenn ein selbstleuchtendes Mikrodisplay, z. B. ein OLED-Mikrodisplay, eingesetzt wird. Eine derartige Vorrichtung ist aus der DE 103 44 051 A1 bekannt.
  • Das strukturgebende Element kann entweder ein statisches strukturgebendes Element, welches eine definierte Intensitätsverteilung erzeugt, oder ein adaptives strukturgebendes Element, welches eine Intensitätsverteilung abhängig von der Ansteuerung des Elements erzeugt, sein. Das Element kann nach verschiedenen optischen Prinzipien arbeiten. Am weitesten verbreiten sind Prinzipien, bei denen die Intensitätsmodulation (z. B. Graustufen) durch Absorption (z. B. Dias, Chrommasken, Flüssigkristalldisplays mit aufgebrachten Polarisatoren) oder durch Polarisationsmodulation mit anschließender polarisationsabhängiger räumlicher Energieaufteilung (z. B. LCoS-Displays mit anschließendem polarisierenden Strahlteiler) oder Strahlablenkung mit Abblendung der abgelenkten Strahlung (kippende Mikrospiegelarrays, z. B. DLP-Chip der Firma Texas Instruments) in Verbindung mit Zeit-Multiplexing erreicht wird. Dies wird in der DE 196 33 686 C2 näher erläutert. Bei diesen Prinzipien entsteht zwischen Bestrahlung des strukturgebenden Elements und der Objektebene ein Energieverlust entsprechend der Modulation des strukturgebenden Elements.
  • Eine effizientere Methode ist der Einsatz von Phasenmodulatoren in Kombination mit dem sogenannten generalisierten Phasenkontrast zur Erzeugung einer Intensitätsmodulation in der Zielebene, wie sie aus der US 6,011,874 bekannt ist.
  • Alternativ kann statt des Projektionssystems ein diffraktives Element oder auch holografisches Gitter beleuchtet werden, welches in der Objektebene (mit oder ohne zusätzliche Optik) die gewünschte Intensitätsverteilung in der Objektebene erzeugt. Der Nachteil derartiger Systeme besteht hauptsächlich in der Wellenlängenabhängigkeit.
  • Diffraktive Elemente bzw. holografische Gitter sind aufgrund der wellenlängenabhängigen Beugung für eine Wellenlänge optimiert. Der Einsatz breitbandiger Lichtquellen führt zu einer chromatischen ”Verwaschung”. Der Einsatz in stark abweichenden Wellenlängenbereichen führt zu einer starken Änderung der Lichtformungswirkung. Derartige Projektionsoptiken sowie auf Linsenoptiken basierende Projektionsoptiken weisen trotz Korrektur immer zu einem gewissen Grad chromatische Aberrationen auf.
  • Sowohl Modulatoren als auch Projektionsoptiken sind meist für den sichtbaren Spektralbereich spezifiziert. Außerhalb des sichtbaren Spektralbereichs, d. h. im ultravioletten oder infraroten Spektralbereich, sind nur bedingt Modulatoren und Projektionsoptiken verfügbar, da sie extrem aufwändig in der Herstellung sind. Dies liegt hauptsächlich an der reduzierten Materialauswahl zur Herstellung der optischen Komponenten und Modulatoren sowie an einer reduzierten Lichtquellenauswahl.
  • Zum anderen müssen strukturgebende Elemente, die auf dem Prinzip der Absorption oder polarisations- oder mikrospiegelbasierter Energieaufteilung basieren, mit einer Lichtquelle mit hoher Leuchtdichte beleuchtet werden. Sowohl die Lichtquelle mit hoher Leuchtdichte als auch die Absorption am strukturgebenden Element, bzw. die Abblendung nach Strahlumlenkung sind damit Hitzequellen, welche für manche Anwendungen ein Problem darstellen.
  • Holografische Gitter sind aus Effizienzgründen meist als Phasengitter in Transmission oder Reflexion ausgelegt. Obwohl diese Gitter in der Theorie eine bis zu 100%ige Energieeffizienz besitzen können, zeigen sich in der Realität aufgrund technologischer Probleme zusätzliche Beugungsordnungen, welches neben verringerter Effizienz zusätzlich zu einer Verfälschung der Zielbeleuchtung führt.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es von daher, bekannte Vorrichtungen zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten mindestens eines Gegenstands derart auszubilden, dass diese kompakt und mit hoher Energieeffizienz hergestellt werden können.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung nach den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie ein Verfahren nach den Merkmalen des Anspruchs 10.
  • Die hier vorgestellte Erfindung besteht also aus zwei Grundelementen: einer Projektionsoptik, welche eine Freiform-basierte Optik (im Folgenden ”Freiformoptik” genannt) zur Strahlformung aufweist, und einer Beleuchtungseinheit.
  • Mit Hilfe der Beleuchtungseinheit wird die Freiformoptik beleuchtet. Die Freiformoptik ”formt” das einfallende Licht. Die Freiformoptik ist entsprechend einer gewünschten Zielintensitätsverteilung berechnet, so dass durch Strahlformung in einer definierten Entfernung die spezifische Intensitätsverteilung zur strukturierten Beleuchtung der Objektebene entsteht und das räumlich strukturierte Lichtmuster innerhalb eines Messfeldes in der Objektebene vorzugsweise eine mittlere bis hohe relative Ortsfrequenz besitzt, d. h. eine durch die Hüllkurve der Intensitätsverteilung begrenzte räumliche Variation der Intensitätsverteilung.
  • Die Freiformoptik weist mindestens eine reflektierende und/oder transmittierende Freiformoberfläche auf, welche derart ausgebildet ist, dass von der Beleuchtungseinheit emittiertes Licht mittels der Freiformoberflächen auf einem in der Objektebene befindlichen Messfeld zu einem räumlich strukturierten Lichtmuster geformt wird. Die Größe des Messfeldes definiert die durch die Vorrichtung vermessbare Fläche.
  • Das Messfeld hat innerhalb der Objektebene eine laterale und vertikale Ausdehnung und erstreckt sich auch entlang der optischen Achse, so dass auch von einem Messvolumen gesprochen wird. Nachfolgend wird zwar weiterhin von einem Messfeld gesprochen, dies dient jedoch lediglich der vereinfachten Beschreibung. Es ist zu beachten, dass das hier verwendete Messfeld ein dreidimensionales Messvolumen ist.
  • Diese Strahlformung folgt den Prinzipien der Strahlenoptik. Die Freiformoptik kann dabei aus einem oder mehreren optischen Elementen bestehen, wobei mindestens eine Fläche eine Freiformoberfläche mit optischer Oberflächenqualität ist, die die spezifische Intensitätsverteilung maßgeblich beeinflusst.
  • Diese Anordnung entspricht nicht dem Prinzip der klassischen abbildenden Optik, bei der ein strukturgebendes Element durch ein Projektionsobjektiv in die Objektebene abgebildet wird, sondern die Freiformoberflache formt die einfallende Strahlung durch Freiraumausbreitung, so dass kein zusätzliches Projektionsobjektiv erforderlich ist.
  • Dadurch, dass die Projektionsoptik im einfachsten Fall lediglich eine Freiformoptik, d. h. genau ein Element zur Strahlformung umfasst, kann das gesamte optische System bzw. die gesamte optische Vorrichtung kompakter realisiert werden. Weitere Linsensysteme oder strukturgebende Elemente, wie beispielsweise Dias, LCDs oder OLED-Displays sind nicht vonnöten.
  • Da erfindungsgemäß lediglich ein einziges Element zur Strahlformung vonnöten ist, ist die Gesamtvorrichtung zur Vermessung von Entfernungen besonders günstig und einfach herstellbar.
  • Im Gegensatz zu bisher bekannten Systemen, die auf absorptions- oder polarisations- oder mikrospiegelbasierter Energieaufteilung basieren, wird erfindungsgemäß vorzugsweise das komplette auf das Strahlformungselement fallende Licht umverteilt und zum strukturierten Lichtmuster geformt. Dies bedeutet, dass nahezu 100% des auf die Freiformoptik auftreffenden Lichts im Messfeld der Objektebene zur Vermessung des zu vermessenden Gegenstands beitragen. Dabei ist es vorteilhaft, wenn der Abstand zwischen der objektseitigen Oberfläche der Freiformoptik und der Objektebene, d. h. dem Abstand zum zu vermessenden Gegenstand, vor dem Herstellen der Freiformoptik bekannt ist.
  • Die Effizienz der Vorrichtung ist gegenüber Vorrichtungen nach dem Stand der Technik in zweierlei Hinsicht erhöht. Aufgrund der verbesserten Lichtausbeute kann bei gleichbleibender Größe des Messfeldes in der Beleuchtungseinheit eine kleinere bzw. schwächere Lichtquelle verwendet werden. Analog hierzu können bei gleichbleibender Lichtleistung der Lichtquelle auch größere Lichtleistungen in die Objektebene projiziert werden. Zudem wird das einfallende Licht durch Strahlablenkung geformt, so dass die Vorrichtung keine Komponenten aufweist, welche besonderen thermischen Belastungen ausgesetzt sind, d. h. die thermische Gesamtbelastung der Vorrichtung verringert sich.
  • Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist die Wellenlängenunabhängigkeit der Strahlformung. Da die Strahlformung allein durch die Freiformoptik gestaltet wird, können Lichtquellen verschiedener Wellenlängen sowie Wellenlängenbereiche, in denen zum jetzigen Zeitpunkt keine geeigneten Projektionssysteme zur Verfügung stehen, verwendet werden. Dies ist insbesondere bei der Verwendung von Freiformspiegeln der Fall, welche eine reflektierende Freiformoberfläche aufweisen.
  • Durch Kombination mit dynamischen Elementen kann die Intensitätsverteilung in der Objektebene zusätzlich verändert werden, falls dies für die Anwendung notwendig ist. Mögliche dynamische Elemente sind beispielsweise elektronisch oder manuell steuerbare Stellelemente für Translation oder Rotation der Freiformoberfläche, die die Positionierung und/oder Ausrichtung von Beleuchtungseinheit, Freiformoptik und Objektebene zueinander oder – bei Freiformoptiken, die aus mehreren Elementen bestehen – die Positionierung oder Ausrichtung der Freiformoptik-Elemente zueinander verändern.
  • Neben der Freiformoptik und der Beleuchtungseinheit kann die Erfindung ferner eine Aufnahmevorrichtung zur Erzeugung eines Bildes eines abzubildenden Gegenstandes und eine Auswerteeinheit zur Auswertung des erzeugten Bildes aufweisen.
  • Die Vorrichtung wird bevorzugt in Verbindung mit dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten verwendet. Hierbei wird Licht mittels einer Beleuchtungsvorrichtung emittiert, wobei das Lichts bereits eine Vorstruktur besitzen kann oder unstrukturiert, d. h. im Wesentlichen mit einer ausschließlich niederfrequenten Intensitätsverteilung vorliegt. Das Licht fällt auf eine Freiformoberfläche der Freiformoptik, wobei die Freiformoberfläche derart ausgebildet ist, dass auf sie auffallendes Licht in eine Objektebene umgelenkt wird, wobei die Freiformoptik weiterhin derart ausgebildet ist, dass in der Objektebene ein strukturiertes Lichtmuster durch Strahlformung geformt wird. Dieses strukturierte Lichtmuster fällt auf ein sich in der Objektebene befindliches Messfeld und wird mit Hilfe einer Aufnahmevorrichtung in Form mindestens eines Bildes erfasst. Das Bild einer Oberfläche des mit dem strukturierten Lichtmuster beleuchteten Gegenstands wird mit Hilfe einer Auswerteeinheit analysiert und anschließend die Entfernung bzw. die räumlichen Koordinaten des Gegenstands bzw. deren zeitliche Änderung bestimmt. Geeignete Verfahren zur Auswertung der aufgenommenen Bilder können beispielsweise der Druckschrift DE 103 44 051 A1 entnommen werden. So können beispielsweise bei der vorliegenden Erfindung mit aktiver Beleuchtung Triangulationsverfahren verwendet werden, um Entfernungen und/oder räumliche Koordinaten zu bestimmen.
  • Weitere Ausführungsformen der Vorrichtung sowie des Verfahrens sind in den untergeordneten Ansprüchen aufgeführt.
  • In einer ersten Ausführungsform umfasst die Projektionsoptik ausschließlich Freiformoptiken. Weitere Modulatoren oder Projektionsoptiken sind nicht vorhanden. Hierbei kann es sich sowohl um mindestens eine Freiformoptik als auch mehrere miteinander kombinierte Freiformoptiken handeln. Als Freiformoptiken kommen entweder reflektierende oder transmittierende Freiformoptiken infrage. So kann beispielsweise eine reflektierende Freiformoptik in Form eines Freiformspiegels ausgebildet werden. Die Oberflächen der Freiformoptik, die so genannten Freiformoberflächen, werden dabei derart gefertigt, dass das von der Beleuchtungsquelle einfallende Licht in einem Messfeld der Objektebene zu einem strukturierten Lichtmuster geformt wird. Unter dem strukturierten Lichtmuster ist hierbei eine variierende Intensitätsverteilung innerhalb der Objektebene zu verstehen.
  • Eine weitere Möglichkeit einer Freiformoptik ist eine Freiformlinse, deren Oberfläche derart beschaffen ist, dass auf die Linse auftreffendes Licht in einer Objektebene zu einem strukturierten Lichtmuster geformt wird. Auch hier wird das Licht derart abgelenkt, dass nahezu 100% des auf die Freiformoberflächen der Freiformoptik einfallenden Lichts auf die Objektebene projiziert werden kann. Dies verbessert den Wirkungsgrad der Vorrichtung. Alternativ kann ein Freiformspiegel mit einer reflektierenden Freiformoberfläche verwendet werden.
  • In einer weiteren Ausführungsform sind die Freiformoptiken derart ausgebildet, dass diesen die alleinige Strahlformung zukommt. Dies bedeutet, dass zwischen der Beleuchtungseinheit und der Freiformoptik keinerlei Strukturierung des Lichts stattfindet und die alleinige Strukturierung des Lichts mit Hilfe der Freiformoptik vorgenommen wird.
  • Selbstverständlich ist es auch möglich, bereits vorstrukturiertes Licht auf die Freiformoptik zu strahlen, so dass die Strukturierung des Lichts vor dem Auftreffen auf die Freiformoptik mit der Strukturierung des Lichts durch die Freiformoptik zu einem überlagerten strukturierten Lichtmuster führt, so dass die Strukturierung in der Objektebene von der durch die Beleuchtungseinheit vorgegeben Strukturierung abweicht.
  • In einer weiteren Ausführungsform ist die Freiformoptik derart ausgebildet, dass das räumlich strukturierte Lichtmuster ein Streifenmuster ist. Streifenmuster sind bei Vorrichtungen zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten hinlänglich bekannt.
  • Mit Hilfe der Freiformoptik kann das strukturierte Lichtmuster als spezifische Intensitätsverteilung mittlerer oder hoher Ortsfrequenz in der Objektebene erzeugt werden. Unter mittlerer oder hoher Ortsfrequenz ist hierbei eine mittlere bis hohe Anzahl von Streifen bzw. anderen durch die Freiformoptik geformten geometrischen Figuren oder statistische Muster zu verstehen, welche das Messfeld ausleuchten. Ortsfrequenz ist also als Funktion der Größe des Messfeldes zu verstehen. Auf das Messfeld einfallendes Licht wird dabei derart strukturiert, dass das strukturierte Lichtmuster eine mittlere Ortsfrequenz mit mindestens 15 Streifen oder mindestens 25 Streifen besitzt, wobei die Anzahl der Streifen sich auf die Anzahl der Streifen im Messfeld bezieht. Alternativ ist die Freiformoptik derart gestaltet, dass eine hohe Ortsfrequenz von mehr als 50 Streifen das Messfeld ausleuchtet. Hierdurch wird die Auswertung vereinfacht.
  • In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Vorrichtung eine Steuervorrichtung, mit welcher die Form oder Lage des strukturierten Lichtmusters steuerbar ist. Im Wesentlichen können durch Ansteuern eines oder mehrerer Aktoren, welche mit der Beleuchtungseinheit, der Freiformoptik oder mit dem abzubildenden Gegenstand verbunden ist, eine Bewegung der Beleuchtungseinheit, Freiformoptik bzw. des Gegenstands bewirkt werden. Hierbei können die verschiedenen Einheiten der Vorrichtung zum einen lateral, d. h. senkrecht zur optischen Achse eines Strahlengangs verschoben werden, in Richtung der optischen Achse verschoben werden, oder gegenüber der optischen Achse oder um die optische Achse verdreht werden. Auf diese Weise ist sowohl die Form als auch die Lage des strukturierten Lichtmusters auf dem abzubildenden Objekt bzw. Gegenstand steuerbar.
  • Bevorzugt wird die Koordinierung der Bewegungen der Aktoren mittels eines von der Steuervorrichtung umfassten Mikroprozessors durchgeführt.
  • Als Aufnahmevorrichtung können beispielsweise eine CCD-Kamera in Form eines CCD-Chips, eine CMOS-Kamera gegebenenfalls in Form eines CMOS-Chips oder sonstige Bildaufnahmevorrichtungen verwendet werden. Die Aufnahmevorrichtung umfasst gegebenenfalls eine Optik zur Abbildung auf einen der vorgenannten Chips. Zur Durchführung und Bestimmung der Entfernung ist vorteilhaft, wenn die Auswerteeinheit einen Mikroprozessor aufweist.
  • Als Lichtquelle der Beleuchtungseinheit kommen beispielsweise LEDs, Laser, Gaslampen oder andere Beleuchtungsquellen infrage. Dabei ist die Lichtquelle vorzugsweise vor einer Kondensorlinse oder einem Reflektor bzw. Spiegel angeordnet, so dass eine gegebenenfalls als Punktquelle ausgebildete Lichtquelle einen großen Bereich der Freiformoptik homogen bestrahlt.
  • Hinsichtlich des Verfahrens wird in einer Variante des Verfahrens das strukturierte, mittels der Freiformoptik erzeugte Lichtmuster zeitlich verändert, beispielsweise durch Betätigung eines der vorab beschriebenen Aktoren. Dabei werden zeitlich aufeinanderfolgende, jeweils verschiedene strukturierte Lichtmuster erzeugt, wobei diese vorzugsweise eine zueinander phasenverschobene, vorzugsweise sinusförmige Intensitätsverteilung aufweisen.
  • Dabei kann das strukturierte Lichtmuster in der Objektebene mindestens zwei Lichtpunkte und/oder zwei Lichtlinien, vorzugsweise eine Lichtgerade, und/oder ein zweidimensionales Lichtmuster in Form sich kreuzender Lichtlinien, umfassen. Für den Fall, dass das strukturierte Lichtmuster in der Objektebene geometrische Merkmale (Marken) aufweist, d. h., dass die Freiformoberflächen der Freiformoptik derart ausgebildet sind, dass im Messfeld der Objektebene geometrische Merkmale (Marken), wie beispielsweise Lichtkreuze, Kreise oder Gitter abgebildet werden, können die räumlichen Koordinaten des Gegenstands anschließend durch räumliche Korrelationsverfahren zwischen zwei und mehr Kameras unter Nutzung der Marken bestimmt werden. Korrelationsbasierte Auswerteverfahren sind im Stand der Technik hinreichend bekannt.
  • In einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens wird das strukturierte Lichtmuster durch ein stochastisches Muster beschrieben, welches durch die strahlformende Freiformfläche geformt wird. Anschließend können die räumlichen Koordinaten aus dem stochastischen Muster mittels Korrelationsverfahren bestimmt werden.
  • Die Vorrichtung sowie das Verfahren eignen sich für Messanordnungen im Rahmen einer Qualitätskontrolle, zur Digitalisierung von Prototypen, zur Aufnahme von Oberflächentopografien von Gegenständen und/oder zur Bestimmung von dreidimensionalen Formen und/oder Oberflächenrauigkeiten.
  • Derartige Anwendungen können beispielsweise im Maschinenbau, im Automobilbau, in der Keramikindustrie, in der Schuhindustrie, in der Schmuckindustrie, in der Dentaltechnik, in der Medizin oder der Orthopädie zum Einsatz kommen.
  • Nachfolgend soll die Erfindung anhand einiger Ausführungsbeispiele genauer erläutert werden. Es zeigen
  • 1A und 1B schematische Darstellungen einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung mit dem durch die Vorrichtung erzeugten strukturierten Lichtmuster;
  • 2 weitere Variante einer erfindungsgemäßen Vorrichtung;
  • 3 weitere Variante einer erfindungsgemäßen Vorrichtung mit einer Steuervorrichtung zum Bewegen der Beleuchtungseinheit, der Freiformoptik oder des Gegenstands.
  • Die 1A zeigt eine Vorrichtung 1, welche eine Beleuchtungseinheit 10, eine Projektionsoptik in Form einer Freiformoptik 11 mit einer optischen Freiformoberfläche 13 umfasst, wobei das durch die Beleuchtungseinheit 10 emittierte Licht L mit Hilfe der Freiformoptik 11 in einer Objektebene 12 zu einem strukturierten Lichtmuster 14 geformt wird. Die Objektebene 12 befindet sich in einem Abstand 15 von der Freiformoptik. Bei der Herstellung der Freiformoberfläche 13 wurde darauf abgezielt, dass das in der 1B dargestellte Lichtmuster 14 die gewünschte Lichtintensitätsverteilung in der Objektebene aufweist.
  • Das mit Hilfe der Freiformoptik 11 geformte Lichtmuster 14 ist ein Streifenmuster aus einzelnen Lichtstreifen 16, welche in der 1B als dunkel markierte Bereiche dargestellt sind. Die Anzahl der Streifen 16 wird derart gewählt, dass ein Messfeld mit mindestens fünfzehn Lichtstreifen beleuchtet wird, so dass zumindest eine mittlere Ortsfrequenz gegeben ist. Alternativ kann der zu vermessende Gegenstand mit einer höheren Ortsfrequenz beleuchtet werden.
  • Das in der 1B dargestellte strukturierte Lichtmuster 14 wird allein durch die optische Freiformoberflache 13 der Freiformoptik 11 geformt, wobei die Freiformoberfläche auch dergestalt ausgebildet sein kann, dass das sich ergebende strukturierte Lichtmuster ein unregelmäßiges Lichtmuster mit unterschiedlichen Formen, wie beispielsweise Lichtlinien, Lichtpunkten oder Lichtkreuzen ist.
  • Das Streifenmuster bietet sich insbesondere dann an, wenn es um die Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten mindestens eines Gegenstands geht, da für ein derartiges Streifenmuster besonders leistungsfähige Algorithmen zum Erfassen der räumlichen Koordinaten existieren.
  • Die Beleuchtung der Freiformoptik erfolgt mittels der Beleuchtungseinheit 10, welche eine Lichtquelle 17 und einen Reflektor 18 umfasst, welcher z. B. auch durch eine oder mehrere Linsen ersetzt werden kann. Die Beleuchtungseinheit kann jedoch ebenfalls nur die Lichtquelle 17 umfassen, welche die Freiformoberfläche direkt bestrahlt. Wie an dem Gang der Lichtstrahlen L in der 1A zu erkennen ist, werden die durch die Lichtquelle 17 emittierten Lichtstrahlen gegebenenfalls planparallel, divergierend oder konvergierend auf die Freiformoberfläche 13 der Freiformoptik 11 gelenkt. Aufgrund der Form der Freiformoberfläche kommt es zu der durch den weiteren Verlauf der Lichtstrahlen L angedeuteten Ausbildung eines Streifenmusters, wie in der 1B dargestellt.
  • In der 1A handelt es sich bei der Freiformoptik 11 um einen Freiformspiegel. Wird als Freiformoptik ein Freiformspiegel verwendet, ist dieser nahezu wellenlängenunabhängig in seiner Strahlformungswirkung. Die Freiformoberfläche 13 besitzt eine optische Verarbeitungsqualität, d. h., die Freiformoberfläche 13 weist einen hohen Reflexionsgrad auf. Insbesondere besitzt die Freiformoberfläche 13 beispielsweise für sich genommen eine glatte Oberfläche mit geringer Rauigkeit, so dass eine Streuung des Lichts aufgrund von Oberflächenrauigkeiten der Freiformoptik 11 vernachlässigbar ist. Insgesamt bildet der Freiformspiegel das einzige strukturgebende Element der Vorrichtung 1, wobei der Freiformspiegel das entsprechende strukturierte Lichtmuster 16 formt und auf ein Messfeld 19 in der Objektebene 12 richtet. Die Freiformoberfläche 13 des Freiformspiegels kann in dem Bereich, welcher eintreffendes Licht in das Messfeld 19 der Objektebene formt, als eine stetig differenzierbare Funktion beschrieben werden. In der 2 ist eine alternative Variante der Vorrichtung 1' dargestellt, bei welcher neben der Beleuchtungseinheit 10, welche eine als Halogenlampe ausgebildete Lichtquelle 20 und eine im Abstand zur Lichtquelle 20 angeordnete bündelnde Linse 21 umfasst, ferner eine Freiformoptik 22 vorhanden, welche ebenfalls ein strukturiertes Lichtmuster 16 in der Objektebene 12 projiziert.
  • Im vorliegenden Ausführungsbeispiel der 2 handelt es sich bei der Freiformoptik 22 um eine Freiformlinse, durch welche das durch die Lichtquelle 20 emittierte und durch die Linse 21 gebündelte Licht in die Objektebene 12 abgelenkt wird, so dass die aufgrund der Freiformoberfläche 23 entstehende Strukturierung als ein strukturiertes Lichtmuster 16, wie in der 1B gezeigt, geformt wird.
  • Grundsätzlich ist eine Konzipierung der Freiformoptik als Kombination aus mehreren strukturgebenden Elementen, wie Freiformspiegeln, Freiformlinsen, diffraktiven optischen Elementen oder räumlichen Lichtmodulatoren möglich, wobei mindestens eine der Flächen eine Freiformfläche ist, die die spezifische Intensitätsverteilung des Lichts maßgeblich beeinflusst. Die Strahlformung an den Freiformoberflächen folgt den Prinzipien der Strahlenoptik und wird durch das Reflexionsgesetz im Falle des Freiformspiegels oder des Brechungsgesetzes im Falle der Freiformlinsen beschrieben.
  • In der 3 wird eine weitere erfindungsgemäße Vorrichtung 100 dargestellt. Wie bereits zu den Ausführungsbeispielen der 1A und 2 erläutert, umfasst die Vorrichtung 100 ebenfalls eine Beleuchtungseinheit 10 mit einer Lichtquelle 20 in Form eines Lasers und einer bündelnden Linse 21, welche das von der Lichtquelle 20 emittierte Licht auf eine Freiformoptik 22, wie in der 2 beschrieben, strahlt, wobei die Freiformoberfläche der Freiformoptik 22 ein Streifenmuster in einer Objektebene formt und innerhalb eines durch das strukturierte Lichtmuster beleuchteten Messfeldes in der Objektebene einen in dem Messfeld angeordneten Gegenstand 29 mit strukturiertem Licht beaufschlagt. Selbstverständlich kann die Freiformoptik auch ein Freiformspiegel, wie in der 1 gezeigt, sein.
  • Neben den bereits diskutierten Komponenten weist die Vorrichtung 100 ferner eine Aufnahmevorrichtung 24 auf, welche mit Hilfe eines CCD-Chips Bilder des strukturierten Lichtmusters auf einer Oberfläche des sich im Messfeld befindlichen Gegenstands 29 aufnimmt und diese Bilder an die Auswerteeinheit 25 übermittelt.
  • In der Auswerteeinheit befindet sich ein Mikroprozessor 26, welcher mit Hilfe im Stande der Technik bekannte Algorithmen die Entfernungen der einzelnen Oberflächenabschnitte des zu vermessenden Gegenstands 23 von beispielsweise der Freiformoptik ermittelt und in Form eines vorzugweise weiterverarbeitbaren Datenformats einem Benutzer zur Verfügung stellt bzw. das weiterverabeitbare Datenformat auf einem internen, nicht eingezeichneten Speicher der Auswerteeinheit vorhält.
  • Zusätzlich weist die Vorrichtung 100 eine Steuervorrichtung 27 auf, welche mit Aktoren 30, 31 und 32 verbunden ist, wobei die Ansteuerung der Aktoren 30, 31 und 32 mittels eines Mikroprozessors 28 gesteuert wird. Alternativ zu Mikroprozessoren können auch programmierbare Mikrocontroller, andere elektronische Steuervorrichtungen oder manuelle Verstellvorrichtungen verwendet werden. Zudem ist die Steuervorrichtung 27 derart mit der Auswerteeinheit 25 verbunden, dass durch die Auswerteeinheit 25 aufgenommene Bilder ausgewertet werden und Informationen bezüglich der Lage des strukturierten Lichtmusters auf der Oberfläche des aufzunehmenden Gegenstands 22 an die Steuervorrichtung übermittelbar sind.
  • Um eine zeitliche Variation der strukturierten Lichtmuster auf der im Messfeld der Objektebene befindlichen Oberfläche des Gegenstands 29 zu bewirken, kann die Steuervorrichtung 27 einen oder mehrere der Aktoren 30, 31 oder 32 ansteuern, wobei bevorzugt lediglich die Aktoren 30 und/oder 31 angesteuert werden, welche jeweils mit der Beleuchtungseinheit 10 bzw. Freiformoptik 22 verbunden sind. Die zeitliche Variation des strukturierten Lichtmusters kann aufgrund einer in Y-Richtung gerichteten Bewegung der Linse 21 oder der Freiformoptik 22 vorgenommen werden. Auch Bewegungen in Richtung der optischen Achse, d. h. der X-Achse bzw. in Richtung der Z-Achse sind mittels der Aktoren 30 und 31 einstellbar. Alternativ kann auch der Gegenstand 29 mittels des Aktors 32 verschoben bzw. rotiert werden.
  • Eine weitere Variante ist eine Verdrehung der Beleuchtungseinheit 10 um die Y- oder Z-Achse bzw. eine Verdrehung der Freiformoptik 22 um die Y- oder Z-Achse. Auch hierdurch können zeitlich veränderliche Intensitätsverteilungen auf einer Oberfläche des Gegenstands 29 erzeugt werden.
  • Bei entsprechender Ansteuerung weisen zeitlich aufeinander folgende Lichtmuster, vorzugsweise Streifenmuster, eine zueinander phasenverschobene, vorzugsweise sinusförmige Intensitätsverteilung auf.
  • Obgleich in den Ausführungsbeispielen lediglich ein Streifenmuster als strukturiertes Lichtmuster dargestellt ist, so kann das strukturierte Lichtmuster auch in Form konzentrischer Lichtkreise oder andere unregelmäßiger Formen vorliegen. Insbesondere können die Freiformoberflächen derart beschaffen sein, dass das strukturierte Lichtmuster geometrische Merkmale (d. h. Marken), wie beispielsweise Lichtkreuze oder andere geometrische Figuren umfasst, so dass die räumlichen Koordinaten des zu vermessenden Gegenstands 29 innerhalb des Messfeldes durch Korrelation bestimmt werden können.
  • Eine weitere Möglichkeit ist es, neben dem durch die Freiformoberflächen erzeugten strukturierten Lichtmuster ein stochastisches Muster auf der Oberfläche des zu vermessenden Gegenstands 29 zu erzeugen. Durch eine zeitliche Variation des Musters, beispielsweise durch einen Aktor, kann das Muster variiert werden, wodurch die räumlichen Koordinaten des zu vermessenden Gegenstands 22 mittels Korrelationsverfahren bestimmt werden können.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäßen Verfahren eignen sich insbesondere zum Vermessen von Abständen und zum Erfassen von Formen eines zu vermessenden Gegenstands. Hierdurch werden Anwendungen im Bereich der Qualitätskontrolle, bei der Digitalisierung von Prototypen, wie beispielsweise Prototypen, welche im Rahmen des Rapid-Prototyping hergestellt wurden, oder zur Aufnahme von beliebigen Oberflächentopografien oder Oberflächenrauigkeiten geeignet.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 10344051 A1 [0006, 0029]
    • DE 19633686 C2 [0007]
    • US 6011874 [0008]

Claims (15)

  1. Vorrichtung (100) zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten mindestens eines Gegenstandes aufweisend: eine Beleuchtungseinheit (10); eine Projektionsoptik, welche derart ausgebildet ist, dass durch die Beleuchtungseinheit emittiertes Licht (L) auf ein in einer Objektebene (12) der Projektionsoptik befindliches Messfeld (19) projiziert, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsoptik mindestens eine Freiformoptik (11; 22) umfasst, welche derart ausgebildet ist, dass von der Beleuchtungseinheit emittiertes Licht mittels mindestens einer Freiformoberfläche (13) der Freiformoptik zu einem räumlich strukturierten Lichtmuster (14) in der Objektebene (12) geformt wird.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsoptik ausschließlich Freiformoptiken (11; 22) umfasst.
  3. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Freiformoberfläche eine optische Oberflächenqualität aufweist, wobei die Freiformoberfläche vorzugsweise keine rotationssymmetrische Form besitzt.
  4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Freiformoptik (11; 22) einen Freiformspiegel (11) oder eine Freiformlinse (22) umfasst.
  5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Freiformoptik (11; 22) derart ausgebildet ist, dass das räumlich strukturierte Lichtmuster (14) ein Streifenmuster ist.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Freiformoptik (11; 22) derart ausgebildet ist, dass das in der Objektebene befindliche Messfeld (19) mit mindestens 15 Streifen beleuchtet wird.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Freiformoptik (11; 22) derart ausgebildet ist, dass das räumlich strukturierte Lichtmuster (14) ein stochastisches Muster ist.
  8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungsvorrichtung (10) unstrukturiertes Licht emittiert und ausschließlich die mindestens eine Freiformoptik (11; 22) eine Strukturierung des Lichts zum strukturierten Lichtmuster (14) in der Objektebene (12) bewirkt.
  9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Steuervorrichtung (27) vorhanden ist, mit welcher die Form oder Lage des strukturierten Lichtmusters steuerbar ist, wobei die Steuervorrichtung vorzugsweise einen Mikroprozessor (28) umfasst.
  10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Aufnahmevorrichtung (24) zur Erzeugung eines Bildes des Gegenstandes im Messfeld und/oder eine Auswerteeinheit (25) zur Auswertung des erzeugten Bildes und zur Bestimmung der Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten des mindestens einen Gegenstands oder deren zeitlicher Änderungen umfasst ist.
  11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufnahmevorrichtung (24) eine CCD-Kamera, eine CMOS-Kamera oder eine sonstige Bildaufnahmevorrichtung umfasst und/oder die Auswerteeinheit (25) einen Mikroprozessor aufweist.
  12. Verfahren zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Komponenten mindestens eines Gegenstands oder deren zeitlicher Änderung, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst: a) Emission von Licht mittels einer Beleuchtungsvorrichtung; b) Formung des emittierten Lichts mittels einer Freiformoptik zu einem strukturierten Lichtmuster, welches auf ein in einer Objektebene der Freiformoptik ausgebildetes Messfeld geformt wird; c) Erfassung mindestens eines Bildes einer Oberfläche des Gegenstands mittels einer Aufnahmevorrichtung; d) Bestimmung einer Entfernung und/oder räumlicher Koordinaten des Gegenstands oder deren zeitlicher Änderungen mittels einer Auswerteeinheit.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass zeitlich aufeinanderfolgend mehrere, jeweils verschieden strukturierte oder positionierte Lichtmuster erzeugt werden, wobei aufeinanderfolgende Lichtmuster vorzugsweise eine zueinander phasenverschobene Intensitätsverteilung aufweisen.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass das strukturierte Lichtmuster mindestens zwei Lichtpunkte und/oder zwei Lichtlinien (16) und/oder ein zweidimensionales Lichtmuster in Form sich kreuzender Lichtlinien (16) umfasst.
  15. Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11 zur Qualitätskontrolle, zur Digitalisierung von Prototypen, zur Aufnahme von Oberflächentopografien und/oder zur Bestimmung von dreidimensionalen Formen und/oder Oberflächenrauigkeiten.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014102341A1 (en) * 2012-12-31 2014-07-03 Iee International Electronics & Engineering S.A. Optical system generating a structured light field from an array of light sources by meand of a refracting or reflecting light structuring element
WO2014124634A1 (de) * 2013-02-13 2014-08-21 Otto-Von-Guericke-Universität Magdeburg Vorrichtung zur generierung von lichtmustern mit einer eindimensional fokussierten beleuchtungseinrichtung
DE102013214997A1 (de) * 2013-07-31 2015-02-05 Siemens Aktiengesellschaft Anordnung zur dreidimensionalen Erfassung eines länglichen Innenraumes
DE102015216985A1 (de) 2015-09-04 2017-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Projektion mit optischen Freiformflächen
DE102017202651A1 (de) 2017-02-20 2018-08-23 Siemens Aktiengesellschaft Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung mittels projizierter Muster mit virtueller Ebene
DE102017202652A1 (de) 2017-02-20 2018-08-23 Siemens Aktiengesellschaft Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung mittels projizierter Muster
CN110196527A (zh) * 2018-02-26 2019-09-03 光宝光电(常州)有限公司 微型化结构光投射模块
DE102018208417A1 (de) * 2018-05-28 2019-11-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Projektionsvorrichtung und Projektionsverfahren
DE112014006706B4 (de) * 2014-05-27 2020-09-10 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Optischer Sensor für ein Koordinatenmessgerät sowie Beleuchtungsmodul für einen solchen optischen Sensor und Verfahren zur Vermessung von Innengewinden oder Bohrlöchern eines Werkstücks mit dem optischen Sensor bzw. Beleuchtungsmodul

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105372818B (zh) * 2015-12-02 2017-10-03 江南大学 用于发散激光束的光束整形方法
CN107655459B (zh) * 2017-09-07 2020-11-27 南京理工大学 一种野外岩石结构面粗糙度的量测及计算方法
CN111491444B (zh) * 2020-05-19 2021-07-27 常州纵慧芯光半导体科技有限公司 一种测距传感器发射模组以及测距传感器
CN113325593B (zh) * 2021-06-03 2022-05-31 北京理工大学 一种基于自由曲面透镜的激光分束系统

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19633686A1 (de) * 1996-08-12 1998-02-19 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten von Gegenständen und/oder deren zeitlicher Änderung
DE19639999A1 (de) * 1996-09-18 1998-03-26 Omeca Messtechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung für die 3D-Messung
DE19743811A1 (de) * 1997-10-04 1999-05-20 Wolf Henning Meßverfahren und Meßvorrichtung mit drehbar gelagertem Gitterträger
US6011874A (en) 1995-04-28 2000-01-04 Forskningscenter Riso (Danish National Laboratory) Phase contrast imaging
DE10344051A1 (de) 2003-09-23 2005-04-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Entfernung und/oder räumlichen Koordinaten eines Gegenstandes
US20070091302A1 (en) * 2005-10-24 2007-04-26 General Electric Company Methods and apparatus for inspecting an object
DE102007022361A1 (de) * 2007-05-04 2008-11-06 Friedrich-Schiller-Universität Jena Vorrichtung und Verfahren zum berührungslosen Erfassen räumlicher Koordinaten einer Oberfläche
DE102007060263A1 (de) * 2007-08-16 2009-02-26 Steinbichler Optotechnik Gmbh Vorrichtung zur Ermittlung der 3D-Koordinaten eines Objekts, insbesondere eines Zahns

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2733062B1 (fr) * 1995-04-13 1997-06-27 Thomson Multimedia Sa Systeme de projection comportant un reflecteur et une lentille de champ a surface libre
US7042655B2 (en) * 2002-12-02 2006-05-09 Light Prescriptions Innovators, Llc Apparatus and method for use in fulfilling illumination prescription
DE10260232A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 Swissoptic Ag Verfahren und Messeinrichtung zur Ermittlung der Fprm einer Oberfläche
GB2410794A (en) * 2004-02-05 2005-08-10 Univ Sheffield Hallam Apparatus and methods for three dimensional scanning
CN101539267B (zh) * 2008-03-20 2012-11-21 香港理工大学 自由曲面透镜配光的大功率led路灯灯头

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6011874A (en) 1995-04-28 2000-01-04 Forskningscenter Riso (Danish National Laboratory) Phase contrast imaging
DE19633686A1 (de) * 1996-08-12 1998-02-19 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten von Gegenständen und/oder deren zeitlicher Änderung
DE19633686C2 (de) 1996-08-12 1998-08-20 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Entfernungen und/oder räumlichen Koordinaten von Gegenständen und/oder deren zeitlicher Änderung
DE19639999A1 (de) * 1996-09-18 1998-03-26 Omeca Messtechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung für die 3D-Messung
DE19743811A1 (de) * 1997-10-04 1999-05-20 Wolf Henning Meßverfahren und Meßvorrichtung mit drehbar gelagertem Gitterträger
DE10344051A1 (de) 2003-09-23 2005-04-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Entfernung und/oder räumlichen Koordinaten eines Gegenstandes
US20070091302A1 (en) * 2005-10-24 2007-04-26 General Electric Company Methods and apparatus for inspecting an object
DE102007022361A1 (de) * 2007-05-04 2008-11-06 Friedrich-Schiller-Universität Jena Vorrichtung und Verfahren zum berührungslosen Erfassen räumlicher Koordinaten einer Oberfläche
DE102007060263A1 (de) * 2007-08-16 2009-02-26 Steinbichler Optotechnik Gmbh Vorrichtung zur Ermittlung der 3D-Koordinaten eines Objekts, insbesondere eines Zahns

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10048504B2 (en) 2012-12-31 2018-08-14 Iee International Electronics & Engineering S.A. Optical system generating a structured light field from an array of light sources by means of a refracting or reflecting light structuring element
WO2014102341A1 (en) * 2012-12-31 2014-07-03 Iee International Electronics & Engineering S.A. Optical system generating a structured light field from an array of light sources by meand of a refracting or reflecting light structuring element
CN104956179B (zh) * 2012-12-31 2018-10-26 Iee国际电子工程股份公司 利用折射或反射光的结构化元件从光源阵列生成结构化光场的光学系统
WO2014124634A1 (de) * 2013-02-13 2014-08-21 Otto-Von-Guericke-Universität Magdeburg Vorrichtung zur generierung von lichtmustern mit einer eindimensional fokussierten beleuchtungseinrichtung
DE102013002399B4 (de) * 2013-02-13 2016-12-22 Chromasens Gmbh Vorrichtung zur Generierung von Lichtmustern mit einer eindimensional fokussierten Beleuchtungseinrichtung
DE102013214997A1 (de) * 2013-07-31 2015-02-05 Siemens Aktiengesellschaft Anordnung zur dreidimensionalen Erfassung eines länglichen Innenraumes
DE112014006706B4 (de) * 2014-05-27 2020-09-10 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Optischer Sensor für ein Koordinatenmessgerät sowie Beleuchtungsmodul für einen solchen optischen Sensor und Verfahren zur Vermessung von Innengewinden oder Bohrlöchern eines Werkstücks mit dem optischen Sensor bzw. Beleuchtungsmodul
US10764545B2 (en) 2015-09-04 2020-09-01 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Projection device and method for projection comprising optical free-form surfaces
DE102015216985A1 (de) 2015-09-04 2017-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Projektion mit optischen Freiformflächen
DE102017202651A1 (de) 2017-02-20 2018-08-23 Siemens Aktiengesellschaft Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung mittels projizierter Muster mit virtueller Ebene
DE102017202652A1 (de) 2017-02-20 2018-08-23 Siemens Aktiengesellschaft Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung mittels projizierter Muster
CN110196527A (zh) * 2018-02-26 2019-09-03 光宝光电(常州)有限公司 微型化结构光投射模块
DE102018208417A1 (de) * 2018-05-28 2019-11-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Projektionsvorrichtung und Projektionsverfahren
US11029145B2 (en) 2018-05-28 2021-06-08 Fraunhofer-Gasellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Projection device and projection method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012123128A1 (de) 2012-09-20

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