DE102011007730A1 - Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator - Google Patents
Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator Download PDFInfo
- Publication number
- DE102011007730A1 DE102011007730A1 DE102011007730A DE102011007730A DE102011007730A1 DE 102011007730 A1 DE102011007730 A1 DE 102011007730A1 DE 102011007730 A DE102011007730 A DE 102011007730A DE 102011007730 A DE102011007730 A DE 102011007730A DE 102011007730 A1 DE102011007730 A1 DE 102011007730A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- purge gas
- laser
- laser resonator
- gas
- laser device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims abstract description 73
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 claims description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 63
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000029305 taxis Effects 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/025—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings
- H01S3/027—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings comprising a special atmosphere inside the housing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft eine Laservorrichtung mit mindestens einem gasgespülten Laserresonator.
- In der Materialbearbeitung werden Laser mit hoher Leistung und guter Strahlqualität benötigt, welche über einen langen Zeitraum eine hohe Stabilität aufweisen. Eine mögliche Quelle, die zu Instabilitäten im Laserbetrieb führen kann, sind Verunreinigungen (Partikel, Feuchte, organische Verbindungen) in der Laservorrichtung. Verunreinigungen können sich im Laserresonator und in der Pumpeinheit auf Komponenten, wie z. B. Spiegeln, absetzen und zu Verschleiß führen oder Störungen bilden, so dass die Strahlqualität oder die Leistung während des Betriebs abnimmt. Dies kann durch eine Gasspülung des Laserresonators und der Pumpeinheit verhindert bzw. minimiert werden.
- Konventionelle Gasspülungen bestehen in einer ersten Variante aus einem Kompressor und einem Membrantrockner zur Luftaufbereitung und sind üblicherweise für einen deutlich höheren Volumenstrom ausgelegt. Hierbei wird aus der Umgebung Spülgas über eine Luftaufbereitungseinheit angesaugt, aufbereitet und durch den Laserresonator und die Pumpeinheit geleitet und am Ende wieder an die Umgebung abgegeben. Das Spülgas wird permanent aus der Umgebung nachgeführt und muss daher ebenfalls fortlaufend gereinigt werden. Nachteilig ist, dass die Komponenten teuer und verschleißanfällig sind.
- In einer zweiten Variante wird Spülgas aus Flaschen mit definierter Qualität, z. B. Stickstoff, verwendet. Dieses wird permanent aus der Flasche nachgeführt, aufbereitet, durch den Laserresonator und die Pumpeinheit geleitet und am Ende wieder an die Umgebung abgegeben.
- Aus der
US 2003/0007537 A1 - Ein Nachteil dieses bekannten Gasspülungssystem besteht darin, dass es bei Umgebungsdruck betrieben wird. Ein geschlossenes Gehäuse hermetisch abzudichten, ist eine große Herausforderung und nicht immer umsetzbar. So können bei einer Undichtigkeit aus der Umgebung Verunreinigungen in das Gasspülungssystem gelangen, die sich auf Laserkomponenten absetzen können, ohne vorher aus dem Spülgas gefiltert zu werden, wodurch die Stabilität des Laserbetriebs beeinträchtigt werden kann.
- Demgegenüber ist es die Aufgabe der Erfindung, eine Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator dahingehend weiterzubilden, dass möglichst keine Verunreinigungen aus der Umgebung in die Gasspülung gelangen können.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Laservorrichtung mit den Merkmalen von Patentanspruch 1 gelöst.
- Erfindungsgemäß erfolgt die Gasspülung mit einem Spülgaskreislauf, der eine Außenspülgasansaugung zum Ausgleich von Leckverlusten im Spülgaskreislauf aufweist. Dieser Spülgaskreislauf wird bei einem leichten Überdruck und mit einer definierten Leckrate betrieben. Für alle Komponenten im Spülgaskreislauf ist eine maximale Leckrate definiert. Eine definierte, aber geringe Leckrate deckt Fertigungstoleranzen ab und führt zu einer entsprechend langen Standzeit des Trockenmittelvorrats und des Filters für Partikel und organische Stoffe im Spülgaskreislauf. Gleichzeitig wird immer ein Überdruck im Laserresonator und in der Pumpeinheit gewährleistet. Durch den Einsatz einer Drossel im Rücklauf stromaufwärts der Ansaugöffnung kann die Kreislaufluftmenge feinjustiert werden. Das fehlende Spülgas wird dem Spülgaskreislauf automatisch über die nach außen drucklos offene Spülgasansaugung wieder zugeführt. Durch den Überdruck stromaufwärts der Drossel und dem Ausgangsfilter des letzten Verbrauchers ist gewährleistet, dass keine Verunreinigungen aus der Umgebung in das System gelangen können. So kann ein stabiler Laserbetrieb und eine lange Lebensdauer des Spülsystems gewährleistet werden.
- Die Erfindung betrifft in einem weiteren Aspekt auch ein Verfahren zum Spülen eines Laserresonators einer wie oben ausgebildeten Laservorrichtung, wobei der Spülgaskreislauf mit einem Überdruck gegenüber dem in der Spülgasaußenzufuhr herrschenden Spülgasdruck und mit einer definierten Leckrate betrieben wird.
- Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung und der Zeichnung. Ebenso können die vorstehend genannten und die noch weiter aufgeführten Merkmale je für sich oder zu mehreren in beliebigen Kombinationen Verwendung finden. Die gezeigte und beschriebene Ausführungsform ist nicht als abschließende Aufzählung zu verstehen, sondern hat vielmehr beispielhaften Charakter für die Schilderung der Erfindung.
- Die einzige
1 zeigt schematisch eine Laservorrichtung mit dem erfindungsgemäßen Spülgaskreislauf. - Die gezeigte Laservorrichtung
1 umfasst einen gasgespülten Laserresonator2 zum Erzeugen eines Laserstrahls3 , eine gasgespülte Pumpeinheit4 zum optischen Pumpen des Laserresonators2 sowie einen geschlossenen Spülgaskreislauf10 , in dem der Laserresonator2 und die Pumpeinheit4 angeordnet sind. Das von der Pumpeinheit4 erzeugte Pumplicht ist mit5 bezeichnet. - Stromaufwärts des Laserresonators
2 weist der Spülgaskreislauf10 sowohl einen Niederdruckerzeuger11 zur Erzeugung eines Spülgasüberdrucks im Spülgaskreislauf10 als auch zwischen dem Niederdruckerzeuger11 und dem Laserresonator2 eine Reinigungseinrichtung12 ,13 zum Reinigen des im Spülgaskreislauf10 zirkulierenden Spülgases A auf. Als Spülgas kann beispielsweise Luft verwendet werden, aber auch Gase mit einer anderen Zusammensetzung sind denkbar. Der z. B. als Lüfter/Gebläse ausgebildete Niederdruckerzeuger11 dient zur Erzeugung eines Überdrucks im Bereich von ca. 100 Pa bis 5500 Pa im Spülgaskreislauf10 . Die Reinigungseinrichtung kann ein Trockenmittel12 , z. B. Zeolith oder Silikatgel, zum Abscheiden von im Spülgas A enthaltenem Wasserdampf aufweisen. Um Partikel verschiedener Größe optimal zu filtern, kann die Reinigungseinrichtung außerdem einen mehrstufigen Partikelfilter13a , einen Aktivkohlefilter13b zur Reinigung von organischen Bestandteilen und einen abschließenden Feinstfilter13c aufweisen. Alternativ oder zusätzlich können auch andere Filter, wie z. B. eine Kombination aus UV-LED und Molekularsieb, oder eine Kältefalle zur Reinigung der organischen Bestandteile verwendet werden. Zusätzliche Partikelfilter (Feinfilter)14 können optional unmittelbar stromaufwärts und -abwärts des Laserresonators2 und der Pumpeinheit3 zum Einsatz kommen. So wird insbesondere eine Partikelverunreinigung auf dem Weg vom Feinstfilter13c zum Resonator2 unterdrückt. - Stromabwärts des Laserresonators
2 weist der Spülgaskreislauf10 zwischen der Pumpeinheit4 und dem Niederdruckerzeuger11 eine zu einer Spülgasaußenzufuhr15 offene Ansaugöffnung16 auf, die der Außenluftansaugung zum Ausgleich von Leckverlusten im Spülgaskreislauf10 dient. Der vom Niederdruckerzeuger11 erzeugte Spülgasdruck p1 ist größer als der in der Spülgasaußenzufuhr15 herrschende Spülgasdruck p0, also im Fall von zugeführter Außenluft größer als der Atmosphärendruck. - Um eine erhöhte Verunreinigung im Laserresonator
2 durch von außen in den Spülgaskreislauf10 dringende ungereinigte Luft auszuschließen, wird das System bei leichtem Überdruck und mit einer definierten Leckrate betrieben. Eine Leckrate von maximal 10% je Durchlauf durch das Lasersystem hat sich als besonders vorteilhaft erwiesen. Durch die Leckverluste in der Laservorrichtung1 und die Druckerhöhung durch den Niederdruckerzeuger11 wird Luft automatisch über die Ansaugöffnung16 dem Spülgaskreislauf10 zugeführt. So stellt sich die Ansaugmenge entsprechend der Leckrate im Spülgaskreislauf10 selber ein ohne aufwändige Steuereinheiten an Ventilen. - Es sind auch Gasspülkreisläufe mit mehreren in Reihe oder parallel zueinander angeordneten gasgespülten Laserresonatoren und mit mehreren in Reihe oder parallel zueinander angeordneten gasgespülten Pumpeinheiten denkbar. Während des Normalbetriebs der Gasspülung wird mit einem Durchsatz im Bereich von 5–100 Liter pro Stunde gearbeitet. Umfasst die Laservorrichtung
q1 mehrere Laserresonatoren2 oder Pumpeinheiten4 , kann sich der Gasverbrauch entsprechend erhöhen. Optional kann eine Drossel17 zum Systemausgleich stromaufwärts der Ansaugöffnung16 angebracht sein, um fertigungsbedingte Durchsatzschwankungen des Spülgases sowie bezüglich ihres Spülgasdurchsatzes unterschiedliche Laserresonatoren mit dem gleichen Spülgaskreislauf10 bedienen zu können. - Beim Anschalten der Laservorrichtung
1 sollte der Laserresonator2 eine zeitlang gespült werden, um sicher zu stellen, dass die Verunreinigungen, die sich während der Standzeit angesammelt haben, insbesondere Feuchtigkeit, aus dem Spülgaskreislauf10 verdrängt sind. Um die Startphase des Laserbetriebs zu verkürzen, kann mit einem Boostbetrieb gearbeitet werden. Dieser ermöglicht ein schnelleres, effizienteres Spülen der Laservorrichtung1 , um so schneller die gewünschten Bedingungen in der Laservorrichtung1 beim Einschaltvorgang zu erreichen. Hierbei wird für den Zeitraum der Startphase, also vor dem Laserbetrieb, der Spülgaskreislauf10 mit einem erhöhten Gasfluss betrieben. Dieser lässt sich über den Niederdruckerzeuger11 steuern. Vorteilhaft wird hierbei ein Gasfluss, der ein Vielfaches des Normalbetriebs entspricht, verwendet. Ein Bereich von 5 bis 20-fach hat sich als vorteilhaft erwiesen. Um negative Einflüsse durch Gasströmungen im Spülgaskreislauf10 zu unterbinden sowie um mit einem minimalen Spülgasverbrauch (Ausstoß an den Lecks) auszukommen und so die Lebensdauer des Systems zu erhöhen, wird während des Laserbetriebs mit einem geringeren Gasfluss im Spülgaskreislauf10 gearbeitet. - Es hat sich auch gezeigt, dass die Gasspülung nicht über die gesamte Laserbetriebsdauer benötigt wird. Dies ermöglicht ein gezieltes Aus- und Anschalten des Spülgaskreislaufs
10 unabhängig vom Laserbetrieb. Das intermittierende Aus- und Anschalten wird am Niederdruckerzeuger11 geregelt. Er kann zeitgesteuert nach einem definierten Zeitraum ab und wieder angeschaltet werden oder aber über ein oder mehrere Sensoren (z. B. Feuchtesensoren) geregelt werden. - Alternativ könnte auch zwischen der Ansaugöffnung
16 und dem Trockenmittel12 ein Vorfilter eingebaut sein und bei der Filterstufe13 der Filter13c wegfallen. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- US 2003/0007537 A1 [0005]
Claims (11)
- Laservorrichtung (
1 ) mit mindestens einem gasgespülten Laserresonator (2 ), der in einem Spülgaskreislauf (10 ) angeordnet ist, welcher stromaufwärts des Laserresonators (2 ) sowohl einen Niederdruckerzeuger (11 ) zur Erzeugung eines Spülgasüberdrucks im Spülgaskreislauf (10 ) als auch zwischen dem Niederdruckerzeuger (11 ) und dem Laserresonator (2 ) eine Reinigungseinrichtung (12 ,13 ) zum Reinigen des Spülgases (A) sowie stromabwärts des Laserresonators (2 ) zwischen dem Laserresonator (2 ) und dem Niederdruckerzeuger (11 ) eine zu einer Spülgasaußenzufuhr (15 ) offene Ansaugöffnung (16 ) aufweist, wobei der vom Niederdruckerzeuger (11 ) erzeugte Spülgasdruck (p1) größer ist als der in der Spülgasaußenzufuhr (15 ) herrschende Spülgasdruck (p0). - Laservorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungseinrichtung ein Trockenmittel (
12 ) zum Abscheiden von im Spülgas (A) enthaltenem Wasserdampf und/oder mindestens einen Partikelfilter (13 ) zum Filtern des Spülgases (A) aufweist. - Laservorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass unmittelbar stromaufwärts und/oder unmittelbar stromabwärts des Laserresonators (
2 ) ein Partikelfilter (13 ) zum Filtern des Spülgases (A) vorgesehen ist. - Laservorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass stromaufwärts der Ansaugöffnung (
16 ) eine Drossel (17 ) zwischen dem Laserresonator (2 ) und der Ansaugöffnung (16 ) angeordnet ist. - Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine gasgespülte Pumpeinheit (
4 ) zum Pumpen des Laserresonators (2 ) in dem Spülgaskreislauf (10 ) angeordnet ist. - Laservorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Pumpeinheit (
4 ) stromabwärts des Laserresonators (2 ) zwischen dem Laserresonator (2 ) und der Ansaugöffnung (16 ) angeordnet ist. - Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Leckrate des Spülgaskreislaufs (
10 ) maximal 10% pro Durchlauf durch den Spülgaskreislauf (10 ) beträgt. - Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Normalbetrieb des Spülgaskreislaufs (
10 ) für jeden gasgespülten Laserresonator (2 ) der Durchsatz ca. 5–100 Liter pro Stunde beträgt. - Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere in Reihe oder parallel zueinander angeordnete gasgespülte Laserresonatoren (
2 ) in dem Spülgaskreislauf (10 ) angeordnet sind. - Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere in Reihe oder parallel zueinander angeordnete gasgespülte Pumpeinheiten (
4 ) in dem Spülgaskreislauf (10 ) angeordnet sind. - Verfahren zum Spülen eines Laserresonators (
2 ) einer Laservorrichtung (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit einem Spülgas (A), wobei der Spülgaskreislauf (10 ) mit einem Überdruck (p1) gegenüber dem in der Spülgasaußenzufuhr (15 ) herrschenden Spülgasdruck (p0) und mit einer definierten Leckrate betrieben wird.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011007730.8A DE102011007730B4 (de) | 2011-04-20 | 2011-04-20 | Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator und zugehöriges Spülverfahren |
US14/112,755 US8831057B2 (en) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | Laser device having a gas-purged laser resonator |
CN201280030117.3A CN103608984B (zh) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | 具有气体冲洗的激光谐振器的激光设备 |
PCT/EP2012/057129 WO2012143423A1 (de) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | Laservorrichtung mit einem gasgespülten laserresonator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011007730.8A DE102011007730B4 (de) | 2011-04-20 | 2011-04-20 | Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator und zugehöriges Spülverfahren |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102011007730A1 true DE102011007730A1 (de) | 2012-10-25 |
DE102011007730B4 DE102011007730B4 (de) | 2017-03-30 |
Family
ID=46025648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102011007730.8A Active DE102011007730B4 (de) | 2011-04-20 | 2011-04-20 | Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator und zugehöriges Spülverfahren |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8831057B2 (de) |
CN (1) | CN103608984B (de) |
DE (1) | DE102011007730B4 (de) |
WO (1) | WO2012143423A1 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6235527B2 (ja) * | 2015-05-14 | 2017-11-22 | ファナック株式会社 | 結露の発生を予測する機能を備えたレーザ装置 |
US20170133813A1 (en) * | 2015-11-09 | 2017-05-11 | Transformation Point Technologies, LLC | Lasing gas recycling |
CN109570148A (zh) * | 2018-11-08 | 2019-04-05 | 中国科学院半导体研究所 | 直连空压机的激光清洗一体机 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030007537A1 (en) | 2001-07-09 | 2003-01-09 | Yang Pang | Closed-loop purging system for laser |
US20030227957A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-11 | Yang Pang | Closed-loop purging system for laser |
US20090141746A1 (en) * | 2005-06-02 | 2009-06-04 | Mitsubishi Electric Corporation | Solid-state laser device |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010075254A2 (en) | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Ams Research Corporation | Laser resonator |
-
2011
- 2011-04-20 DE DE102011007730.8A patent/DE102011007730B4/de active Active
-
2012
- 2012-04-19 WO PCT/EP2012/057129 patent/WO2012143423A1/de active Application Filing
- 2012-04-19 US US14/112,755 patent/US8831057B2/en active Active
- 2012-04-19 CN CN201280030117.3A patent/CN103608984B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030007537A1 (en) | 2001-07-09 | 2003-01-09 | Yang Pang | Closed-loop purging system for laser |
US20030227957A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-11 | Yang Pang | Closed-loop purging system for laser |
US20090141746A1 (en) * | 2005-06-02 | 2009-06-04 | Mitsubishi Electric Corporation | Solid-state laser device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103608984A (zh) | 2014-02-26 |
US8831057B2 (en) | 2014-09-09 |
DE102011007730B4 (de) | 2017-03-30 |
WO2012143423A1 (de) | 2012-10-26 |
US20140064309A1 (en) | 2014-03-06 |
CN103608984B (zh) | 2016-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2582560B2 (de) | Einrichtung, verfahren und system zur druckluftsteuerung und druckluftversorgung | |
DE69825275T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur rückgewinnung von edelgas | |
DE102014104172A1 (de) | Werkzeugmaschine mit Schneidfluidfiltriervorrichtung | |
WO2006048183A1 (de) | Verfahren zum herausfiltern von gerüchen aus einer luftströmung und filtervorrichtung mit einem geruchsfilter | |
DE102011007730B4 (de) | Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator und zugehöriges Spülverfahren | |
DE10302057B4 (de) | Verdampfungseinheit für einen Kraftstofffilter | |
DE102013105723A1 (de) | Filtersystem und Verfahren zum Reinigen der Ansaugluft einer Gasturbine | |
EP1571024B1 (de) | Verfahren zum Reinigen von Atmosphärenluft | |
DE102009023044A1 (de) | Verfahren zur Aufbereitung von Druckluft, Druckluftaufbereitungseinrichtung sowie Kraftfahrzeug mit derartiger Einrichtung | |
DE10361266B4 (de) | Vorrichtung zur Beseitigung von Luftverunreinigungen in einer Nasslackieranlage | |
DE102014218344A1 (de) | Verfahren und regenerative Abscheideeinrichtung zum Abtrennen von Verunreinigungen aus Prozessabluft | |
EP0167914B1 (de) | Anlage zur Metallpulver-Herstellung durch Edelgas- oder Stickstoffverdüsung | |
DE102015212040A1 (de) | Verfahren zur Regenerierung eines VOC-Adsorbers und Adsorbervorrichtung | |
DE102008053996A1 (de) | Verfahren zum Betreiben einer Druckluftversorgungsanlage für ein Kraftfahrzeug | |
EP1838998A1 (de) | Lüftungsger[t | |
DE102010038928A1 (de) | Filtereinrichtung und Filtrieranlage | |
EP3371021B1 (de) | Druckluftaufbereitungseinrichtung und verfahren zum betreiben einer solchen | |
DD209511A1 (de) | Anordnung zur reinigung und rueckgewinnung von fluor-chlor-kohlenwasserstoff kaeltemitteln | |
DE3627875C2 (de) | ||
DE102020132372A1 (de) | Luftreinigungssystem und Verfahren zur Reinigung eines Luftreinigungssystems | |
EP3323493B1 (de) | Mehrstufige filteranlage und verfahren zum reinigen eines luftstroms | |
DE102009012680A1 (de) | Verfahren zur Reinigung einer Luftströmung und Reinigungsvorrichtung | |
DE2116996A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ent fernen von in einem Gas enthaltenen schädlichen Verunreinigungssubstanzen | |
DE202013012016U1 (de) | Belüftungsvorrichtung | |
EP3907192B1 (de) | Verfahren zur konservierung einer wasserbehandlungsanlage, mit oberflächenbenetzung einer wasserbehandlungsstruktur |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: TRUMPF LASER GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: TRUMPF LASER GMBH + CO. KG, 78713 SCHRAMBERG, DE Effective date: 20141027 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE, DE Effective date: 20141027 Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE PARTNERSCH, DE Effective date: 20141027 |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: TRUMPF LASER SE, DE Free format text: FORMER OWNER: TRUMPF LASER GMBH, 78713 SCHRAMBERG, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: PROBST, MATTHIAS, DE |