DE102010045046A1 - Cylindrical precursor container for vaporizer used for e.g. atomic layer deposition method, has pressure spring that presses valve temple with sealing disc on inner end of inner pipe and closes steam and precursor exits and air inlet - Google Patents
Cylindrical precursor container for vaporizer used for e.g. atomic layer deposition method, has pressure spring that presses valve temple with sealing disc on inner end of inner pipe and closes steam and precursor exits and air inlet Download PDFInfo
- Publication number
- DE102010045046A1 DE102010045046A1 DE201010045046 DE102010045046A DE102010045046A1 DE 102010045046 A1 DE102010045046 A1 DE 102010045046A1 DE 201010045046 DE201010045046 DE 201010045046 DE 102010045046 A DE102010045046 A DE 102010045046A DE 102010045046 A1 DE102010045046 A1 DE 102010045046A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- evaporator
- container
- precursor
- valve
- cylindrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft einen zylindrischen Precursorbehälter (Vorläuferbehälter) für Verdampfer und einen entsprechend ausgestalteten Verdampfer. Derartige Behälter und Verdampfer werden insbesondere für ALD-(Atomic Layer Deposition) und CVD-(Chemical Vapor Deposition)Verfahren eingesetzt.The invention relates to a cylindrical Precursorbehälter (precursor container) for evaporators and a correspondingly designed evaporator. Such containers and evaporators are used in particular for ALD (Atomic Layer Deposition) and CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
Es ist eine Vielzahl derartiger Behälter unterschiedlicher Bauart bekannt. Diese Behälter haben gemeinsam, dass zumindest eine Ausgangsleitung mit Ventiladapter sowie ein Ventil zum Schließen der Leitung vorgesehen sind (siehe z. B.
Die eingesetzten Precursoren (Vorläufer) haben oft einen sehr geringen Dampfdruck bei Raumtemperatur, so dass Precursorbehälter, Ventil und Rohrleitungen zur Verdampfung beheizt werden müssen. Hierfür kann der Behälter entweder mit Ventil und Rohrleitungen in eine beheizte Kammer eingebaut werden oder es sind die einzelnen Komponenten mit Mantelheizung und eigener Temperaturregelung auszurüsten.The precursors used (precursor) often have a very low vapor pressure at room temperature, so that precursor container, valve and piping for evaporation must be heated. For this purpose, the container can either be installed with valve and piping in a heated chamber or it is the individual components with jacket heating and own temperature control equip.
Bekannte zylindrische Precursorbehälter haben außenliegende Rohrleitungen und Ventile, sind nur mit hohem Aufwand gleichmäßig beheizbar und eine Reinigung bei Verschmutzung oder Precursorwechsel ist schwierig, da gebogene Rohre oder handelsübliche Ventile nicht einsehbar sind.Known cylindrical Precursorbehälter have external piping and valves are uniformly heated only with great effort and cleaning in case of contamination or Precursorwechsel is difficult because bent pipes or commercially available valves are not visible.
Aufgabe der Erfindung ist ein neuer Precursorbehälter, welcher mit geringem Aufwand, einschließlich Ventil und Rohrleitung, gleichmäßig beheizbar und einfach zu reinigen ist. Weiterhin soll ein einfaches Handling des Precursorbehälters unter Schutzgasatmosphäre in einer Glovebox (Handschuhbox) ermöglicht werden.The object of the invention is a new Precursorbehälter which with little effort, including valve and pipe, evenly heated and easy to clean. Furthermore, a simple handling of Precursorbehälters under a protective gas atmosphere in a glove box (glove box) is to be made possible.
Gelöst wird diese Aufgabe durch einen Precursorbehälter entsprechend Anspruch 1 mit einem in der Verschlussschraube des Behälters integriertem Ventilmechanismus zur Absperrung eines im Behälterinneren liegenden Dampfaustrittsrohres. Dabei sind Verschlussschraube, Ventilmechanismus und Dampfaustrittssrohr bevorzugt konzentrisch zum Behälterzylinder angeordnet, wobei das Dampfaustrittsrohr ausgehend von einer mittig im Behälterboden angeordneten Dampfaustrittsöffnung in Richtung Behälteroberseite verläuft und die Rohrlänge insbesondere durch Hub- und Baulänge des im Gefäß durch Einschrauben der Verschlussschraube angeordneten Ventilmechanismus bestimmt ist. Durch einen derartigen Aufbau sind die einzelnen Komponenten des Precursorbehälters einsehbar und leicht zu reinigen. Dabei ist entsprechend Anspruch 2 der Ventilmechanismus durch einen Metallbalg gedichtet und kann durch eine bevorzugt im Innensechskant der Verschlussschraube angeordnete Stellschraube (ebenso bevorzugt mit Innensechskant) betätigt werden. Anspruch 3 betrifft die Außenflächen des Precursorbehälters. Dabei ist der Precursorbehälter in eine zylindrische Behälteraufnahme einsteck- und/oder einschraubbar, wobei das obere Ende des Precursorbehälters bevorzugt mit Außensechskant ausgeführt ist. Hierdurch kann der Precursorbehälter am Außensechskant gehalten, die Verschlussschraube mittels Innensechskant eingeschraubt und der Ventilmechanismus durch den Innensechskant der Stellschraube geschlossen werden. Somit ist der Behälter auch innerhalb einer Glovebox gut handzuhaben und zu verschließen. Ein geschlossener Precursorbehälter kann ohne Luftkontakt des Precursors in einen Verdampfer eingesetzt und nach Spülen oder Evakuieren der Verdampferleitungen geöffnet werden. Dabei ermöglicht eine Dichtfläche senkrecht zur Zylinderachse am Behälterboden im Bereich der Dampfaustrittsöffnung die Abdichtung des Strömungsweges zu nachfolgenden Verdampferkomponenten. Die Dichtfläche kann gegenüber dem Behälterboden abgesetzt oder mit diesem identisch sein. Behälterboden und Behälteroberseite sind bevorzugt als plane Flächen senkrecht zur Zylinderachse ausgestaltet, können grundsätzlich jedoch auch gerundet oder anders geformt sein. Bei relativ zur Behälteroberseite kleiner Verschlussschraube mit integriertem Ventilmechanismus ist es vorteilhaft, dass die Behälteroberseite als abnehmbarer Deckel ausgestaltet ist. Erfindungsgemäß ist auch eine Verwendung des Precursorbehälters als Transportbehälter für luft- oder feuchtigkeitsempfindliche Precursoren.This object is achieved by a Precursorbehälter according to claim 1 with an integrated in the screw plug of the container valve mechanism for shutting off a lying inside the container steam outlet pipe. In this case, screw plug, valve mechanism and steam outlet pipe are preferably arranged concentrically to the container cylinder, the steam outlet pipe, starting from a centrally disposed in the container bottom steam outlet opening in the direction of the container top and the tube length is determined in particular by the stroke and length of the vessel by screwing the screw plug valve mechanism. By such a structure, the individual components of Precursorbehälters are visible and easy to clean. In this case, according to
Anspruch 4 betrifft eine bevorzugte Ausgestaltung eines Verdampfers zur Aufnahme eines erfindungsgemäßen Precursorbehälters. Hierbei ist ein Verdampferblock mit Dichtflächen, internen Strömungswegen, Bohrungen zur Aufnahme von Heizpatronen und weiteren Vorkehrungen zur Aufnahme eines modularen Ventils, einer Behälteraufnahme und eines Precursorbehälters beispielsweise aus Edelstahl gefertigt, während eine aus Aluminium oder Kupfer gefertigte zylinderrohrförmige Behälteraufnahme senkrecht zur Zylinderachse mit möglichst hohem Wärmeübergang durch geeignete Mittel auf den Verdampferblock aufgesetzt ist. In den Ansprüchen 5 bis 7 sind weitere bevorzugte Ausführungsdetails genannt. Anspruch 5 betrifft das Material des Verdampferblocks, das bevorzugt als Aluminium- oder Kupferlegierung gewählt ist, wobei die Strömungswege aus korrosionsbeständigem Material wie beispielsweise Edelstahl gefertigt sind. Anspruch 6 betrifft ein zusätzliches Sicherheitsventil, eine Zufuhrleitung für Trägergas und eine derart geradlinige Ausgestaltung der Strömungswege, dass jeder Bereich der Strömungswege mit einem stabförmigen Reinigungswerkzeug zugänglich ist. Der Strömungsweg zwischen Precursorbehälter und modularem Ventil wäre ohne Sicherheitsventil durch seinen „U”-förmigen Verlauf nicht einsehbar oder zugänglich. Ein geeignet angeordnetes, herausschraubbares Sicherheitsventil mit entsprechendem Strömungsweg ermöglicht die Zugänglichkeit aller Strömungswege. Anspruch 7 betrifft die Verwendung eines Elements zur Strömungsverlangsamung und Druckreduktion entsprechend einer älteren Patentanmeldung des Erfinders (
Die Ansprüche 8 und 9 betreffen ein Verdampfungsverfahren für einen Verdampfer nach Anspruch 4 mit Precursorbehälter nach Anspruch 1. Bei längeren Öffnungszeiten (ab ca. 100 ms) des Verdampfers zur Precursordampfentnahme kann flüssiger Precursor durch gebundene Gase oder Bestandteile mit niedrigerem Siedepunkt „überkochen” während pulverförmige Precursoren verspritzen oder aufgewirbelt werden können. Um einen prozesssicheren Betrieb eines erfindungsgemäßen Verdampfers zu gewährleisten und oben beschriebene Phänomene zu vermeiden sind Entnahmepausen vorzusehen, innerhalb derer eine Regeneration des Dampfdrucks möglich ist. Derartige Pausen sind ebenfalls nutzbar, um dem Verdampfungsraum zusätzliches Trägergas (z. B. Argon) zuzuführen, welches das Verdampfen von Precursoren mit sehr kleinem Dampfdruck (< 1 mbar) ermöglicht.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden nachfolgend näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the drawings and are explained in more detail below.
Es zeigen:Show it:
In
In
Weitere prozesstechnisch wichtige Komponenten sind eine zusätzliche Prozessgasleitung
Mittel zur Beheizung des Verdampfers (z. B. Heizpatronen), Schrauben und Bohrungen zur Befestigung des modularen Ventils
Bei Nichtbenutzung der Prozessgasleitung
Der zylindrische Precursorbehälter
Der im Ausführungsbeispiel beschriebene Verdampfer ist für Forschungsanwendungen optimiert. Durch geeignete Dimensionierung des Precursorbehälters können jedoch auch industrieller Fertigungsprozesse vereinfacht werden.The evaporator described in the embodiment is optimized for research applications. However, by suitable dimensioning of the Precursorbehälters also industrial manufacturing processes can be simplified.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.
Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- DE 102008024530 [0007] DE 102008024530 [0007]
Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature
- www.strem.com [0002] www.strem.com [0002]
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201010045046 DE102010045046A1 (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Cylindrical precursor container for vaporizer used for e.g. atomic layer deposition method, has pressure spring that presses valve temple with sealing disc on inner end of inner pipe and closes steam and precursor exits and air inlet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201010045046 DE102010045046A1 (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Cylindrical precursor container for vaporizer used for e.g. atomic layer deposition method, has pressure spring that presses valve temple with sealing disc on inner end of inner pipe and closes steam and precursor exits and air inlet |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102010045046A1 true DE102010045046A1 (en) | 2012-03-15 |
Family
ID=45756024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE201010045046 Withdrawn DE102010045046A1 (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Cylindrical precursor container for vaporizer used for e.g. atomic layer deposition method, has pressure spring that presses valve temple with sealing disc on inner end of inner pipe and closes steam and precursor exits and air inlet |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102010045046A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011121078A1 (en) | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Oliver Feddersen-Clausen | Cyclic evaporation using volatile precursor and carrier gas, comprises supplying the precursor vapor, introducing carrier gas and modulating in mass flow, such that a cyclic change in pressure is obtained and a pressure gradient is formed |
DE102012210332A1 (en) * | 2012-06-19 | 2013-12-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | ALD COATING LINE |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008024530A1 (en) | 2008-05-21 | 2009-12-10 | Oliver Feddersen-Clausen | Flow restrictor for use in evaporator utilized in semiconductor applications to restrict flow of e.g. process gas, has surface mount valve, where throttle stages are formed for making flow speed to reach ultrasonic within restrictor |
-
2010
- 2010-09-10 DE DE201010045046 patent/DE102010045046A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008024530A1 (en) | 2008-05-21 | 2009-12-10 | Oliver Feddersen-Clausen | Flow restrictor for use in evaporator utilized in semiconductor applications to restrict flow of e.g. process gas, has surface mount valve, where throttle stages are formed for making flow speed to reach ultrasonic within restrictor |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
www.strem.com |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011121078A1 (en) | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Oliver Feddersen-Clausen | Cyclic evaporation using volatile precursor and carrier gas, comprises supplying the precursor vapor, introducing carrier gas and modulating in mass flow, such that a cyclic change in pressure is obtained and a pressure gradient is formed |
DE102011121078B4 (en) * | 2011-12-12 | 2013-11-07 | Oliver Feddersen-Clausen | Cyclic evaporation process |
DE102012210332A1 (en) * | 2012-06-19 | 2013-12-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | ALD COATING LINE |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW490541B (en) | Gas storage and dispensing system comprising regulator interiorly disposed in fluid containment vessel and adjustable in situ therein | |
DE4022492C1 (en) | ||
DE102010045046A1 (en) | Cylindrical precursor container for vaporizer used for e.g. atomic layer deposition method, has pressure spring that presses valve temple with sealing disc on inner end of inner pipe and closes steam and precursor exits and air inlet | |
EP2963147A3 (en) | Device for generating a vapour from a solid or liquid starting material for a cvd or pvd device | |
DE3820405C2 (en) | Transducer device | |
EP1862564A1 (en) | Apparatus for the evaporation of materials by means of an evaporator tube | |
EP1672715A1 (en) | Apparatus for coating a substrate | |
TWI826458B (en) | Cylinder valves and methods for inhibiting the formation of contaminants in cylinders and cylinder valves | |
DE2653567A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR STORING MATERIALS | |
DE19758301C1 (en) | Method for thermally reducing dissolved gases in stored hot water from boiler | |
DE1824547U (en) | VALVE FOR HIGH VACUUM SYSTEMS. | |
DE202015003364U1 (en) | Flame-off device for a sampling valve | |
DE60108415T2 (en) | DEVICE AND METHOD FOR TRANSFERRING A CRYOGENIC LIQUID | |
DE19624946A1 (en) | Spinarette beam for continuous thermoplastic filaments | |
DE439539C (en) | Apparatus for the synthetic production of ammonia | |
DE2629824C3 (en) | Reaction tube for a vertically or horizontally operated thermobalance | |
CH635407A5 (en) | Diaphragm valve | |
DE170126C (en) | ||
DE344639C (en) | Method and device for cooking food | |
EP0813025B1 (en) | Pressurized gas container, particularly for toxic and combustible gases | |
DE534978C (en) | Three-way cock | |
DE311172C (en) | ||
DE19600265A1 (en) | Valve for pressurised cylinder containing sensitive substances | |
DE423603C (en) | Device for removing parts of the contents from closed vacuum or pressure vessels | |
DE179321C (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: FEDDERSEN-CLAUSEN, OLIVER, DE Free format text: FORMER OWNER: FEDDERSEN-CLAUSEN, OLIVER, 50996 KOELN, DE Effective date: 20121211 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20150401 |