DE102009041641B4 - Diodenanordnung und Verfahren zur Herstellung einer Diodenanordnung - Google Patents
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Abstract
Diodenanordnung (10) mit einer Diode (11) und zwei Elektroden (14, 15), die jeweils auf einer von zwei einander gegenüberliegend angeordneten Kontaktflächen (20, 21) der Diode über eine Lotverbindung (22, 23) elektrisch leitend mit der Diode verbunden sind, wobei die Kontaktflächen der Diode durch die Oberflächen von einer Unterseite (19) und einer Oberseite (18) der Diode gebildet sind und über die Lotverbindung mit Kontaktfortsätzen (12, 13) der Elektroden kontaktiert sind, die mit den Kontaktflächen der Diode deckungsgleiche Gegenkontaktflächen (24, 25) bilden.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Diodenanordnung mit einer Diode und zwei Elektroden, die jeweils auf einer von zwei einander gegenüberliegend angeordneten Kontaktflächen der Diode über eine Lotverbindung elektrisch leitend mit der Diode verbunden sind, wobei die Kontaktflächen der Diode durch die Oberflächen von einer Unterseite und einer Oberseite der Diode gebildet sind und über die Lotverbindung mit Kontaktfortsätzen der Elektroden kontaktiert sind, die mit den Kontaktflächen der Diode deckungsgleiche Gegenkontaktflächen bilden.
- Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Diodenanordnung.
- Diodenanordnungen der eingangs genannten Art werden beispielsweise als Bauteile von Solarzellen eingesetzt und werden dabei als so genannte „Leistungsdioden“ mit hohen elektrischen Strömen beaufschlagt. Grundsätzlich sind derartige Diodenanordnungen für sämtliche Einsatzbereiche geeignet, in denen hohe Leistungen über die Diode abgeführt werden müssen, so dass entsprechende Kühlmaßnahmen für einen störungsfreien Betrieb der Dioden zu treffen sind.
- Aus der
GB 912 460 A - Die
EP 0 962 975 A2 zeigt eine Diode, die über einen Sourceanschluss mit einem Kontaktdraht kontaktiert ist, wobei zur Reduzierung des Kontaktwiderstands der Kontaktdraht den Sourceanschluss nicht völlig abdeckt. - Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Diodenanordnung vorzuschlagen, die sich auch bei hoher Leistungsdichte durch eine besondere Betriebssicherheit auszeichnet. Des Weiteren liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren vorzuschlagen, mit dem derartige, auch unter höheren Temperaturen betriebssichere, Diodenanordnungen effektiv herstellbar sind.
- Die erfindungsgemäße Diodenanordnung weist die Merkmale des Anspruchs 1 auf.
- Bei der erfindungsgemäßen Diodenanordnung sind die Kontaktflächen der Diode durch die Oberflächen von einer Unterseite und einer Oberseite der Diode gebildet und über die Lotverbindung mit Kontaktfortsätzen der Elektroden kontaktiert, welche mit den Kontaktflächen der Diode deckungsgleiche Gegenkontaktflächen bilden.
- Erfindungsgemäß steht demnach bei der Diodenanordnung die gesamte Oberfläche einer Unterseite oder Oberseite der Diode zur Kontaktierung mit den Elektroden zur Verfügung. Hierdurch ist es möglich, den Übergangswiderstand zwischen der Diode und den Elektroden so gering wie möglich auszubilden. Aufgrund der Kontaktierung der Kontaktflächen der Diode mit Kontaktfortsätzen der Elektroden, die deckungsgleiche Gegenkontaktflächen ausbilden, ist sichergestellt, dass sich die Lotverbindung in ihrer Flächenausdehnung nicht über die Kontaktflächen der Diode hinaus erstreckt, so dass hierdurch auch die Ausbildung von Kurzschlüssen zwischen der Unterseite und der Oberseite der Elektrode weitestgehend reduziert ist. Dadurch, dass Kontaktfortsätze an den Elektroden zur Kontaktierung mit der Diode vorgesehen sind, ist es möglich, die Elektroden in ihren über die Kontaktfortsätze hinausgehenden Bereichen beliebig auszubilden und dabei insbesondere flächenmäßig ausgedehnte Elektroden zu gestalten, die eine besonders gute Wärmeabfuhr von der Diode bzw. den Lötverbindungen zwischen der Diode und den Elektroden ermöglichen.
- Als besonders vorteilhaft für die Herstellung der Diodenanordnung erweist es sich, wenn die Elektroden durch Teilstücke eines Elektrodensubstrats aus einem Leitermaterial gebildet sind, dessen Kontaktseite mit einer Beschichtung aus einer Lotmaterial-Barriere versehen ist, auf die eine Lotmaterial-Kontaktschicht aufgebracht ist.
- Hierdurch ist es möglich, zur Herstellung der Elektroden ein Halbzeug vorzusehen, das beispielsweise durch einen Plattierungsvorgang aufgebrachte Beschichtungen aufweist, die die Herstellung einer Lotverbindung mit definierten Eigenschaften erleichtern. Insbesondere sorgt dabei die Ausbildung einer Lotmaterial-Barriere für eine Diffusionssperre, die einerseits die Herstellung einer Lotverbindung definierter Zusammensetzung ermöglicht und andererseits es auch unterstützt, eine Lotverbindung definierter Höhe herzustellen, um so reproduzierbare Anschlussmaße der Diodenanordnung zu ermöglichen, die beispielsweise durch den Abstand a der auf unterschiedlichen Oberflächen der Diode angeordneten Elektroden voneinander definiert ist.
- Als besonders vorteilhaft hat es sich herausgestellt, wenn das Elektrodensubstrat aus Kupfer oder einer Kupferlegierung gebildet ist, die Lotmaterial-Barriere Nickel oder eine Nickellegierung aufweist und die Lotmaterial-Kontaktschicht Zinn oder eine Zinnlegierung aufweist.
- Das erfindungsgemäße Verfahren weist die Merkmale des Anspruchs 4 auf.
- Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden an den Elektroden ausgebildete Kontaktfortsätze, die Gegenkontaktflächen bilden, die in ihrer Flächenausdehnung mit einer Unterseite und einer Oberseite der Diode übereinstimmen, mit einem Lotmaterial-Auftrag versehen, und zur Herstellung einer Lotverbindung wird die Diode nachfolgend in einer Sandwich-Anordnung derart zwischen den Elektroden angeordnet, dass die Gegenkontaktflächen der Kontaktfortsätze in einer Überdeckungslage mit durch die Unterseite oder die Oberseite der Diode gebildeten Kontaktflächen angeordnet sind.
- Erfindungsgemäß erfolgt bereits vor der Herstellung der Sandwich-Anordnung und der Ausbildung der Lotverbindung ein Reflow des auf die Kontaktfortsätze der Elektroden aufgebrachten Lotmaterial-Auftrags, um insbesondere die Ausbildung von Kurzschlüssen zwischen der Unterseite und der Oberseite der Diode während der nachfolgenden Ausbildung der Lotverbindung weitestgehend ausschließen zu können.
- Besonders vorteilhaft für eine automatisierte Herstellung der Diodenanordnung ist es, wenn die Herstellung der Sandwich-Anordnung in zwei Phasen erfolgt, derart, dass in einer ersten Phase eine erste Überdeckungsanordnung zwischen der Gegenkontaktfläche der ersten Elektrode und der ersten Kontaktfläche der Diode und anschließend in einer zweiten Phase eine zweite Überdeckungsanordnung zwischen der Gegenkontaktfläche der zweiten Elektrode und der zweiten Kontaktfläche der Diode erfolgt.
- Dabei hat es sich insbesondere hinsichtlich der Handhabung der Elemente bei der Herstellung der Sandwich-Anordnung als vorteilhaft herausgestellt, wenn die erste Überdeckungsanordnung derart hergestellt wird, dass die Diode mit der ersten Kontaktfläche auf die Gegenkontaktfläche der ersten Elektrode appliziert wird und nachfolgend die zweite Überdeckungsanordnung derart hergestellt wird, dass die zweite Elektrode mit ihrer Gegenkontaktfläche auf die zweite Kontaktfläche der Diode appliziert wird.
- In einer möglichen Variante des Verfahrens erfolgt die Ausbildung der Lotverbindung nach Herstellung der Sandwich-Anordnung.
- Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Ausbildung der Lotverbindung in zwei Phasen erfolgt, derart, dass nach Herstellung der ersten Überdeckungsanordnung eine erste Lotverbindung und nach Herstellung der zweiten Überdeckungsanordnung eine zweite Lotverbindung hergestellt wird.
- Wenn zur Ausbildung der Lotverbindung eine rückwärtige Beaufschlagung des Kontaktfortsatzes von zumindest einer Elektrode erfolgt, kann die dadurch definierte Relativanordnung der Diode und der elektrodenerhaltenden Sandwich-Anordnung bei Durchführung der Lotverbindung unverändert beibehalten werden.
- Wenn zur Bereitstellung der Elektroden für eine nachfolgende Ausbildung der Sandwich-Anordnung die Elektroden durch Entnahme von Teilstücken eines bandförmigen Elektrodensubstrats gebildet werden, derart, dass nach Entnahme der Teilstücke die bandförmige Ausbildung des Elektrodensubstrats erhalten bleibt, kann ein Halbzeug für die Herstellung bzw. Bereitstellung der Elektroden verwendet werden, das kontinuierlich ausgebildet ist und insbesondere keine Strukturierung zur Erzeugung der Elektroden aufweisen muss.
- Nachfolgend wird eine bevorzugte Ausführungsform der Diodenanordnung sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Diodenanordnung anhand eines Beispiels unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert.
- Es zeigen:
-
1 eine Diodenanordnung in Seitenansicht; -
2 eine Diodenanordnung in Draufsicht; -
3 eine schematische Darstellung des Verfahrens zur Herstellung der Diodenanordnung. -
1 zeigt eine Diodenanordnung10 , die in einer Stapel- oder Sandwichanordnung44 ausgebildet ist, mit einer Diode11 , die zwischen zwei Kontaktfortsätzen12 ,13 angeordnet ist, welche jeweils an einem freien Kontaktende von streifenförmigen Elektroden14 ,15 ausgebildet sind. - Wie insbesondere der
2 zu entnehmen ist, weisen die Elektroden14 ,15 an ihren den Kontaktfortsätzen12 ,13 diametral gegenüberliegenden Enden weitere Kontaktfortsätze16 ,17 auf, die zur elektrisch leitenden Verbindung der Diodenanordnung10 mit weiteren Anschlusseinrichtungen dienen. - Wie weiterhin aus
1 zu ersehen ist, ist durch die Stapelanordnung ein Kontaktaufbau zwischen den Kontaktfortsätzen12 ,13 der Elektroden14 ,15 aufgebaut, der jeweils auf einer Oberseite18 und einer Unterseite19 der Diode11 eine Diodenkontaktfläche20 ,21 aufweist, welche als metallische Anschlussfläche einer Roh-Diode gebildet sein kann, so dass es sich bei der in1 dargestellten Diode11 beispielsweise um eine unmittelbar vor Anordnung in der in1 dargestellten Stapelanordnung durch Sägen aus einem Waver-Verbund vereinzelte Diode handeln kann, bei der insbesondere noch keine Präparierung der Diodenkontaktfläche20 ,21 vorgenommen wurde, die sich also noch in ihrem Rohzustand befindet. - Jeweils auf den Diodenkontaktflächen
20 ,21 ist eine zu einem aufgeschmolzenen Lotmaterial gebildete Lotverbindung22 ,23 vorgesehen, die eine elektrisch leitende, mechanisch belastbare Verbindung zwischen den Diodenkontaktflächen20 ,21 und Gegenkontaktflächen24 ,25 der Kontaktfortsätze12 ,13 bildet. - Wie aus einer Zusammenschau der
1 und2 deutlich wird, sind die Kontaktfortsätze12 ,13 und die Diode11 in ihren Abmessungen so aufeinander abgestimmt, dass sich, wie insbesondere aus der2 ersichtlich, eine deckungsgleiche Anordnung ergibt, mit der Folge, dass sich eine im Wesentlichen flächenbündige Anordnung des Kontaktaufbaus in der in1 eingezeichneten Stapelrichtung26 ergibt. - Weiterhin zeigen die
1 und2 deutlich, dass sowohl die Diodenkontaktflächen20 ,21 als auch die durch die Kontaktfortsätze12 ,13 gebildeten Gegenkontaktflächen24 ,25 eine übereinstimmende Flächenausdehnung oder Größe aufweisen. - Diese aufeinander abgestimmte Flächenausdehnung im Zusammenwirken mit den in Folge eines Umschmelzens zur Ausbildung der Lotverbindungen
22 ,23 des Lotmaterials entstehenden Kapillarkräften im Bereich der Lotverbindungen22 ,23 verhindert, dass es bei Ausbildung der Lotverbindung zur Ausbildung von Lotmaterialbrücken zwischen der Oberseite18 und der Unterseite19 der Diode11 kommen kann. - Wie der
2 zu entnehmen ist, weisen die Elektroden14 ,15 zwischen ihren Kontaktfortsätzen12 und16 bzw.13 und17 ausgehend von den zur Kontaktierung mit der Diode11 dienenden Kontaktfortsätzen12 ,13 eine zunehmende Breite b auf, wobei die Kontaktfortsätze16 ,17 wieder schmäler ausgeführt sind. Hierdurch ist zum einen sichergestellt, dass, wie bereits vorstehend ausführlich erläutert, im Bereich der Diode11 eine Ausbildung von Lotverbindungen22 ,23 ohne die Gefahr von Kurzschlussgestaltungen möglich ist. Zum anderen kann trotzdem eine große Kühlfläche durch die im Übrigen breite Ausgestaltung der Elektroden14 ,15 gebildet werden, die im Leistungsbetrieb der Diode11 einer thermischen Überbeanspruchung der Diode11 oder der Lotverbindungen22 ,23 entgegenwirkt. - Nachfolgend soll Bezug nehmend auf
3 ein mögliches Verfahren zur Herstellung der in den1 und2 dargestellten Diodenanordnung näher erläutert werden. Hierzu ist in3 unter anderem eine Vorrichtung zur Herstellung von Diodenanordnungen10 dargestellt, die eine Zuführeinrichtung27 zur Zuführung eines bandförmigen Elektrodensubstrats umfasst, vermittels der zwei Elektrodensubstratbänder28 ,29 über jeweils eine Aufrolleinrichtung30 und eine Abrolleinrichtung31 kontinuierlich in Zuführrichtung32 zugeführt werden. - Die Elektrodensubstratbänder
28 ,29 weisen im vorliegenden Fall einen mehrschichtigen Aufbau auf mit einem Kupferband, das mit einer als Diffusions-Barriere wirkenden Lotmaterial-Barriere versehen ist, auf der eine Lotmaterialkontaktschicht aufgebracht ist. Vorzugsweise findet sich der vorgenannte Aufbau aus einer Lotmaterial-Barriere mit darauf ausgebildeter Lotmaterial-Kontaktschicht sowohl auf der Unterseite als auch auf der Oberseite der Elektrodensubstratbänder. - Wie weiterhin aus
3 ersichtlich, ist Bestandteil der Vorrichtung zur Herstellung der Diodenanordnungen10 ein im Taktbetrieb in Drehrichtung33 vorbewegter Rund-Takttisch34 , der vermittels einer Übernahmeeinrichtung35 von der Zuführeinrichtung27 übernommene Elektroden14 ,15 zu verschiedenen, nachfolgend noch erläuterten Einrichtungen überführt. - Die Übernahmeeinrichtung
35 ist mit einer hier nicht näher dargestellten Stanzeinrichtung versehen, die aus den kontinuierlich gleichförmig ausgebildeten Elektrodensubstratbändern28 ,29 durch Stanzung Elektroden14 ,15 vereinzelt und in jeweils eine auf dem Rund-Takttisch34 ausgebildete Elektrodenaufnahme36 ,37 überführt. Im Einzelnen wird hierzu bei dem in3 beispielhaft dargestellten Verfahren zunächst eine Mehrzahl von Elektroden14 dem Elektrodensubstratband28 entnommen und in die der Peripherie des Rund-Takttischs34 zugeordnete Elektrodenaufnahme36 überführt, mit dem Ergebnis, dass im vorliegenden Fall vier Elektroden14 in einer Reihe in der Elektrodenaufnahme36 angeordnet sind. - Anschließend werden durch Stanzung Elektroden
15 aus dem Elektrodensubstratband29 vereinzelt und in die benachbart der Elektrodenaufnahme36 angeordnete Elektrodenaufnahme37 überführt, derart, dass in der Elektrodenaufnahme37 vier Elektroden15 in Reihe angeordnet sind. Nachfolgend werden die in den Elektrodenaufnahmen36 und37 aufgenommenen Elektroden14 und15 durch Ausführung eines Dreh-Takts in Drehrichtung33 zu einer Lotmaterialapplikationseinrichtung38 überführt. In der Lotmaterialapplikationseinrichtung38 erfolgt eine Applikation von Lotmaterial auf die in3 nicht im Einzelnen dargestellten Kontaktfortsätze12 ,13 der Elektroden14 ,15 , wobei die Applikation beispielsweise durch den Auftrag eines Lotmaterialdepots in Form einer Lotpaste erfolgen kann. Ebenso gut können jedoch Lotmaterialdepots in zumindest teilweise aufgeschmolzenem Zustand auf die Kontaktfortsätze12 ,13 der Elektroden14 ,15 aufgebracht werden. - Nachfolgend wird durch Ausführung eines weiteren Dreh-Takts in Drehrichtung
33 ein Transport der Elektroden14 ,15 zu einer Umschmelzeinrichtung39 ausgeführt, die beispielsweise aus einer Laseranordnung, insbesondere einer Diodenlaseranordnung, bestehen kann, bei der entsprechend den in den Elektrodenaufnahmen36 ,37 aufgenommenen Elektroden,14 ,15 vier Laserdioden40 in Reihe angeordnet sind. Durch eine radiale Zustellbewegung41 der Laserdioden40 können diese in eine Überdeckungslage mit den auf den Elektroden14 angeordneten Lotmaterialdepots gebracht werden, so dass von unterhalb des Rund-Takttischs34 her eine rückwärtige Beaufschlagung der Lotmaterialdepots durch die Elektroden14 hindurch erfolgen kann. - Nach dem Aufschmelzen der Lotmaterialdepots auf den Elektroden
14 erfolgt mittels einer Zuführeinrichtung48 eine Applikation von vier in einer Reihe angeordneten Dioden11 auf die aufgeschmolzenen Lotmaterialdepots der Elektroden14 . - Nach einer weiteren Dreh-Takt-Bewegung werden die mit den Dioden
11 bestückten Elektroden14 zu einer weiteren Umschmelzeinrichtung42 überführt, die im Wesentlichen wie die zuvor beschriebene Umschmelzeinrichtung39 ausgebildet ist und eine rückwärtige Beaufschlagung der Elektroden14 mit Laserenergie aus einer Position unterhalb des Rund-Takttischs34 ermöglicht, mit der Folge, dass zwischen den Elektroden14 und den Dioden11 eine erste Lotverbindung22 ausgebildet wird (1 ). - Nach Überführung der Elektroden
14 und15 zu einer Stapeleinrichtung43 werden die Elektroden15 durch Umschwenken in eine Stapelanordnung mit den Elektroden14 überführt, derart, dass sich die in1 dargestellte Relativanordnung der Elektroden14 und15 ergibt. Zur Fixierung der Stapelanordnung44 und Herstellung der in1 dargestellten Diodenanordnung10 wird die Stapelanordnung44 nach Ausführung eines weiteren Dreh-Takts in Drehrichtung33 zu einer weiteren Umschmelzeinrichtung45 überführt, welche durch Umschmelzen der auf den Elektroden15 angeordneten Lotmaterialdepots die weitere Lotverbindung23 herstellt (1 ). Dabei kann eine entsprechende Beaufschlagung mit Laserenergie wahlweise von unterhalb des Rund-Takttischs34 her oder auch von oberhalb des Rund-Takttisches34 her erfolgen, wobei im ersten Fall die Herstellung der Lotverbindung23 mittels eines Energieflusses über die Elektroden14 , die Lotverbindungen22 und die Dioden11 erfolgt und im zweiten Fall eine vergleichsweise direktere Energiebeaufschlagung über die Elektroden15 erfolgt. Unabhängig von der Beaufschlagungsrichtung erfolgt jedoch in jedem Fall eine rückwärtige Energiebeaufschlagung über die jeweiligen Elektroden14 oder15 . - Nach Überführung der fertig gestellten Diodenanordnungen
10 können diese dann vermittels einer Entnahmeeinrichtung46 der Elektrodenaufnahme37 entnommen und in eine Magazinanordnung47 überführt werden, die als Entnahmedepot für eine Weiterverarbeitung der Diodenanordnungen10 dienen kann.
Claims (9)
- Diodenanordnung (10) mit einer Diode (11) und zwei Elektroden (14, 15), die jeweils auf einer von zwei einander gegenüberliegend angeordneten Kontaktflächen (20, 21) der Diode über eine Lotverbindung (22, 23) elektrisch leitend mit der Diode verbunden sind, wobei die Kontaktflächen der Diode durch die Oberflächen von einer Unterseite (19) und einer Oberseite (18) der Diode gebildet sind und über die Lotverbindung mit Kontaktfortsätzen (12, 13) der Elektroden kontaktiert sind, die mit den Kontaktflächen der Diode deckungsgleiche Gegenkontaktflächen (24, 25) bilden.
- Diodenanordnung nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden (14, 15) durch Teilstücke eines Elektrodensubstrats aus einem Leitermaterial gebildet sind, dessen Kontaktseite mit einer Beschichtung mit einer Lotmaterial-Barriere versehen ist, auf der eine Lotmaterial-Kontaktschicht aufgebracht ist. - Diodenanordnung nach
Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, dass das Elektrodensubstrat aus Kupfer oder einer Kupferlegierung gebildet ist, die Lotmaterial-Barriere Nickel oder eine Nickellegierung aufweist und die Lotmaterial-Kontaktschicht Zinn oder eine Zinn-Legierung aufweist. - Verfahren zur Herstellung einer Diodenanordnung (10) mit einer Diode (11) und zwei Elektroden (14, 15), die jeweils auf einer von zwei einander gegenüberliegend angeordneten Kontaktflächen (20, 21) der Diode über eine Lotverbindung (22, 23) elektrisch leitend mit der Diode verbunden sind, wobei an den Elektroden ausgebildete Kontaktfortsätze (12, 13) Gegenkontaktflächen (24, 25) bilden, welche in ihrer Flächenausdehnung mit einer Unterseite (19) und einer Oberseite (18) der Diode übereinstimmen, mit einem Lotmaterialauftrag versehen werden, und zur Herstellung einer Lotverbindung (22, 23) die Diode in einer Sandwich-Anordnung (44) derart zwischen den Elektroden angeordnet wird, dass die Gegenkontaktflächen der Kontaktfortsätze in einer deckungsgleichen Überdeckungslage mit den durch die Unterseite und die Oberseite der Diode gebildeten Kontaktflächen angeordnet sind, wobei vor Herstellung der Sandwich-Anordnung (44) und Ausbildung der Lotverbindung (22, 23) ein Reflow des auf den Kontaktfortsätzen (12, 13) der Elektroden (14, 15) aufgebrachten Lotmaterialauftrags erfolgt.
- Verfahren nach
Anspruch 4 , dadurch gekennzeichnet, dass die Herstellung der Sandwich-Anordnung (44) in zwei Phasen erfolgt, derart, dass in einer ersten Phase eine erste Überdeckungsanordnung zwischen der Gegenkontaktfläche (24) der ersten Elektrode (14) und der ersten Kontaktfläche (20) der Diode (11) erfolgt, und anschließend in einer zweiten Phase eine zweite Überdeckungsanordnung zwischen der Gegenkontaktfläche (25) der zweiten Elektrode (15) und der zweiten Kontaktfläche (21) der Diode erfolgt. - Verfahren nach
Anspruch 5 , dadurch gekennzeichnet, dass die Ausbildung der Lotverbindungen (22, 23) nach Herstellung der Sandwich-Anordnung (44) erfolgt. - Verfahren nach
Anspruch 5 , dadurch gekennzeichnet, dass die Ausbildung der Lotverbindungen (22, 23) in zwei Phasen erfolgt, derart, dass nach Herstellung der ersten Überdeckungsanordnung eine erste Lotverbindung (22) und nach Herstellung der zweiten Überdeckungsanordnung eine zweite Lotverbindung (23) hergestellt wird. - Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Ausbildung der Lotverbindung (22, 23) eine rückwärtige Beaufschlagung des Kontaktfortsatzes (12, 13) von zumindest einer Elektrode (14, 15) erfolgt.
- Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Bereitstellung der Elektroden (14, 15) für eine nachfolgende Ausbildung der Sandwich-Anordnung (44) die Elektroden durch Entnahme von Teilstücken eines bandförmigen Elektrodensubstrats (28, 29) gebildet werden, derart, dass nach Entnahme der Teilstücke die bandförmige Ausbildung des Elektrodensubstrats erhalten bleibt.
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