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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kalibrieren eines
Probentisches eines Metrologiesystems sowie ein Metrologiesystem
mit einem Probentisch.
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Ein
Metrologiesystem mit einem Probentisch, der hochgenau positioniert
werden kann, wird für
zahlreiche Meßaufgaben
benötigt.
So können
mit einem solchen Metrologiesystem lokale Messungen durchgeführt werden,
bei denen z. B. Sensoren auf dem Probentisch befestigt sind, um
diese mit hoher Genauigkeit und Reproduzierbarkeit in einem zu vermessenden
optischen Feld plazieren und die jeweiligen optischen Größen (beispielsweise
Intensität
oder Polarisation) ortsaufgelöst
messen zu können.
Hängt die
optische Meßgröße vom Ort
ab, führt
ein unreproduzierbar oder ungenau zu positionierender Probentisch
zu einem Meßfehler, der
sich als Produkt des Positionierfehlers mit dem Gradienten der zu
messenden Größe ergibt.
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Ferner
können
solche Metrologiesysteme zur Längenmessung
bzw. zur Messung von Abständen
eingesetzt werden. Dazu kann beispielsweise der zu vermessende Körper, der
zwei ausgezeichnete Markierungen enthalten kann, deren Abstand zu
vermessen ist, auf dem Probentisch positioniert sein. Mittels des
Probentisches werden die Markierungen in einem Bezugspunkt positioniert,
der z. B. im Bildbereich eines Mikroskops liegen kann. Aus den beiden
Aufnahmen der Markierungen in Verbindung mit der Positionierung
des Probentisches kann dann die Länge als Differenz der beiden
Meßergebnisse
gebildet werden. Natürlich
ist es auch möglich,
mittels des Probentisches das Mikroskop relativ zum zu vermessenden
Körper
zu bewegen oder sowohl das Mikroskop als auch den zu vermessenden
Körper
zu bewegen. In jedem Fall ist der Probentisch, sofern er zwar reproduzierbar,
aber ungenau positioniert werden kann, zu kalibrieren.
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Es
ist daher Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Kalibrieren eines
Probentisches eines Metrologiesystems zur Verfügung zu stellen, mit dem eine
hochgenaue Kalibrierung möglich
ist.
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Ferner
soll ein Metrologiesystem mit einem hochgenau kalibrierten Probentisch
zur Verfügung
gestellt werden.
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Erfindungsgemäß wird die
Aufgabe gelöst
durch ein Verfahren zum Kalibrieren eines Probentisches eines Metrologiesystems,
bei dem eine mehrere Marken aufweisende Probe nacheinander in unterschiedlichen
Kalibrierstellungen positioniert wird, in jeder Kalibrierstellung
der Probe jeweils jede Marke mittels des Probentisches im Aufnahmebereich
eines optischen Systems positioniert und dann die Markenposition
mittels des optischen Systems gemessen wird, ein Modell aufgestellt
wird, das Positionierfehler des Probentisches mittels eines Funktionensystems
mit zu bestimmenden Kalibrierparametern beschreibt, wobei in dem
Modell zusätzlich
zumindest ein systematischer Meßfehler,
der bei der Messung der Markenpositionen auftritt, berücksichtigt
wird und basierend auf dem Modell unter Berücksichtigung der gemessenen
Markenpositionen für
die Kalibrierung die Werte der Kalibrierparameter bestimmt werden.
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Mit
dem erfindungsgemäßen Verfahren
wird vorteilhaft bei der Kalibrierung nicht nur die Ungenauigkeit des
Probentisches selbst kalibriert, sondern auch noch zumindest ein
systematischer Meßfehler,
der bei der Messung der Markenpositionen auftritt, mit kalibriert,
wodurch die Kalibrierung mit höherer
Genauigkeit durchgeführt
werden kann.
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Unter
einem systematischen Meßfehler
werden insbesondere solche systematische Meßfehler verstanden, die auftreten,
selbst wenn der Probentisch absolut genau positioniert wäre. Der
zumindest eine systematische Meßfehler
kann ein systematischer Meßfehler
des optischen Systems und/oder des Metrologiesystems sein.
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Bevorzugt
wird der zumindest eine systematische Meßfehler in dem Modell linear
berücksichtigt.
Dadurch wird eine einfachere Bestimmung der Kalibrierparameter möglich. Der
systematische Meßfehler
wird somit als linearer Meßfehler
angesehen, der insbesondere lediglich linear von einer anderen Meßgröße abhängig sein
kann.
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Insbesondere
kann zur Bestimmung der Werte der Kalibrierparameter die Gaußsche Methode
der geringsten Fehlerquadrate angewandt werden.
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Ferner
kann die Probe in zumindest drei unterschiedlichen Kalibrierstellungen
positioniert werden. Bevorzugt enthalten die Kalibrierstellungen
eine Rotation sowie eine Translation.
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Der
zumindest eine systematische Meßfehler
kann ein Abbildungsfehler des optischen Systems, das z. B. als Mikroskop
ausgebildet sein kann, sein. Dabei kann es beispielsweise um eine
Rotation des Koordinatensystems des aufgenommenen Bildes gegenüber dem
Koordinatensystem des Probentisches handeln. Auch ein fehlerhafter
Maßstab
(Vergrößerungsfaktor),
Verzeichnung, Koma, ... können
korrigiert werden. Ferner ist es möglich, systematische Fehler
bei der Bildauswertung der aufgenommenen Marken zu kalibrieren.
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Der
zumindest eine systematische Meßfehler
kann ein Projektionsfehler bei der Messung der Markenpositionen
aufgrund einer Verkippung der Probe sein. Die Verkippung der Probe
wird in jeder Kalibrierstellung durch eine zusätzliche Messung bestimmt. Diese
Messung kann beispielsweise durch die Messung der z-Komponente der
Markenposition jeder Marke (also senkrecht zur Ebene, in der die
Marken liegen) erfolgen. Es ist jedoch auch möglich, die Verkippung durch
ein weiteres Meßgerät zu bestimmen.
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Ferner
kann der zumindest eine systematische Meßfehler durch eine nicht ebene
Anordnung der Marken bedingt sein (wenn z. B. die Oberseite der
Probe, auf der die Marken ausgebildet sein können, uneben ist). Der dadurch
bedingte Projektionsfehler bei der Messung der Markenposition kann
wiederum berücksichtigt
werden. Hierzu können
die z-Positionen der Marken gemessen werden.
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Der
Probentisch kann in einer Ebene bewegt werden, um die Marken zu
positionieren, wobei der zumindest eine systematische Meßfehler
ein Meßfehler
ist, der proportional ist zu der Position des Probentisches senkrecht
zur Ebene. Ein solcher systematischer Meßfehler kann in dem Modell
berücksichtigt
werden, ohne daß eine
vollständige
dreidimensionale Kalibrierung des Probentisches durchgeführt werden
muß. Es
kann somit eine gewünschte
zweidimensionale Kalibrierung erfolgen, bei der ferner systematische
Meßfehler
berücksichtigt
werden, die proportional zur Position des Probentisches senkrecht
zur Ebene sind. Solche Meßfehler treten
z. B. auf, wenn die Probentischpositionen in der Ebene interferometrisch
gemessen wird und die dazu genutzte Reflexionsfläche am Probentisch nicht exakt
senkrecht zur Ebene ausgerichtet ist.
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Der
zumindest eine systematische Meßfehler
kann durch eine Drehung des Probentisches bedingt sein, die insbesondere
von der x- und/oder y-Position des Probentisches, der z. B. in der
xy-Ebene positionierbar ist, abhängen
kann, wobei die Lage des Drehzentrums nicht genau bekannt sein muß. Dies
kann durch die Einführung
eines zusätzlichen
Lösungsparameters
in das Modell berücksichtigt
werden, so daß Restfehler (Abbe-Fehler),
die dadurch entstehen, daß das
Drehzentrum nicht genau bekannt ist, sich in erster Ordnung nicht
auf das Ergebnis der Kalibrierung auswirken.
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Des
weiteren kann der zumindest eine systematische Meßfehler
durch eine Schwerkraft bedingte Deformation der Probe verursacht
werden. Dazu kann die Deformation der Probe in jeder Kalibrierstellung
rechnerisch ermittelt und als Korrekturwert von den Meßdaten abgezogen
werden. Dabei werden die mechanischen Eigenschaften der Probe und
gegebenenfalls auch die Auflagepunkte auf dem Probentisch (einschließlich der
Position der Probe in jeder Kalibrierstellung) berücksichtigt.
Wenn die Deformation der Probe in dieser Art und Weise bis auf einen
Proportionalitätsfaktor
bekannt ist, kann man diesen Faktor durch Einführung eines zusätzlichen
Lösungsparameters
in das Modell bestimmen. Eine Unsicherheit dieses Faktors wirkt
sich dann nicht mehr auf das Ergebnis der Kalibrierung aus. Mit
dem so kalibrierten Probentisch kann der Proportionalitätsfaktor
dann gemessen werden.
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Ferner
kann der zumindest eine systematische Meßfehler aufgrund eines zu großen Abstandes
der Marken auftreten. Dies ist dann der Fall, wenn der Abstand der
Marken im Vergleich zum räumlichen
Gradienten des Probentischfehlers zu groß ist.
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Bei
einer zweidimensionalen Kalibrierung, bei der die räumlich schnell
variierenden Anteile des Probentischfehlers aus vier additiven Komponenten
bestehen, die entweder in x oder in y konstant sind, läßt sich der
Meß- und
Rechenaufwand durch folgendes Vorgehen gering halten (der Probentisch
ist bevorzugt in der xy-Ebene positionierbar). Die Marken sind auf
der Probe in einem kartesischen Gitter angeordnet. In dem Modell
werden die Fehler durch mehrere Gruppen von Parametern beschrieben,
die in x konstante Anteile, in y konstante Anteile und weitere Anteile
enthalten, wobei die letzteren keine hohe räumliche Auflösung mehr
liefern. Bei der Kalibriersequenz (Summe aller Kalibrierstellungen)
ist zumindest eine Kalibrierstellung enthalten, in der die Probe
nicht rastersymmetrisch gedreht ist (beispielsweise eine Drehung
um 30° oder
um 60°).
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Besonders
vorteilhaft ist es in diesem Fall, wenn die Marken so ausgebildet
sind, daß sie
unter allen Transformationen zum Erreichen der jeweiligen Kalibrierstellung
symmetrisch sind.
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Die
Meßwerte
für die
Markenpositionen können
z. B. als Differenz der Probentischposition und der Position im
aufgenommenen Bild der Marke ermittelt werden, wenn mit dem optischen
System ein Bild der Marke aufgenommen wird.
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Das
Funktionensystem ist bevorzugt ein lineares Gleichungssystem für die Kalibrierparameter.
Dies ermöglicht
eine relativ schnelle Berechnung der Kalibrierparameter, da die
Berechnung über
das lineare Gleichungssystem durchgeführt werden kann.
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Die
Kalibrierung kann ein-, zwei- oder auch dreidimensional durchgeführt werden.
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Die
Probe weist insbesondere mindestens drei Marken auf, die nicht alle
auf derselben Gerade liegen. Die Marken auf der Probe sind bevorzugt
in einem kartesischen Gitter angeordnet. Damit lassen sich die Kalibrierparameter
ausgezeichnet bestimmen.
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Die
Probe wird bevorzugt in ihren Kalibrierstellungen jeweils auf dem
Probentisch positioniert und mittels diesem bewegt. Natürlich ist
es auch möglich,
das optische System mittels des Probentisches relativ zur Probe
zu bewegen. Auch eine Bewegung von sowohl dem optischen System als
auch der Probe ist durchführbar.
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Bei
dem erfindungsgemäßen Verfahren
können
mehrere Proben, die jeweils mehrere Marken aufweisen, nacheinander
in unterschiedlichen Kalibrierstellungen positioniert werden, wobei
in jeder Kalibrierstellung jeder Probe jeweils jede Marke mittels
des Probentisches im Aufnahmebereich des optischen Systems positioniert
und dann die Markenposition mittels des optischen Systems gemessen
wird.
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Die
Bestimmung der Kalibrierparameter kann iterativ durchgeführt werden,
um eine höhere
Genauigkeit zu erreichen.
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Es
wird ferner ein Metrologiesystem mit einem Probentisch und einer
Steuereinheit bereitgestellt, wobei die Steuereinheit den Probentisch
ansteuert, um ihn in eine vorbestimmte Position zu bringen, wobei
die Steuereinheit basierend auf einem Kalibriermodell, das Positionierfehler
des Probentisches sowie zusätzlich zumindest
einen systematischen Meßfehler,
der bei der Kalibrierung des Probentisches auftrat, berücksichtigt, ansteuert,
um den Probentisch (reproduzierbar) in der vorbestimmten Position
zu positionieren.
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Der
zumindest eine Meßfehler
ist insbesondere ein systematischer Meßfehler, der selbst dann vorliegt, wenn
der Probentisch bei der Kalibrierung absolut genau positioniert
gewesen wäre.
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Das
Kalibriermodell des erfindungsgemäßen Metrologiesystems kann
insbesondere die Kalibrierparameter nutzen, die gemäß des erfindungsgemäßen Kalibrierverfahrens
(einschließlich
seiner Weiterbildungen) bestimmt wurden.
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Des
weiteren wird eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Kalibrierverfahrens (einschließlich seiner
Weiterbildung) bereitgestellt, die das optische System zum Messen
der Markenpositionen, eine Steuereinheit, die den Probentisch zur
Positionierung der Marken ansteuert, und ein Auswertemodul aufweist,
das basierend auf dem Modell unter Berücksichtigung der gemessenen
Markenpositionen die Werte der Kalibrierparameter berechnet.
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Das
Auswertemodul kann Teil der Steuereinheit sein. Insbesondere kann
die Steuereinheit Teil des Metrologiesystems selbst sein. Ferner
ist es möglich,
daß die
Vorrichtung zur Durchführung
des erfindungsgemäßen Kalibrierverfahrens
das Metrologiesystem selbst ist.
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Es
versteht sich, daß die
vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden
Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch
in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar sind,
ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
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Nachfolgend
wird die Erfindung beispielsweise anhand der beigefügten Zeichnungen,
die auch erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Es
zeigen:
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1 eine
schematische Darstellung einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Metrologiesystems;
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2 eine
Ansicht zur Erläuterung
eines systematischen optischen Meßfehlers des Mikroskops von 1;
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3 eine
schematische Ansicht zur Erläuterung
des Projektionsfehlers;
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4 eine
schematische Ansicht zur Erläuterung
des systematischen Meßfehlers
aufgrund der nicht ebenen Anordnung der Marken;
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5 eine
schematische Ansicht zur Erläuterung
eines weiteren Projektionsfehlers;
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6 eine
schematische Darstellung des Bildfeldes des Mikroskops 3 von 1 zur
Erläuterung
eines weiteren systematischen Meßfehlers;
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7 eine
schematische Darstellung des Bildes des Mikroskops 3 von 1 zur
Erläuterung
eines weiteren systematischen Meßfehlers;
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8 eine
schematische Darstellung zur Erläuterung
eines systematischen Meßfehlers
aufgrund einer Schwerkraft bedingten Deformation der Probe 6;
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9 eine
schematische Darstellung zur Erläuterung
einer nicht rastersymmetrischen Drehung der Probe;
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10 eine
schematische Darstellung zur Erläuterung
eines weiteren systematischen Meßfehlers;
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11 und 12 Diagramme
zur Erläuterung
der verbesserten Kalibrierung, und
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13 eine
Darstellung der möglichen
Ausbildung einer Marke 7.
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Bei
der in 1 gezeigten Ausführungsform umfaßt das erfindungsgemäße Metrologiesystem 1 einen Probentisch 2,
der zumindest in der x- und der y-Richtung verschiebbar ist, ein
Mikroskop 3, ein Meßmodul 4 sowie
eine Steuereinheit 5. Mit dem Meßmodul 4 kann hier
die x-Position des
Probentisches 2 interferrometrisch gemessen werden. In
gleicher Weise kann mittels eines nicht eingezeichneten Meßmoduls
die y-Position des Probentisches 2 gemessen werden.
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Auf
dem Probentisch 2 ist eine Probe 6 mit mehreren
Marken 7 positioniert. Die Steuerreinheit 5 kann den
Probentisch 2 so ansteuern, daß die einzelnen Marken 7 nacheinander
in einen Aufnahmebereich bzw. das Bildfeld des Mikroskops 3 positioniert
werden, so daß ausgehend
von der Aufnahme in Verbindung mit der Probentischposition die Position
der einzelnen Marken 7 gemessen werden kann.
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Mit
dem Metrologiesystem 1 kann die Probe 6 bzw. können die
Marken 7 in unterschiedlichen Kalibrierstellungen der Probe 6 auf
dem Probentisch 2 mehrfach vermessen werden. Dies kann
zu einer Kalibrierung von einer, zwei oder allen drei Dimensionen
des Probentisches 2 bzw. der Stage genutzt werden.
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Nachfolgend
wird die Kalibrierung für
zwei Dimensionen (in x- und y-Richtung) beschrieben, wobei vorausgesetzt
wird, daß sich
sowohl der Probentisch 2 (einschließlich der Auflagepunkte für die Probe 6)
als auch die Probe 6 jeweils wie ein starrer Körper verhält, so daß keine
Deformationen beim Verfahren des Probentisches 2 und/oder
des Umsetzens der Probe 6 für die unterschiedlichen Kalibrierstellungen
auftreten.
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Die
positionsabhängigen
Probentischfehler f lassen sich mit Hilfe eines Funktionssystems
beschreiben, dessen freie Parameter λ
1, λ
2,
... λ
R (nachfolgend auch als Probentischparameter
bezeichnet) durch die Kalibrierung ermittelt werden sollen. Die
Beziehung zwischen den Probentischparametern und den Probentischfehlern
soll linear sein:
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Die
x-Probentischfehler fx, y-Probentischfehler
fy und z-Probentischfehler fz sind
kontinuierliche Funktionen der Probentischposition (tx,
ty, tz) in einem
ortsfesten Koordinatensystem L des Metrologiesystems, wie in 1 durch
den Pfeil P1 angedeutet ist, und sind über die angegebene Matrix F
mit den Probentischparametern λ1 bis λR verknüpft.
Die Matrix F verkörpert
das gewählte
Funktionensystem und hängt
daher von den angefahrenen Probentischpositionen tx,
ty und tz ab.
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Die
Koordinaten x
Pq, y
Pq,
z
Pq der Marken
7 (q = 1, 2, ...
Q) in einem zur Probe ortsfesten Koordinatensystem P stehen über die
durchgeführten
Translationen und Rotationen der Probe
6 für die einzelnen
Kalibrierstellungen mit den Koordinaten des Probentisches
2 in
Verbindung. Bei der diskutierten zweidimensionalen Kalibrierung
lautet die Beziehung wie folgt:
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In
dieser Formel bezeichnen xs, ys und
zs die Koordinaten im ortsfesten Koordinatensystem
S des Probentisches 2. Die Rotationsmatrix Rz(Ψz) bezeichnet die Rotation der Probe 6 um
die z-Achse des
Koordinatensystems S des Probentisches 2. rx und
ry bezeichnen die Translation der Probe 6 relativ
zum Probentisch 2.
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Die
Markenkoordinaten xPq, yPq und
zPq müssen
im voraus nicht bekannt sein. Ihre Werte, die nachfolgend auch als
Probenparameter bezeichnet werden, werden ebenfalls durch die Kalibrierung
bestimmt.
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Für die Probentisch-
und Probenparameter wird ein lineares Gleichungssystem aufgestellt,
indem ausgenutzt wird, daß sich
nach den obigen Annahmen die gemessenen Koordinaten der Marken
7 durch
Addition des Probentischfehlers zu ihren tatsächlichen Koordinaten erklären lassen.
In zwei Dimensionen lautet die Beziehung wie folgt:
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Hier
bezeichnen mxSi (J) bzw.
mySi (J) den x- bzw.
y-Meßwert
für die
Probentischkoordinaten der i-ten
Einzelmessung. Der hochgestellte Index J verweist auf die zugehörige Kalibrierstellung
der Probe 6 und läuft
von 1 bis zur Anzahl M der gemessenen Kalibrierstellungen. Auf der
rechten Seite stehen im ersten Vektor die tatsächlichen Probentischkoordinaten
xSi (J) bzw. ySi (J) der Marken 7,
welche nach demselben System indiziert sind. Im zweiten Vektor auf
der rechten Seite sind die x- und y-Komponenten des Probentischfehlers
an der Probentischposition (txi, tyi) angegeben, die bei der i-ten Einzelmessung
angefahren wurde.
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Durch
Einsetzen der Gleichungen (1) und (2) in die Gleichung (3) erhält man ein
lineares Gleichungssystem in Probentisch- und Probenparametern.
Die Rotationen des Probentisches werden nach den üblichen Annahmen
nicht berücksichtigt,
vom Prüfling
nur die Rotation um die z-Achse:
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Erfindungsgemäß wurde
festgestellt, daß systematische
Fehler des Metrologiesystems 1 bei der Messung der Markenpositionen
die Kalibrierung nachteilig verschlechtern. Selbst ein sehr hoher
Aufwand bei Design und tatsächlichem
Aufbau des Metrologiesystems 1 kann solche systematischen
Fehler nicht vollständig vermeiden.
Daher werden hier solche systematischen Fehler bei der Kalibrierung
mit berücksichtigt.
Dies wird hier beispielhaft anhand systematischer Abbildungsfehler
des Mikroskops 3 beschrieben.
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So
kann pro konstantem bzw. systematischem Abbildungsfehler eine weitere
Spalte in der Matrix K hinzugefügt
werden. Pro zusätzliche
Spalte wird im Parameter-Vektor ein zusätzlicher Lösungsparameter τ
1, τ
2 etc.
aufgenommen, so daß man
zu nachfolgender Formel (5) gelangt
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Hier
bezeichnet ν1,x die x-Komponente des ersten Fehlermusters,
v1,y die y-Komponente des ersten Fehlermusters, ν2,x die
x-Komponente des zweiten Fehlermusters ..., wobei die Fehlermuster
an den tatsächlichen
Markenpositionen (xLi, yLi)
im Aufnahmebereich bzw. Bildfeld des Mikroskops 3 ausgewertet
werden. Diese Bildfeldpositionen fließen somit als zusätzliche
Information in die Auswertung mit ein. Die Fehlermuster können z.
B. Bildrotation, fehlerhafter Vergrößerungsfaktor, Verzeichnung,
Koma, ... sein.
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Das
lineare Gleichungssystem gemäß Formel
(5) wird nach dem Parametervektor aufgelöst, womit der Probentischfehler
in Form der Parameter λ1 bis λR, die Positionen (xPq,
yPq) der Marken 7 relativ zueinander sowie
die Fehlermuster des Mikroskops 3 in Form der Parameter τ1, τ2 bekannt
sind. Bei einem überbestimmten
Gleichungssystem wird die Gaußsche
Methode der geringsten Fehlerquadrate angewandt, um die Lösungsparameter
des Parametervektors im Sinne eines besten Fits zu ermitteln.
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Als
Beispiel für
ein Fehlermuster des Mikroskops wird die Bildrotation beschrieben,
also die Drehung des Bild-Koordinatensystems gegenüber dem
Koordinatensystem S des Probentisches. Da das Koordinatensystem
L des Metrologiesystems
1 so gewählt ist, daß es mit dem Bild-Koordinatensystem
(= Koordinatensystem der Aufnahme) zusammenfällt, wird das Bildkoordinatensystem
ebenfalls mit L bezeichnet und weisen die entsprechenden Größen als
Index den Buchstaben L auf. In
2 ist der
Aufnahmebereich bzw. das Bildfeld des Mikroskops
3 gezeigt.
Die Bildrotation führt
zu einem Meßfehler
gemäß der nachfolgenden
Gleichung 6
wobei φ die Bildrotation
(Drehwinkel) angibt. Der Meßfehler
ist als Pfeil P2 eingezeichnet. Bei kleinen Rotationswinkeln kann
die in Gleichung (6) angegebene lineare Näherung durchgeführt werden.
Dies führt
zu dem in nachfolgender Gleichung (7) angegebenen linearen Gleichungssystem,
bei dem nur ein optisches Fehlermuster (die Bildrotation) berücksichtigt
ist. Der entsprechende zusätzliche
Lösungsparameter
ist dann der Drehwinkel φ.
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Erfindungsgemäß kann somit
eine Kalibrierung durchgeführt
werden, bei der ein Abbildungsfehler des Mikroskops 3 gleich
in der Kalibrierung des Probentisches 2 berücksichtigt
wird.
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Erfindungsgemäß lassen
sich mehrere optische Abbildungsfehler gleichzeitig berücksichtigen,
wobei ermittelt werden kann, ob eine Verbesserung bei der Kalibrierung
auftritt oder nicht. Wenn eine Verbesserung auftritt, wird der entsprechende
Abbildungsfehler in die Matrix K aufgenommen. Wenn nicht, wird der
entsprechende Abbildungsfehler in der Matrix K nicht berücksichtigt.
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Um
die Leistungsfähigkeit
des erfindungsgemäßen Kalibrierverfahrens
zu untersuchen, wurde eine Probe 6 mit 11 × 11 Marken 7 in
einem quadratischen 7 mm Raster untersucht, wobei sechs Kalibrierstellungen berücksichtigt
wurden. In der ersten Kalibrierung sind die Marken 7 deckungsgleich
mit dem Raster des Probentisches. In der zweiten Kalibrierung ist
die Probe 6 um einen Rasterpunkt in +x-Richtung verschoben
(rx = +7 mm). In der dritten Kalibrierstellung
ist die Probe 6 um einen Rasterpunkt in der –x-Richtung
verschoben (rx = –7 mm). In der vierten Kalibrierstellung
ist die Probe 6 um 90° rotiert
(ψz = π/2).
In der fünften
Kalibrierstellung ist die Probe 6 um 90° rotiert und danach um einen
Rasterpunkt in +x-Richtung verschoben. In der sechsten Kalibrierstellung
ist die Probe 6 um 90° rotiert
und danach um einen Rasterpunkt in –x-Richtung verschoben. Diese
sechs Kalibrierstellungen werden nachfolgend auch Standardbeispiel
genannt.
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Als
Kalibrierfehler wird die Differenz zwischen den Werten der 11 × 11 Probentischparameter,
wie man sie durch Auflösen
von Gleichung (5) bzw. (7) bei vorgegebenen Ungenauigkeiten bei
der Probentischpositionierung und vorgegebenen systematischen Fehlern
erhält,
und den simulierten Werten an diesen Rasterpunkten für den idealen
Fall (also keine Probentischpositionierungsgenauigkeit sowie keine
systematischen Meßfehler)
untersucht. Als systematischer Bildrotationsfehler wurde φ = 100 μrad und als
Positionierungenauigkeit des Probentisches 2 für Translationen
wurde 3 μm
Standardabweichungen in x und y angenommen. Der Kalibrierfehler
bei Berücksichtigung
der Bildrotation bei der Kalibrierung war überall kleiner als 10–12 m,
was auf numerische Ungenauigkeiten und Effekte zweiter Ordnung zurückzuführen ist.
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Somit
wirken sich die berücksichtigten
Abbildungsfehler in erster Ordnung nicht mehr auf den Kalibrierfehler
aus, so daß Abbildungsfehler
und Probentischfehler weitgehend entkoppelt werden. Dadurch sinkt die
Anforderung an die Optik des Mikroskops und an die Positioniergenauigkeit
des Probentisches.
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Nachfolgend
werden weitere systematische Meßfehler
beschrieben, die bei der Kalibrierung auftreten können und
die entweder alleine oder in Kombination mit einem oder mehreren
der hierin beschriebenen systematischen Meßfehler bei der Kalibrierung
berücksichtigt
werden können.
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So
kann z. B., wie schematisch in 3 angedeutet
ist, die Probe 6 eine plane Oberfläche E aufweisen, auf der die
Marken 7 ausgebildet sind und die gegenüber der xSyS-Ebene des Probentischkoordinatensystems
P verkippt ist. In dem in 3 gezeigten
Beispiel ist die Probe 6 nur um die yS-Achse
um den Kippwinkel Ψy verkippt. Bei der zweidimensionalen Kalibrierung
fließen
nur die Koordinaten xS und yS der
Marken 7 ein, so daß durch
diese Projektion auf die xSyS-Ebene
alle Abstände
um den Kosinus des Kippwinkels verkürzt erscheinen (Projektionsfehler).
Bei dem in 3 gezeigten Beispiel erhält man anstatt
des Abstandes a1 des Abstand a1·cos(Ψy) und erhält man anstatt des Abstandes
a2 den verkürzten Wert a2 cos(Ψy). Da die Verkippung in jeder Kalibrierstellung
unterschiedlich sein kann, würden
die Meßergebnisse
der Voraussetzung einer starren Verschiebung der Probe 6 in
der xSyS-Ebene widersprechen.
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Natürlich kann
nicht nur eine Verkippung um die yS-Achse
des Probentischkoordinatensystems S vorliegen, sondern auch eine
Verkippung um die xS-Achse des Probentischkoordinatensystems
S (der entsprechende Kippwinkel wäre dann Ψx).
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Um
diesen systematischen Fehler bei der Kalibrierung zu berücksichtigen,
werden für
jede Kalibrierstellung die Kippwinkel Ψ
x und Ψ
y gemessen und bei der Bildung der Matrix
K gemäß Formel
(4) wie folgt berücksichtigt:
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Als
Kalibrierfehler wird hier die Differenz zwischen den Werten der
11 × 11
Probentischparameter, wie man sie durch Auflösen von Gleichung (4) mit der
Matrix K gemäß der Gleichung
(8) bei vorgegebenen Ungenauigkeiten bei der Probentischpositionierung
und vorgegebenen systematischen Fehlern erhält, und den simulierten Werten
an diesen Rasterpunkten für
den idealen Fall untersucht. Somit werden sowohl bei der Auflösung der
Gleichung (4) als auch bei der Simulation Verkippungen um die xs-Achse und ys-Achse
berücksichtigt,
bei der Auflösung
der Gleichung (4) jedoch noch zusätzlich als systematischer Fehler
Kippfehler, wobei in der ersten Kalibrierstellung des Standardbeispiels Ψx = 300 μrad, Ψy = 200 μrad,
in der zweiten Kalibrierstellung des Standardbeispiels Ψx = –500 μrad sowie
in der vierten Kalibrierstellung des Standardbeispiels Ψx = –300 μrad angenommen
wurden. Der Kalibrierfehler bei Berücksichtigung der Verkippung
der Probe 6 war überall
kleiner als 10–12 m, was auf numerische
Ungenauigkeiten und Effekte zweiter Ordnung zurückzuführen ist.
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Ferner
können
zu z proportionale Probentischfehler auftreten. Wie in 4 schematisch
dargestellt ist, kann der Spiegel 10 am Probentisch 2 für das Meßmodul 4 um
die yS-Achse gekippt sein, so daß eine zur z-Position
des Probentisches 2 proportionale x-Translation auftritt
(es findet ein Übersprechen
von ΔzS zu Δxs statt). Die entsprechende Spur 11 eines
Meßmoduls
(für das
stellvertretend ein Strahl 12 eingezeichnet ist) für die y-Richtung
ist in 4 dargestellt. Eine entsprechende Spur liegt auch
für das
Meßmodul 4 bzw.
den entsprechenden Strahl 13 vor. In 4 ist
noch schematisch ein Strahlenbündel 15 eingezeichnet,
das stellvertretend ist für
die Detektion mittels des Mikroskops 3. Die xS-Translation des Probentisches
ist proportional zum Oberflächenprofil
der Probe 6 und führt
zu unerwünschten
systematischen Fehlern. Natürlich
können
kompliziertere geometrische Effekte zu weiteren Probentischfehlern
führen,
die zur z-Position des Probentisches 2 proportional sind,
beispielsweise Rotationen aufgrund tordierter Spiegeloberflächen für die Meßmodule 4.
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Da
dieser systematische Fehler linear im Kippwinkel des Spiegels
10 ist,
kann er vollständig
vermieden werden, indem ein zusätzlicher
Lösungsparameter α
x in
Gleichung (4) eingefügt
wird (entsprechendes gilt natürlich
für den
Spiegel
14, der alternativ oder zusätzlich mit einem zusätzlichen
Lösungsparameter α
y berücksichtigt
werden kann):
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Hierbei
bezeichnet K die ursprüngliche
Matrix K von Formel (4) und β den
ursprünglichen
Parametervektor aus Gleichung (4). Mit mzSi (J) ist die z-Position des Probentisches 2 in
der i-ten Einzelmessung bezeichnet, welche zur J-ten Kalibrierstellung
gehört.
Analog können
andere zu z proportionale Fehler behandelt werden.
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Ausgehend
vom Standardbeispiel mit einer zusätzlich angenommenen Verkippung
des Spiegels 10 um die yS-Achse
um 100 μrad
sowie mit einem Höhenprofil
der Probe 6, bei der die z-Positionen alle 11 × 11 Marken
eine 5 μm
Standardabweichung aufweisen, war der resultierende Kalibrierfehler
bei Einführung
des Lösungsparameters αx überall kleiner
als 10–12 m,
was auf numerische Ungenauigkeiten zurückzuführen ist.
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Bei
dem in Verbindung mit 3 beschriebenen systematischen
Projektionsfehler bei gekipptem Prüfling wurde davon ausgegangen,
daß alle
Markierungen 7 in einer Eben E liegen. Wenn dies aufgrund
einer unebenen Oberfläche
der Probe 6 nicht der Fall ist, tritt wie nachfolgend in
Verbindung mit 5 beschrieben ist, ein weiterer
Projektionsfehler auf. Das Höhenprofil
der Oberfläche
der Probe 6 kann im Koordinatensystem P der Probe 6 durch
eine Funktion h(xP, yP)
beschrieben werden. Ein Kippwinkel Ψy,
um die yS-Achse erzeugt nun zusätzlich zu
der Kosinus-Verkürzung
gemäß 3 eine
Komponente der Größe h(xP, yP)·sin(Ψy), die in 5 durch
die Pfeile PS dargestellt ist (in 5 ist noch
eine Referenzebene E eingezeichnet, die sich durch Mittelung über die
Oberfläche
der Probe 6 ergibt).
-
Zur
Berücksichtigung
dieses systematischen Fehlers werden einerseits die Kippwinkel Ψ
x (J) und Ψ
y (J) in jeder Kalibrierstellung
gemessen. Außerdem
wird das Höhenprofil
Z
Pi = h(x
P, y
Pi) der Probe
6 an den Orten der
Marken
7 gemessen. Damit kann der Meßwertvektor in Gleichung (4)
um den Sinus-Beitrag des Projektionseffektes wie folgt korrigiert
werden:
-
Zur
Ermittlung des Kalibrierfehlers wurde zusätzlich zum Standardbeispiel
folgende Kippwinkel in den einzelnen Kalibrierstellungen von Ψx ( 1 ) = 300 μrad, Ψy (1) = 200 μrad, Ψx (2) = –500 μrad und Ψv (4) = –300 μrad angenommen.
Ferner wurde ein Höhenprofil
der Probe 6 angenommen, bei der die z-Positionen alle 11 × 11 Marken 7 eine
5 μm Standardabweichung
aufweisen. Der resultierende Kalibrierfehler war kleiner als 10–12 m, was
auf numerische Ungenauigkeiten zurückzuführen ist.
-
Die
notwendigen Kippwinkel Ψ
x und Ψ
y können
beispielsweise durch Messung der z-Position des Probentisches
2 in
jeder Kalibrierstellung in Verbindung mit der nachfolgenden Gleichung
(11) ermittelt werden
-
Natürlich ist
es auch möglich,
die Kippwinkel durch ein weiteres Meßgerät zu ermitteln.
-
In 6 ist
ein weiterer systematischer Fehler angedeutet, der dann auftritt,
wenn der Probentisch 2 um den Bezugspunkt gedreht ist.
In 6 ist das Bildfeld des Mikroskops 3 bei
einer Rotation des Probentisches 2 um die zL-Achse
des Koordinatensystems L des Metrologiesystems 1 schematisch
dargestellt. So ist einerseits die Markenposition 7' für den Drehwinkel φz = 0 (also ohne Drehung um die zL-Achse) sowie andererseits die Position
einer Marke 7 für
eine Drehung von φz ≥ 0
gezeigt. Der dadurch bedingte Fehler ist proportional zum Abstand
der Marke 7 vom Bezugspunkt 16 (hier der Koordinatenursprung
des Koordinatensystems L) und in erster Ordnung proportional zum
Rotations- bzw. Drehwinkel φz. Entsprechendes gilt für Drehungen um die yL-Achse und die xL-Achse
(die entsprechenden Drehwinkel werden dann mit φx sowie φy bezeichnet).
-
Die
Drehung bzw. Rotation des Probentisches 2 werden für alle drei
Achse gemessen und diese Informationen werden in der nachfolgenden
Formel (12) berücksichtigt,
die die Meßwerte
mxS, myS sowie mzS der Position der Marken 7 beschreibt.
Diese Meßwerte
gehen in die obige Gleichung (4) ein.
-
-
Der
Kalibrierfehler ergibt sich als kleiner als 10–12 m
bei dem Standardbeispiel sowie zusätzlich einer Positioniergenauigkeit
des Probentisches 2 für
Translationen mit einer Standardabweichung in x und y von 3 μm und einer
Positioniergenauigkeit des Probentisches 2 für Rotation
um die z-Achse mit einer Standardabweichung von 10 μrad.
-
Wenn
der Probentisch
2 um einen Punkt gedreht ist, der nicht
mit dem Bezugspunkt identisch ist, tritt noch zusätzlich ein
sogenannter Abbe-Fehler auf. In dem in
7 gezeigten
Beispiel ist das Drehzentrum des Probentisches
2 in x-Richtung
vom Bezugspunkt weg um eine Strecke Δx verschoben. Es sind in ähnlicher Weise
wie in
6 die Markenpositionen
71 und
72 eingezeichnet. Ferner ist die Markenposition
73 eingezeichnet, an der die Marke
7 bei
der Messung tatsächlich
erfaßt
wird. Es wird angenommen, daß diese
Verschiebung unbekannt ist. Eine Drehung des Probentisches
2 um
den Drehwinkel φ
z # 0 um die z
L-Achse
würde dann zusätzlich zu
dem in Verbindung mit
6 erläuterten Beitrag einen rotationsabhängigen Meßfehler
der Größe
erzeugen,
der proportional zum Versatz (Abbe-Fehler) Δx ist. Der rotationsabhängige Gesamtfehler
ergibt sich durch Berücksichtigung
aller drei Drehwinkel (φ
x, φ
y, φ
z) und aller drei Abbe-Fehler (Δx, Δy, Δz) zu
-
Im
Allgemeinen müssen
sechs Freiheitsgrade des Probentisches 2 zur Positionsbestimmung
gemessen werden, beispielsweise mit sechs Interferometern 4,
so daß die
Fehler auch in komplizierter Weise von den gemessenen (im Unterschied
zu den tatsächlichen)
Rotationen abhängen
können.
In jedem Fall lassen sich diese jedoch in eine Potenzreihe nach
den drei gemessenen Drehwinkeln φx, φy und φz entwickeln. Jeder Term dieser Potenzreihe
kann dann als eigener Fehlerbeitrag betrachtet werden, oft reichen
die Terme erster Ordnung aus.
-
Gleichung
(4) wird daher um Lösungsparameter
erweitert, welche den rotationsabhängigen Fehlern entsprechen,
beispielsweise wie folgt:
-
Hier
bezeichnet K die ursprüngliche
Matrix K gemäß Gleichung
(4) und λ den
ursprünglichen
Parametervektor aus Gleichung (4). Neben der dargestellten Auswahl
der Terme erster Ordnung können
im Prinzip auch weitere Ordnungen einbezogen werden, also beispielsweise φy·φz.
-
Unter
Berücksichtigung
des Standardbeispieles und der Positioniergenauigkeit des Probentisches
für Translationen
mit einer Standardabweichung von 3 μm in x und y und einem Abbe-Fehler
von Δx =
100 μm, Δy = 0 und Δz = 0 ergibt
sich ein Kalibrierfehler von kleiner 10–12 m,
der auf numerische Ungenauigkeiten zurückzuführen ist.
-
Ein
Vorteil dieses Vorgehens besteht darin, daß das Drehzentrum des Probentisches 2 weniger
genau bekannt sein muß als
in einem Fall, bei dem die Drehung des Probentisches 2 nicht
in der oben beschriebenen Art und Weise mit kalibriert wird. Außerdem enthält die Lösung der
obigen Gleichung 15 in Form der zusätzlichen Lösungsparameter b1, b2, ...,
c1, c2, ... Informationen über
die tatsächliche
Lage des Drehzentrums.
-
Ein
weiterer systematischer Fehler können
Schwerkraft bedingte Deformationen der Probe 6 sein. Wie in
der Darstellung von 8 schematisch und deutlich übertrieben
dargestellt ist, wird die Probe 7 aufgrund der Schwerkraft
(durch Pfeil 18 angedeutet) deformiert, wobei die Deformation
davon abhängt,
an welchen Punkten die Probe 6 auf dem Probentisch 2 gelagert
ist. In 8 sind schematisch zwei Auflagen 20, 21 gezeigt.
Die Deformation der Probe 2 kann mittels eines Deformationsfeldes
beschrieben werden, das Komponenten in allen drei Raumrichtungen
besitzt. Bei dem in 8 gezeigten Beispiel ist aufgrund
der Stauchung an der Oberseite der Probe der Abstand der einzelnen
Marken 7 kleiner als er tatsächlich ist. Die Stauchung der
Probe 6, die oberhalb der neutralen Faser 22 vorliegt,
ist direkt proportional zur Dicke d der Probe 6. Gleiches
gilt für
die Dehnung der Probe in dem Bereich unterhalb der neutralen Faser 22.
Auch die Dehnung ist direkt proportional zur Dicke d der Probe 6.
Wenn die Probe 6 in den unterschiedlichen Kalibrierstellungen
auf dem Probentisch 2 positioniert wird, ändert sich
jedesmal die Deformation in Abhängigkeit
von der tatsächlichen
Position der Auflagen 20, 21 relativ zur Probe 6,
was zu einem unerwünschten
systematischen Fehler führt.
-
Wenn
Geometrie und elastische Materialkonstanten der Probe 6 und
der Auflagen 20, 21 bekannt sind, kann der Deformationsvektor Δgi = (Δgi,x, Δgi,y, Δgi,z) für
jede Marke 7 in jeder Kalibrierstellung als Differenz zwischen
der tatsächlichen
und einer hypothetischen schwerefreien Position berechnet werden.
Entscheidend ist hier, daß sich
diese Größe räumlich in
der Regel nicht auf kurzer Skala verändert, so daß schon
relativ grobe Angaben über
die (anfänglich
noch nicht genau bekannten) Positionen der Marken 7 ausreichend
sind, um die Deformationsvektoren Δgi mit
einer ausreichenden Genauigkeit zu bestimmen. Dies ist beispielsweise der
Fall, wenn die Probe 2 eine Fotolithographiemaske ist.
-
Sind
die Deformationsvektoren Δg
i zudem klein gegenüber den Gradienten des Probentischfehlers,
so daß dieser
in der tatsächlichen
und der schwerefreien Position einer bestimmten Marke
7 mit
guter Genauigkeit gleich groß ist,
reicht es aus, eine Korrektur erster Ordnung vorzunehmen, indem
man die Deformationskomponenten der Deformationsvektoren Δg
i von den Meßwerten abzieht. Somit kommt
man ausgehend von der obigen Formel (4) zu dem nachfolgend angegebenen
modifizierten linearen Gleichungssystem:
-
Der
Kalibrierfehler bei Berücksichtigung
dieses systematischen Fehlers war kleiner 10–12 m,
was wiederum auf numerische Ungenauigkeiten zurückzuführen ist, wobei zusätzlich zu
dem Standardbeispiel Deformationen in zS-Richtung
im Bereich von –3
bis +4 × 10–8 m
in der ersten und vierten Kalibrierstellung sowie im Bereich von –8 bis +6 × 10–9 m
für die
anderen Kalibrierstellung angenommen wurden.
-
Die
Berücksichtigung
dieses systematischen Fehlers aufgrund der Deformation führt zu dem
Vorteil, daß die
Anforderung an die Steifigkeit der Probe 6 verringert werden
können
im Vergleich zu dem Fall, bei dem dieser systematische Fehler nicht
bei der Kalibrierung berücksichtigt
wird.
-
Ferner
kann ein proportionaler Fehler im Deformationsfeld auftreten, wenn
der E-Modul, die Dichte ρ der
Probe 6 und/oder der Ortsfaktor g der Schwerkraft nicht
genau bekannt sind. In erster Ordnung ist das berechnete Deformationsfeld
proportional zu g·ρ/E, ein Fehler δ(g·ρ/E) führt also
in erster Ordnung zu einem proportionalen Fehler aller Komponenten
des Deformationsfeldes. Ist beispielsweise der E-Modul der Probe 6 nur mit
einer Genauigkeit von 1% bekannt, kann dies zu Fehlern von bis zu ±0,3 nm
in der y-Position der Marken 7 führen.
-
Gemäß Gleichung
(16) führt
der Fehler δ(g·ρ/E) in erster
Ordnung zu einem proportionalen Beitrag, der wie folgt durch einen
zusätzlichen
Lösungsparameter ε berücksichtigt
werden kann.
-
-
Der
sich daraus ergebende Kalibrierfehler beträgt überall kleiner 10–12 m,
bei gleichen Annahmen wie bei der obigen Beschreibung des Deformationsfehlers
sowie mit der zusätzlichen
Annahme, daß Deformationswerte Δg um 1% zu
klein sind. Da der Wert von ε ungefähr 1,01
betrug, führt
selbst die E-Modul-Genauigkeit von 1% zu keinem Kalibrierfehler.
-
Das
Deformationsfeld und damit ein genauer Wert g·ρ/E ließe sich bestimmen, indem man
die Probe 6 beispielsweise verschiebt oder um 90° verdreht.
Die Differenz der Markenposition zwischen den beiden Stellungen
entspricht dann bis auf eine mögliche
Starrkörperbewegung
der Änderung
des Deformationsfeldes. Dieses Vorgehen setzt jedoch einen kalibrierten
Probentisch 2 voraus. Nach dem obigen Beispiel pflanzt
sich nun jedoch der Fehler δ(g·ρ/E) in voller
Höhe auf
das Ergebnis der Kalibrierung fort, so daß der Fehler in der Kalibrierung
immer so groß wäre, wie
die zu messende Größe selbst.
Mit der hier vorgeschlagenen Korrekturmethode läßt sich dieses Dilemma lösen.
-
In
vorteilhafterweise müssen
somit der Ortsfaktor g sowie E-Modul und Dichte der Probe 2 weniger genau
bekannt sein im Vergleich zu dem Fall, in dem die Deformation bei
der Kalibrierung nicht berücksichtigt wird.
Zusätzlich
erhält
man über
den weiteren Lösungsparameter ε die Information
darüber,
wie groß der
Fehler in g·ρ/E ist.
-
Bei
der bisher beschriebenen Kalibrierung wird der Probentisch 2 durch
seine Fehler an den Markenpositionen beschrieben, sie bilden die
Probentischparameter in Gleichung (4). Dieses Vorgehen liefert bereits die
Relativposition der Marken 7. Jedoch muß man einen Interpolationsfehler
für den
Probentisch zwischen den Markenpositionen in Kauf nehmen. Unter
Ausnutzung der nach den obigen Varianten bestimmten Positionen der
Marken 7 kann der Probentischfehler an Zwischengitterpositionen
dadurch besser bestimmt werden, daß das Gitter (hier die 11 × 11 Marken 7 im
quadratischen 7 mm Raster) in eine nicht rastersymmetrische Stellung
gebracht wird. Dies können
beispielsweise Translationen um einen Bruchteil der Gitterkonstante
(hier 7 mm) sein oder aber Rotationen, die nicht Vielfache von 90° betragen.
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Besonders
bieten sich Rotationen um 30° und
60° an.
Das kartesische Gitter 25, das die Marken 6 bilden,
ist in 9 einmal mit durchgezogenen Linien dargestellt
und einmal mit gestrichelten Linien um 30° gedreht. Manche Gitterpunkte
(Positionen der Marken) liegen dann näherungsweise oder sogar genau
auf Punkten des ungedrehten Gitters (Kreise 26 in 9).
Andere Punkte liegen auf Zwischengitterpositionen, manchmal nur
bezüglich
einer Koordinate (Kreise 27 in 9), oft
bezüglich
beider Koordinaten x und y (Kreise 28 in 9).
Aus der rastersymmetrischen Kalibrierung nach Gleichung (4) sind
bereits die Probentischfehler fx und fy an den Gitterpunkten des durchgezogenen
Rasters bekannt, außerdem
die Relativpositionen (xPi, yPi)
der Marken 7 auf der Probe 6. Die Messungen an
den Gitterpositionen 26, wo Marken 6 des gedrehten Gitters
mit dem ungedrehten zusammenfallen, können daher verwendet werden,
um Drehwinkel und xy-Position der um 30° gedrehten Probe sehr genau
zu bestimmen. Nutzt man diese Positionsinformation, und interpoliert
man die Probentischfehler fx und fy vom ungedrehten Raster auf die Zwischengitterpositionen 27 und 28,
dann lassen sich Vorhersagen für
die Messwerte (mxSi, mxSi)
der um 30° gedrehten
Probe für
jede der Zwischengitterpositionen 27 und 28 treffen.
Die Differenz zwischen vorhergesagten und tatsächlich gemessenen Werten sagt
aus, um wieviel der tatsächliche
Probentischfehler fx und fy an
der betreffenden Zwischengitterposition 27 und 28 vom
interpolierten Wert abweicht. Auf diese Weise kann die Kalibrierung
des Probentisches um die Korrekturwerte an den gemessenen Zwischengitterpositionen 27 und 28 erweitert
werden. Dies ist besonders dann vorteilhaft, wenn als zusätzliche
Vereinfachung angenommen werden kann, dass die für den Interpolationsfehier
relevanten Beiträge
zu den Probentischfehlern entlang x oder entlang y konstant sind.
In diesem Fall gelten nämlich
Korrekturwerte, welche an einer Zwischengitterpositionen 27 und 28 ermittelt
wurden, nicht nur lokal an dieser Stelle, sondern für eine Gerade
parallel zur x- oder y-Achse, welche durch den Zwischengitterpunkt
geht.
-
Ein
in xS oder in yS konstanter
Probentischfehler tritt beispielsweise dann auf, wenn der Probentisch 2 in
zwei Dimensionen interferometrisch angemessen wird, wie dies in 10 schematisch
dargestellt ist. So wird der rauhe x-Spiegel 10 durch das
als Interferometer ausgebildete Meßmodul 4 angemessen,
wie durch den Pfeil 13 schematisch dargestellt ist. Der
rauhe y-Spiegel 14 wird durch ein weiteres Meßmodul interferometrisch
angemessen, wie durch den Pfeil 12 schematisch dargestellt
ist. Der Probentischfehler ist dann konstant in yS,
wenn der Fehler auf dem Meßmodul 4,
das als x-Interferometer ausgebildet ist (Fehler Gruppe 1), oder
auf dem y-Spiegel 14 beruht (Fehler Gruppe 4). In diesen
Fällen ändert sich
der Fehler mit xS. Der Fehler ist konstant
in xS und variiert mit yS,
wenn er auf dem x-Spiegel 10 (Fehler Gruppen) oder dem
y-Interferometer 12 (Fehler Gruppe 3) beruht.
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Um
den Interpolationsfehler bei der Kalibrierung zu berücksichtigen,
können
in Gleichung (4) zusätzliche
Lösungsparameter
eingeführt
werden, welche den angegebenen vier Gruppen von Probentischfehlern (oder
einer Auswahl davon) an den zusätzlichen
Stützstellen
entsprechen. Diese müssen
nicht genau mit den Positionen der Marken
7 in den symmetriebrechenden
Stellungen zusammenfallen. In diesem Fall muß die Matrix K von den zusätzlichen
Stützstellen
auf die Position der Marken
7 interpolieren. Der entstehende
Interpolationsfehler ist dann allerdings durch die dichtere Abstützung deutlich
kleiner als bei der rastersymmetrischen Kalibrierung
-
Hier
bezeichnet β den
ursprünglichen
Parametervektor aus Gleichung (4), also die Probentischfehler an
den Rasterpunkten sowie die Parameter für die Markenpositionen. λ1 sind
die Probentischfehler der Gruppe 1 an den zusätzlichen Stützstellen und K1 interpoliert
von diesen Stützstellen
auf die tatsächlichen
Probentischpositionen. Entsprechendes gilt für λ2 und
K2 usw. Die Interpolation kann im allgemeinen
auf von einem Typ sein, der die fünf Arten von Lösungsparametern
miteinander vermischt, anstatt sie, wie in der Formel (18) angegeben
ist, getrennt behandelt. Die Spaltenvektoren der Matrix K(tx, ty) müssen hierbei
auf einem bestimmten Raster oder Grundgebiet (tx,
ty) linear unabhängig von den Spaltenvektoren
der Matrizen K1(tx,
ty) bis K4(tx, ty) gewählt werden
(Orthogonalität
kann für
die Anwendbarkeit der Gauß-Optimierung
im strengeren Sinne gefordert werden, ist aber nicht unbedingt notwendig).
Mit diesem Vorgehen läßt sich
das Problem hinsichtlich der Interpolationsfehler in einem einzigen
Rechenschritt lösen.
-
Um
den Kalibrierfehler abschätzen
zu können,
wurden zusätzlich
zu den sechs Kalibrierstellungen des Standardbeispieles noch eine
30°-Drehung
und eine 60°-Drehung
simuliert und wurde für
den Probentisch 2 ein sinusförmiger Fehler des y-Spiegels 14 angenommen.
Für die
Auswertung wurden in Gleichung (18) Parameter für die vierte Gruppe eingeführt, und
zwar immer zwei zusätzliche
Stützstellen
zwischen zwei kartesischen Rasterpunkten.
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11 zeigt
bei linearer Interpolation eine wesentlich bessere Approximation
an den eingangs angenommenen Sinus-Verlauf als das Ergebnis der
Standardauswertung, in der nur das kartesische Raster verwendet
wird. So ist in 11 das angenommene Spiegelprofil
fx (in nm) als durchgezogene Linie dargestellt. Die
kalibrierten Punkte bei kartesischer Kalibrierung sind als Kreise
dargestellt und die kalibrierten Punkte mit Drehungen um 30° bzw. 60° sind als
Plus-Zeichen eingezeichnet.
-
Ferner
läßt sich 12 entnehmen,
daß die
in nm gezeigten Interpolationsfehler Δfx mit
kartesischem Raster (gestrichelt dargestellt) deutlich größer sind
als die Interpolationsfehler mit den zusätzlichen Parametern gemäß der oben
angegebenen 30°-
und 60°-Drehung.
-
Es
läßt sich
die räumliche
Auflösung
für die
vier in der Praxis relevanten Gruppen 1–4 von zu kalibrierenden Beiträgen mit
deutlich geringerem Meßaufwand
erhöhen
als durch eine dichtere kartesische Rasterung der Fläche. Die
Anzahl der zusätzlich
zu bestimmenden Parameter wächst
nur proportional zur Seitenlänge des
Gitters an, während
sie für
ein dichteres kartesisches Gitter proportional zur Fläche wäre.
-
Wenn
zur Erfassung der Marken 7 bei der Messung ein Mikroskop 3 verwendet
wird, können
dessen Bildfehler von der Orientierung der verwendeten Marken 7 abhängen. Eine
solche Abhängigkeit
kann vermieden werden, wenn die Marken 7 symmetrisch bezüglich aller
Transformationen sind, welche die Probe 6 in einer bestimmten
Kalibriersequenz durchläuft.
Werden die beschriebenen nicht rastersymmetrischen Rotationen eingesetzt,
erfüllen übliche kreuzförmige oder
andere Markierungen mit ausschließlich horizontalen und vertikalen
Strukturen diese Bedingungen nicht mehr. Die in 13 gezeigte
Marke 7 ist dagegen beispielsweise invariant unter Drehungen
um Vielfache von 30°.
-
Damit
wird der Vorteil erreicht, daß die
Fehler des Mikroskops unter den Symmetrieoperationen invariant sind,
so daß sie
bei entsprechenden Transformationen der Probe keine Rolle spielen.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren
kann nicht nur mit einer Probe 6, sondern mit mehreren
verschiedenen Proben 6, die jeweils eine Mehrzahl von Marken 7 aufweisen,
durchgeführt
werden. In diesem Fall sind die oben angegebenen Verfahren entsprechend
zu erweitern, wobei für
jede weitere Probe Ω zusätzliche
Parameter xP1(Ω),
..., yPQ(Ω) eingeführt werden.