DE102008004422A1 - Holder for semiconductor wafer, comprises front side and rear side for one-sided sealing of semiconductor wafer, and rear plate is provided, which is arranged parallel to semiconductor wafer, facing rear side - Google Patents

Holder for semiconductor wafer, comprises front side and rear side for one-sided sealing of semiconductor wafer, and rear plate is provided, which is arranged parallel to semiconductor wafer, facing rear side Download PDF

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Abstract

The holder (1) comprises a front side and a rear side for one-sided sealing of a semiconductor wafer (10). A rear plate (30) is provided, which is arranged parallel to the semiconductor wafer, facing the rear side. A seal (60) is provided, which is formed as ring-shaped and comprises a wedge-shaped lip lying radially in the interior.

Description

Die Erfindung betrifft eine Halterung für eine Halbleiterscheibe zur einseitigen Abdichtung der Halbleiterscheibe gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1 bis 3.The The invention relates to a holder for a semiconductor wafer for one-sided sealing of the semiconductor wafer according to the The preamble of claims 1 to 3.

Es ist bekannt, Halbleiterscheiben zur Bearbeitung, insbesondere bei Ätz- oder Beschichtungsprozessen, in Bäder aus chemischen Lösungen oder Reinigungslösungen einzutauchen. Bei bestimmten Vorgängen sollen jedoch die Halbleiterscheiben lediglich auf einer Seite der Behandlung unterzogen werden. Die andere Seite muss dazu abgedeckt bzw. abgedichtet werden. Bekannt ist es, die Halbleiterscheiben einseitig mit einer Schutzschicht wie beispielsweise in Form von Lacken oder Folien abzudecken, welche jedoch in einem weiteren Prozessschritt wieder entfernt werden müssen, was zeit- und kostenintensiv ist.It is known, semiconductor wafers for processing, especially in etching or coating processes, in chemical solution baths or immerse cleaning solutions. For certain operations However, the semiconductor wafers are only on one side of the Be subjected to treatment. The other side must be covered or sealed. It is known, the semiconductor wafers one-sided with a protective layer such as in the form of To cover paints or foils, which, however, in a further process step must be removed again, which is time consuming and costly is.

Bekannt sind weiterhin Halterungen, in welche die Halbleiterscheiben derart eingesetzt werden, dass eine Seite durch die Halterung abgedeckt wird, während zumindest ein Teil der anderen Seite für die Behandlung zugänglich bleibt.Known are also holders in which the semiconductor wafers in such a way be inserted that one side covered by the bracket while at least part of the other side is for the treatment remains accessible.

Der US 2 006/004 6499 A1 ist eine Halterung für eine Halbleiterscheibe zur einseitigen Abdichtung der Halbleiterscheibe zu entnehmen, welche eine parallel zur Halbleiterscheibe angeordnete, der Rückseite zugewandte Rückplatte aufweist, welche die Halbleiterscheibe abstützt und insbesondere die Rückseite abdeckt. Die dort beschriebene Halterung weist weiterhin einen Verschluss zur Sicherung der Halbleiterscheibe an der Rück platte auf, wobei der Verschluss die Vorderseite an einem äußeren Rand der Halbleiterscheibe überdeckt und eine Öffnung aufweist, durch welche zumindest ein Teil einer inneren Fläche der Vorderseite der Halbleiterscheibe zugänglich ist. Ferner weist die dort beschriebene Halterung eine Dichtung auf, welche die Vorderseite der Halbleiterscheibe gegenüber dem Verschluss insbesondere bezüglich fluider Medien bei chemischen Ätz- oder Reinigungsprozessen abdichtet. Die Dichtung ist als O-Ring ausgebildet. Nachteilig bei bekannten Halterungen ist, dass die Dichtung auf der Halbleiterscheibe anklebt und somit Beschädigungen der Halbleiterscheibe nicht vermieden werden können. Zudem können zwischen der O-ringförmigen Dichtung und der Halbleiterscheibe Rückstände der fluiden Medien haften bleiben, wodurch die Halbleiterscheiben verschmutzen.Of the US 2 006/004 6499 A1 a holder for a semiconductor wafer for unilateral sealing of the semiconductor wafer is to be taken, which has a parallel to the semiconductor wafer arranged, the back facing back plate, which supports the semiconductor wafer and in particular covers the back. The holder described therein further comprises a closure for securing the semiconductor wafer to the rear plate, wherein the closure covers the front of an outer edge of the semiconductor wafer and having an opening through which at least a portion of an inner surface of the front side of the semiconductor wafer is accessible. Furthermore, the holder described there has a seal which seals the front side of the semiconductor wafer relative to the closure, in particular with regard to fluid media during chemical etching or cleaning processes. The seal is designed as an O-ring. A disadvantage of known holders is that the seal adheres to the semiconductor wafer and thus damage to the semiconductor wafer can not be avoided. In addition, residues of the fluid media may adhere between the O-ring seal and the semiconductor wafer, thereby contaminating the semiconductor wafers.

Die bekannten Halterungen zur einseitigen Abdichtung der Halbleiterscheiben haben zudem den Nachteil, dass sie nicht für automatisierte Prozesse geeignet sind.The known holders for one-sided sealing of the semiconductor wafers also have the disadvantage that they are not for automated Processes are suitable.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine verbesserte Halterung zur einseitigen Abdichtung von Halbleiterscheiben bereitzustellen, in welchen die Halbleiterscheiben einseitig behandelt werden können, ohne dass die Gefahr von Verschmutzungen oder Beschädigungen besteht. Insbesondere liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine verbesserte Halterung bereitzustellen, welche einen automatisierten Prozess ermöglicht.Of the Invention is therefore the object of an improved holder for the one-sided sealing of semiconductor wafers, in which the semiconductor wafers can be treated on one side, without the risk of contamination or damage consists. In particular, the invention is based on the object, a to provide improved mounting, which is an automated Process allows.

Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Halterung mit den Merkmalen der Ansprüche 1 oder 2 oder 3.The The object is achieved by a holder with the features of claims 1 or 2 Or 3.

Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.advantageous Embodiments and developments of the invention are specified in the subclaims.

Erfindungsgemäß ist die Dichtung der Halterung ringförmig ausgebildet und weist eine radial innenliegende, keilförmige Lippe auf. Durch die keilförmige Lippe wird der Übergang zwischen dem Verschluss und der Halbleiterscheibe derart ausgefüllt, dass keine Ablagerungen der fluiden Medien zwischen dem Verschluss und der Dichtung oder zwischen der Dichtung und der Halbleiterscheibe möglich sind, so dass die Halbleiterscheibe weniger verschmutzt. Insbesondere ermöglicht eine derartig ausgebildete Dichtung auch einen strömungsgünstigen Übergang zwischen der Halterung und der Halbleiterscheibe, so dass der Behandlungsprozess in den Bädern nicht beeinträchtigt wird.According to the invention the seal of the holder is annular and has a radially inner, wedge-shaped lip. By the wedge-shaped lip becomes the transition between the closure and the semiconductor wafer filled so that no deposits of fluid media between the shutter and the seal or between the seal and the semiconductor wafer are possible, so that the semiconductor wafer less dirty. In particular, allows such a trained seal also a streamlined transition between the holder and the semiconductor wafer, allowing the treatment process in the baths is not affected.

In einer alternativen Lösung der Aufgabe weist die Halterung Anfasungen auf, welche insbesondere am Außenumfang des Verschlusses oder entlang der Öffnung des Verschlusses angeordnet sind, um auch auf diese Art und Weise eine strömungsgünstig gestaltete Halterung zu erhalten, welche den Behandlungsprozess nicht beeinträchtigt und Verwirbelungen in der Badströmung vermeidet.In an alternative solution to the problem has the holder Chamfering, which in particular on the outer circumference of Closure or along the opening of the closure are arranged to flow in this way, too designed bracket to receive the treatment process not affected and turbulence in the bath flow avoids.

In einer weiteren alternativen Lösung der Erfindung weist die Halterung wenigstens eine Codierung auf, anhand welcher beispielsweise entweder automatisiert erkannt werden kann, welche Art von Halbleiterscheibe in der Halterung angeordnet ist oder in welcher Ausrichtung die Halterung für einen automatisierten Prozess gehandhabt werden muss, wodurch die Halterung für einen automatisierten Prozess geeignet ist.In a further alternative solution of the invention the holder has at least one coding based on which, for example either automated, it can be detected what kind of semiconductor wafer is arranged in the holder or in which orientation the Holder handled for an automated process must be, making the holder for an automated Process is suitable.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die Halterung sowohl die ringförmig ausgebildete Dichtung, welche einen innenliegende, keilförmige Lippe aufweist, als auch die erfindungsgemäßen Codierungen und die er findungsgemäßen Anfasungen oder eine beliebige Kombination der drei alternativen Ausführungsformen auf, um eine besonders strömungsgünstige Halterung für einen automatisierten Prozess bereitstellen zu können.According to a particularly preferred embodiment of the invention, the holder has both the annular seal, which has an inner, wedge-shaped lip, as well as the inventive codings and he inventive chamfers or any combination of the three alternative embodiments to a particularly streamlined Hal provide an automated process.

Der Verschluss ist vorzugsweise als Bajonettverschluss ausgeführt, da ein derartiger Verschluss besonders einfach geöffnet und geschlossen werden kann, insbesondere lediglich durch eine Drehung um wenige Winkelgrad, so dass ein derartiger Verschluss insbesondere für einen automatisierten Prozess von Vorteil ist.Of the Closure is preferably designed as a bayonet closure, because such a closure particularly easy to open and can be closed, in particular only by a rotation by a few angular degrees, so that such a closure in particular is beneficial for an automated process.

Die Dichtung ist vorzugsweise als ringförmige Flach- oder Profildichtung mit einer Abflachung der ansonsten runden Ringform ausgebildet. Die Abflachung ist dabei insbesondere nach Art einer Sekante durch die ansonsten runde Ringform verlaufend ausgebildet. Dadurch wird eine Dichtung bereitgestellt, die sich an die üblichen Formen der Halbleiterscheiben, welche ebenfalls rund mit einer Abflachung ausgebildet sind, anpasst und somit eine vollständige und zuverlässige Dichtung der Halbleiterscheibe gegenüber dem Verschluss ermöglicht.The Seal is preferably as an annular flat or profile seal formed with a flattening of the otherwise round ring shape. The flattening is in particular in the manner of a secant formed the otherwise round ring shape running. This will provided a seal that conforms to the usual Molds of semiconductor wafers, which are also round with a flattening are trained, adapt and thus complete and Reliable sealing of the semiconductor wafer allows the closure.

Die Dichtung ist vorzugsweise elastisch und verformbar, um einerseits eine zuverlässige Abdichtung gewährleisten zu können, andererseits ggf. auftretende Oberflächenunebenheiten oder Halbleiterscheibendickentoleranzen ausgleichen zu können.The Seal is preferably elastic and deformable, on the one hand ensure a reliable seal too can, on the other hand possibly occurring surface irregularities or to compensate for semiconductor wafer thickness tolerances.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Dichtung in einer in dem Innenumfang des Verschlusses angeordneten Nut angeordnet. Die Anordnung erfolgt vorzugsweise derart, dass die keilförmige Lippe aus der Nut hervorsteht, so dass über die Lippe der Dichtung die Abdichtung zwischen dem Verschluss und der Halbleiterscheibe er reicht werden kann, bei Lösen der Verbindung zwischen dem Verschluss und der Rückplatte ein Herausziehen der Dichtung aus der Nut, welches bei Anhaften der Dichtung an der Halbleiterscheibe bei Anordnung der Dichtung in einer der Halbleiterscheibe zugewandten Fläche des Verschlusses möglich wäre, durch die radial ausgerichtete Nut vermieden wird.According to one particularly preferred embodiment of the invention the seal arranged in a in the inner circumference of the closure Grooved arranged. The arrangement is preferably such that the wedge-shaped lip protrudes from the groove, leaving over the lip of the seal seals between the lock and the semiconductor wafer he can be enough, when releasing the connection Pull out between the shutter and the back plate the seal from the groove, which in adhesion of the seal to the Semiconductor wafer when the seal is arranged in one of the semiconductor wafers facing surface of the closure would be possible is avoided by the radially aligned groove.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung weist die Halterung Ausnehmungen insbesondere an ihrem Außenumfang auf, in welcher ein Greifer während eines automatisierten Prozesses zur Handhabung der Halterung eingreifen kann. Besonders bevorzugt stellen diese Ausnehmungen gleichzeitig die Codierung dar, da beispielsweise die Zahl der Ausnehmungen und die Anordnung der Ausnehmungen relativ zueinander Informationen über die in der Halterung angeordnete Halbleiterscheibe oder die Ausrichtung der in der Halterung angeordneten Halbleiterscheibe geben kann.In an advantageous embodiment of the invention, the holder Recesses in particular on its outer circumference, in which a gripper during an automated process can intervene to handle the bracket. Especially preferred represent these recesses simultaneously the coding, for example the number of recesses and the arrangement of the recesses relative to each other information about the arranged in the holder Semiconductor wafer or the orientation of the semiconductor wafer arranged in the holder can give.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Halterung für verschiedene Größen der Halbleiterscheibe einsetzbar, wobei die Außenabmaße der Halterung jeweils gleich bleiben. Auf diese Art und Weise ist es möglich, verschiedene Größen von Halbleiterscheiben durch die gleichen für den automatisierten Prozess zuständigen Anlagen handhaben zu können.According to one particularly preferred embodiment of the invention the holder for different sizes the semiconductor wafer can be used, wherein the outer dimensions stay the same in each case. That's the way it is It is possible to use different sizes of semiconductor wafers by the same for the automated process competent To be able to handle plants.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist der Verschluss einen Frontring und einen Verschlussring auf. Dabei ist die Dichtung insbesondere in dem Frontring angeordnet, während vorzugsweise die Verschlussfunktion über den Verschlussring realisiert ist. Eine derartige Zweiteilung ermöglicht es, die Halbleiterscheibe zunächst zwischen der Rückplatte und dem Frontring zu fixieren, wobei be reits über die Dichtung die Abdichtung zwischen dem Frontring und der Rückplatte erreicht wird, während anschließend der Verschlussring den Frontring mit der Rückplatte verbindet, ohne dass die Dichtung relativ zu der Halbleiterscheibe verdreht werden muss. Auf diese Art und Weise werden zuverlässig Beschädigungen der Halbleiterscheibe vermieden.According to one particularly preferred embodiment of the invention the closure on a front ring and a lock ring. there the seal is arranged in particular in the front ring while preferably the closure function via the locking ring is realized. Such a dichotomy makes it possible the wafer first between the back plate and the front ring to fix, be already on the seal achieved the seal between the front ring and the back plate while then the lock ring connects the front ring with the back plate, without the Seal must be rotated relative to the wafer. In this way be reliable damage the semiconductor wafer avoided.

Vorzugweise weist der Frontring mindestens zwei, vorzugsweise acht Frontringnasen auf, die radial nach außen weisen und einen Eingriff unter Verschlussringnasen ermöglichen, welche vom Verschlussring radial nach innen weisen. Auf diese Art und Weise wird die Verschlussfunktion möglichst einfach realisiert.preferably, the front ring has at least two, preferably eight Frontringnasen on, which point radially outwards and an engagement below Locking ring lugs allow which of the locking ring pointing radially inwards. In this way, the shutter function becomes realized as simply as possible.

Damit die Halbleiterscheibe in der Halterung zuverlässig gegen fluide Medien geschützt ist, ist vorzugsweise zwischen der Rückplatte und dem Verschluss eine hintere Dichtung angeordnet, welche die Rückplatte gegen den Verschluss abdichtet. Aus dem gleichen Grund ist vorzugsweise auch zwischen dem Frontring und dem Verschlussring ein vorderer Dichtring angeordnet, der den Frontring gegen den Verschlussring abdichtet.In order to the semiconductor wafer in the holder reliably against Fluid media is preferably between the back plate and the closure a rear seal arranged, which the back plate against the closure seals. For the same reason is preferably also between the Front ring and the locking ring a front sealing ring arranged which seals the front ring against the lock ring.

Vorzugsweise ist in der Rückplatte in einer Aussparung an einer der Rückseite der Halbleiterscheibe zugewandten Seite radial außerhalb der Halbleiterscheibe ein Positionierstift angeordnet, der in eine in einer der Vorderseite der Halbleiterscheibe zugewandten Oberfläche des Verschlusses angeordnete Aussparung eingreift. Ein derartiger Positionierstift ermöglicht einerseits die korrekte Ausrichtung zwischen dem Verschluss und der Rückplatte. Andererseits verhindert dieser Positionierstift jedoch, sofern die Ausnehmung in dem Frontring des Verschlusses angeordnet ist, eine relative Drehung zwischen dem Frontring und der Rückplatte, so dass eine Relativ bewegung zwischen dem Dichtring und der Halbleiterscheibe ebenfalls zuverlässig vermieden wird.Preferably is in the back plate in a recess on one of the Rear of the semiconductor wafer facing side radially a positioning pin is arranged outside the semiconductor wafer, in a facing in one of the front side of the semiconductor wafer Surface of the closure arranged recess engages. Such a positioning on the one hand allows the correct alignment between the shutter and the back plate. On the other hand, this positioning prevents, however, if the Recess is arranged in the front ring of the closure, a relative rotation between the front ring and the back plate, so that a relative movement between the sealing ring and the semiconductor wafer also reliably avoided.

Die keilförmige Dichtung ist besonders bevorzugt derart ausgebildet, dass es ermöglicht wird, dass die Dichtung während des Zusammensetzens der Halterung zunächst mit einem Innenrand auf der Vorderseite der Halbleiterscheibe in linienförmigem Kontakt ist und bei Verschließen des Verschlusses anschließend flächig an die Vorderseite der Halbleiterscheibe anlegbar ist, um auf diese Art und Weise eine zuverlässige Dichtung zu erreichen und während des Verschließprozesses die Kontaktfläche zwischen der Dichtung und der Halbleiterscheibe zunächst möglichst gering zu halten.The wedge-shaped seal is particularly be Preferably designed such that it is possible that during the assembly of the holder, the seal is first in line contact with an inner edge on the front side of the semiconductor wafer and subsequently, when the closure is closed, can be applied flatly to the front side of the semiconductor wafer, in order to achieve this and that To achieve a reliable seal and to keep the contact surface between the seal and the semiconductor wafer as low as possible during the closing process.

Im Folgenden wird die Erfindung anhand von einem in Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispiel näher erläutert. Es zeigenin the The invention will be described below with reference to a drawing Embodiment explained in more detail. Show it

1a eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel einer Halterung, 1a a top view of an embodiment of a holder,

1b eine Seitenansicht der Halterung gemäß 1a, 1b a side view of the holder according to 1a .

1c einen Schnitt entlang der Linie A-A gemäß 1a, 1c a section along the line AA according to 1a .

2 einen Schnitt entlang der Linie B-B gemäß 1a, 2 a section along the line BB according to 1a .

3 eine Ausschnittsvergrößerung aus 1c, 3 an excerpt from 1c .

4 eine perspektivische Ansicht der Halterung gemäß 1a, 4 a perspective view of the holder according to 1a .

5a eine Draufsicht auf die Dichtung der Halterung gemäß 1a, 5a a plan view of the seal of the holder according to 1a .

5b und eine Seitenansicht der Dichtung gemäß 5a, 5b and a side view of the seal according to 5a .

6 eine Ausschnittsvergrößerung aus 5b, 6 an excerpt from 5b .

7a eine perspektivische Ansicht des Frontrings der Halterung gemäß 1a, 7a a perspective view of the front ring of the holder according to 1a .

7b eine weitere perspektivische Ansicht des Frontrings gemäß 7a, 7b another perspective view of the front ring according to 7a .

8a eine perspektivische Ansicht des Verschlussrings der Halterung gemäß 1a und 8a a perspective view of the locking ring of the holder according to 1a and

8b eine weitere perspektivische Ansicht des Verschlussrings gemäß 8a. 8b a further perspective view of the closure ring according to 8a ,

Die 1 bis 4 zeigen verschiedene Ansichten einer Halterung 1 mit einer Rückplatte 30, einem aus einem Frontring 20 und einem Verschlussring 40 gebildeten Verschluss und einer Dichtung 60, wobei die Dichtung 60 in verschiedenen Ansichten in den 5a, 5b und 6, der Frontring 20 in verschiedenen Ansichten in den 7a und 7b sowie der Verschlussring in verschiedenen Ansichten in den 8a und 8b nochmals detaillierter dargestellt sind. Gleiche Teile sind mit gleichen Bezugsziffern bezeichnet, wobei zur besseren Übersicht nicht sämtliche Bezugsziffern in allen Zeichnungen aufgeführt sind.The 1 to 4 show different views of a bracket 1 with a back plate 30 one from a front ring 20 and a lock ring 40 formed seal and a seal 60 , where the seal 60 in different views in the 5a . 5b and 6 , the front ring 20 in different views in the 7a and 7b as well as the locking ring in different views in the 8a and 8b are shown in more detail again. The same parts are designated by the same reference numerals, for the sake of clarity, not all reference numerals are listed in all drawings.

In die Halterung 1 wird eine Halbleiterscheibe 10 eingesetzt, welche eine Rückseite 12, eine Vorderseite 14 aufweist und welche im Wesentlichen kreisförmig mit einer Abflachung 16 ausgebildet ist. Die Abflachung 16 ist dadurch gebildet, dass eine Kreiskappe von der kreisförmigen Halbleiterscheibe fehlt, und ermöglicht eine eindeutige Orientierung der Halbleiterscheibe 10.In the holder 1 becomes a semiconductor wafer 10 used, which is a back 12 , a front side 14 and which are substantially circular with a flattening 16 is trained. The flattening 16 is formed by the fact that a circular cap is missing from the circular semiconductor wafer, and allows a clear orientation of the semiconductor wafer 10 ,

Die Rückplatte 30 ist im Wesentlichen als Kreisscheibe ausgebildet und weist eine Außenseite 30a und eine Innenseite 30b auf. Ein der Außenseite 30a zugewandter Teil der Rückplatte 30 ist dabei im Wesentlichen zylindrisch mit einem kleineren Durchmesser als ein der Innenseite 30b zugewandter Teil der Rückplatte 30 ausgebildet, wodurch am Außenumfang der Rückplatte 30 ein umlaufender Vorsprung 35 gebildet ist. Die Innenseite 30b der Rückplatte 30 liegt entweder direkt oder über einen Auflagering 34 an der Rückseite 12 der Halbleiterscheibe 10 an, wodurch die Halbleiterscheibe 10 abgestützt wird.The back plate 30 is essentially formed as a circular disk and has an outer side 30a and an inside 30b on. One of the outside 30a facing part of the back plate 30 is essentially cylindrical with a smaller diameter than one of the inside 30b facing part of the back plate 30 formed, whereby on the outer periphery of the back plate 30 a circumferential projection 35 is formed. The inside 30b the back plate 30 is either directly or via a support ring 34 at the back 12 the semiconductor wafer 10 on, causing the semiconductor wafer 10 is supported.

Der Verschlussring 40 ist ringförmig mit einer Durchgangsöffnung 41 ausgebildet, wobei in die Öffnung 41 die Rückplatte 30 mit ihrem der Außenseite 30a der Rückplatte 30 zugewandten zylindrischen Teil in etwa formschlüssig einsetzbar ist. Über den Vorsprung 36 ist die Rückplatte 30 gegen ein Herausfallen in axialer Richtung in Richtung der Außenseite 30a der Rückplatte 30 gesichert. Zur Abdichtung der Öffnung 41 des Verschlussrings 40 gegen den Außenumfang der Rückplatte 30 ist in den der Außenseite 30a der Rückplatte 30 zugewandten zylindrischen Teil der Rückplatte 30 eine umlaufende Nut 38 angeordnet, in welche ein hinterer Dichtring 32 eingesetzt ist. Dieser hintere Dichtring 32 bewirkt durch Haftreibung zusätzlich, dass die Rückplatte 30 nicht ohne Weiteres gegen den Verschlussring 40 verdrehbar ist. Der Verschlussring 40 weist eine Oberseite 40a und eine Unterseite 40b auf, wobei bei eingesetzter Rückplatte 30 in den Verschlussring 40 die Unterseite 40b im Wesentlichen bündig an die Außenseite 30a der Rückplat te 30 anschließt, sodass eine im Wesentlichen ebene, strömungsgünstige Rückseite 1a der Halterung 1 gebildet wird.The lock ring 40 is annular with a through hole 41 formed, being in the opening 41 the back plate 30 with her the outside 30a the back plate 30 facing cylindrical part can be used approximately positively. About the lead 36 is the back plate 30 against falling out in the axial direction in the direction of the outside 30a the back plate 30 secured. To seal the opening 41 of the lock ring 40 against the outer periphery of the back plate 30 is in the outside 30a the back plate 30 facing cylindrical part of the back plate 30 a circumferential groove 38 arranged, in which a rear sealing ring 32 is used. This rear sealing ring 32 caused by stiction in addition, that the back plate 30 not readily against the lock ring 40 is rotatable. The lock ring 40 has a top 40a and a bottom 40b on, with inserted back plate 30 in the lock ring 40 the bottom 40b essentially flush with the outside 30a the backplate te 30 connects, so that a substantially flat, streamlined back 1a the holder 1 is formed.

Die Halbleiterscheibe 10 wird in der Halterung 1 zwischen der Rückplatte 30 und der in dem Frontring 20 gehaltenen Dichtung 60 klemmend gehalten.The semiconductor wafer 10 will be in the holder 1 between the back plate 30 and in the front ring 20 held seal 60 held clamped.

Die Dichtung 60 ist dabei als ringförmige Flach- oder Profildichtung ausgebildet. Die Dichtung 60 ist ringförmig mit im Wesentlichen rechteckigem Querschnitt, einer oberen Fläche 72 und einer unteren Fläche 74 ausgebildet, wobei die obere Fläche 72 und die untere Fläche 74 im Wesentlichen parallel zueinander mit einem Abstand 702 angeordnet sind. Der Innenumfang der ringförmigen Dichtung 60 ist als keilförmige Lippe 620, welche umlaufend angeordnet ist, ausgebildet. Die Lippe 620 weist eine Oberseite 622 und eine Unterseite 623 auf, welche in einem Lippenwinkel β relativ zueinander angeordnet sind, wobei sich die Oberseite 622 an die obere Fläche 72 und die Unterseite 623 an die untere Fläche 74 anschließt. Die keilförmige Lippe 620 ist dabei derart angeordnet, dass die Winkelhalbierende des Lippenwinkels β in einem Winkel zu der Ebene verläuft, in der obere Fläche 72 angeordnet ist, sodass die Oberseite 622 in einem Winkel α zu der oberen Fläche 72 verläuft, welcher größer ist als ein Winkel γ, in welchem die Unterseite 623 der Lippe 620 zu der unteren Fläche 74 verläuft. Die umlaufende Kante der keilförmigen Lippe 620 bildet einen Innenrand 62 der Dichtung 60, welche in axialer Richtung außerhalb des Bereichs, der durch zwei durch die obere Fläche 72 bzw. die untere Fläche 74 verlaufende Ebenen begrenzt wird, angeordnet ist (vgl. 6). Auf diese Weise kommt bei relativer Annäherung in axialer Richtung zwischen dem Frontring 20 und der Halbleiterscheibe 10 zunächst der Innenrand 62 in linienförmigen Kontakt mit der Vorderseite 14 der Halbleiter scheibe 10. Da die Dichtung 60 aus einem elastischen, verformbaren Material gefertigt ist, wird bei weiterer Annäherung zwischen der Halbleiterscheibe 10 und dem Frontring 20 die Lippe 620 derart verbogen oder verformt, dass die Unterseite 623 der Lippe 620 in flächigen Kontakt mit der Vorderseite 14 der Halbleiterscheibe 10 kommt.The seal 60 is designed as an annular flat or profile seal. The seal 60 is annular with a substantially rectangular cross-section, an upper surface 72 and a lower surface 74 formed, with the upper surface 72 and the bottom surface 74 substantially parallel to one another with a distance 702 are arranged. The inner circumference of the annular seal 60 is as a wedge-shaped lip 620 , which is arranged circumferentially formed. The lip 620 has a top 622 and a bottom 623 which are arranged at a lip angle β relative to each other, wherein the top 622 to the upper surface 72 and the bottom 623 to the lower surface 74 followed. The wedge-shaped lip 620 is arranged such that the bisector of the lip angle β is at an angle to the plane in the upper surface 72 is arranged so that the top 622 at an angle α to the upper surface 72 which is greater than an angle γ, in which the underside 623 the lip 620 to the lower surface 74 runs. The circumferential edge of the wedge-shaped lip 620 forms an inner edge 62 the seal 60 , which in the axial direction outside of the area, passing through two through the upper surface 72 or the lower surface 74 extending levels is limited, is arranged (see. 6 ). In this way comes in relative approach in the axial direction between the front ring 20 and the semiconductor wafer 10 first the inner edge 62 in linear contact with the front 14 the semiconductor disc 10 , Because the seal 60 is made of an elastic, deformable material is, upon further approach between the semiconductor wafer 10 and the front ring 20 the lip 620 so bent or deformed that the underside 623 the lip 620 in flat contact with the front 14 the semiconductor wafer 10 comes.

Der Frontring 20 ist als ringförmiges Element ausgebildet, sodass durch den Innenumfang des Frontrings eine Öffnung 21 gebildet ist. Der Frontring 20 wird derart relativ zu der Halbleiterscheibe 10 positioniert, dass durch die Öffnung 21 zumindest ein Teil einer inneren Fläche der Vorderseite 14 zugänglich ist. Der Frontring 20 überdeckt mit seiner Innenwandung jedoch den äußeren Rand der Halbleiterscheibe 10, wodurch die Halbleiterscheibe 10 zwischen dem Frontring 20 und der Rückplatte 30 über die Dichtung 60 fixiert werden kann. Ausgehend von einer Oberseite 20a des Frontrings 20 weist der Frontring 20 eine Anfasung 21a auf, deren innenliegende Kante die Öffnung 21 begrenzt. Axial unterhalb der Anfasung 21a ist am Innenumfang des Frontrings 20 eine umlaufende Nut 26 ausgebildet, in welche die Dichtung 60 von radial innen her einsetzbar ist. Dazu ist an der Dichtung 60 am Außenumfang ein Einsatzring 630 mit im Wesentlichen rechteckigem Querschnitt ausgebildet, welcher eine Einsatzringhöhe 632 aufweist, die geringer ist als der Abstand 702 zwischen der oberen Fläche 72 und der unteren Fläche 74 der Dichtung 60. Der Einsatzring 630 ist im Wesentlichen formschlüssig in die Nut 26 des Frontrings 20 einsetzbar. Vorzugsweise schließt die Anfasung 21a des Frontrings 20 an die Oberseite 622 der Lippe 620 der Dichtung 60 an, um auf diese Weise einen strömungsgünstigen Übergang zwischen der Öffnung 21 des Frontrings 20 und der Dichtung 60 zu bilden. Auf Grund der Tatsache, dass die Dichtung 60 nicht in eine axial ausgerichtete Nut, sondern in die radial ausge richtete Nut 26 eingesetzt ist, kann die Dichtung 60, selbst wenn sie bei der Behandlung mit der Vorderseite 14 der Halbleiterscheibe 10 verkleben sollte, trotzdem axial abgezogen werden, so dass keine Rückstände auf der Halbleiterscheibe 10 verbleiben.The front ring 20 is formed as an annular element, so that through the inner circumference of the front ring an opening 21 is formed. The front ring 20 becomes so relative to the semiconductor wafer 10 positioned that through the opening 21 at least a part of an inner surface of the front side 14 is accessible. The front ring 20 Covered with its inner wall, however, the outer edge of the semiconductor wafer 10 , causing the semiconductor wafer 10 between the front ring 20 and the back plate 30 about the seal 60 can be fixed. Starting from a top 20a of the front ring 20 indicates the front ring 20 a chamfer 21a on whose inner edge the opening 21 limited. Axial below the chamfer 21a is on the inner circumference of the front ring 20 a circumferential groove 26 formed, in which the seal 60 can be used from radially inside. This is due to the seal 60 on the outer circumference of an insert ring 630 formed with a substantially rectangular cross section, which has an insert ring height 632 which is smaller than the distance 702 between the upper surface 72 and the lower surface 74 the seal 60 , The insert ring 630 is essentially form-fitting in the groove 26 of the front ring 20 used. Preferably, the chamfering closes 21a of the front ring 20 to the top 622 the lip 620 the seal 60 in order to create a streamlined transition between the opening in this way 21 of the front ring 20 and the seal 60 to build. Due to the fact that the seal 60 not in an axially aligned groove, but in the radially aligned groove 26 is used, the seal can 60 even if they are in the treatment with the front 14 the semiconductor wafer 10 should be glued, yet be pulled off axially, leaving no residue on the semiconductor wafer 10 remain.

Um eine Verdrehung zwischen dem Frontring 20 und der Rückplatte 30 zu verhindern, ist an der Rückplatte 30 wenigstens ein axial ausgerichteter Positionierstift 50 angeordnet, welcher in eine entsprechende Ausnehmung des Frontrings 20 axial eingreift.To a twist between the front ring 20 and the back plate 30 to prevent is at the back plate 30 at least one axially aligned positioning pin 50 arranged, which in a corresponding recess of the front ring 20 engages axially.

Zwischen dem Frontring 20 und dem Verschlussring 40 ist ein Verschlussmechanismus realisiert. Der Frontring 20 weist dazu wenigstens zwei, insbesondere acht über den Umfang verteilte Frontringnasen 24 auf, welche radial nach außen weisen (vgl. 7a), während an dem Verschlussring 40 radial nach innen weisend eine entsprechende Anzahl von Verschlussringnasen 42 angeordnet ist (vgl. 8b), unter welche die Frontringnasen eingreifen können, wobei der Frontring 20 zunächst um einige Winkelgrade verdreht gegenüber dem Verschlussring 40 aufgesetzt wird und der Eingriff der Frontringnasen unter den Verschlussringnasen erst nach Drehung zwischen dem Frontring 20 und dem Verschlussring 40 erfolgt. Zwischen dem Frontring 20 und dem Verschlussring 40 können verschiedene Arten von Verschlussmechanismen realisiert sein, insbesondere auch nach Art eines Bajonett-Verschlusses.Between the front ring 20 and the lock ring 40 a locking mechanism is realized. The front ring 20 has at least two, in particular eight, distributed over the circumference Frontringnasen 24 which point radially outwards (cf. 7a ) while on the lock ring 40 pointing radially inward a corresponding number of locking ring lugs 42 is arranged (see. 8b ), under which the front nose can engage, the front ring 20 initially rotated by a few degrees with respect to the locking ring 40 is placed and the engagement of the front ring tabs under the locking ring lugs only after rotation between the front ring 20 and the lock ring 40 he follows. Between the front ring 20 and the lock ring 40 Various types of closure mechanisms can be realized, in particular also in the manner of a bayonet closure.

Um eine Dichtung zwischen dem Frontring 20 und dem Verschlussring 40 gegenüber fluiden Medien zu erreichen, ist am Außenumfang 29 des Frontrings 20 eine umlaufende Nut 28 angeordnet, in welcher ein vorderer Dichtring 22 eingesetzt ist.To get a seal between the front ring 20 and the lock ring 40 to achieve fluid media is on the outer circumference 29 of the front ring 20 a circumferential groove 28 arranged, in which a front sealing ring 22 is used.

Sind der Frontring 20 und der Verschlussring 40 über die Frontringnasen 24 und die Verschlussringnasen 42 miteinander verbunden, schließt sich die Oberseite 20a des Frontrings 20 im Wesentlichen bündig an die Oberseite 40a des Verschlussrings 40 an. Auf diese Weise wird eine strömungsgünstige Außenseite der Halterung 1 erreicht. Der Verschlussring 40 weist zudem einen Außenumfang 47 auf, welcher derart ausgebildet ist, dass ausgehend von der Oberseite 40a eine Anfasung 45 und ausgehend von der Unterseite 40b eine Anfasung 46 angeordnet ist, sodass der Außenumfang 47 im Wesentlichen keilförmig ausgebildet ist, wodurch Verwirbelungen in der Badströmung vermieden werden. Insgesamt wird durch die Anfasungen 45, 46, sowie die Anfasung 21a der Öffnung 21 des Frontrings 20 und die keilförmige Form der Lippe 620 der Dichtung 60 eine strömungsgünstige Form der Halterung 1 erreicht. Zur strömungsgünstigen Form trägt weiter bei, dass der Verschlussmechanismus innenliegend zwischen dem Frontring 20 und dem Verschlussring 40 realisiert ist.Are the front ring 20 and the lock ring 40 over the front nose 24 and the lock ring noses 42 joined together, the top closes 20a of the front ring 20 essentially flush with the top 40a of the lock ring 40 at. In this way, a streamlined outside of the holder 1 reached. The lock ring 40 also has an outer circumference 47 on, which is designed such that starting from the top 40a a chamfer 45 and starting from the bottom 40b a chamfer 46 is arranged so that the outer circumference 47 is formed substantially wedge-shaped, whereby turbulence in the bath flow can be avoided. Overall, the chamfers 45 . 46 , as well as the chamfering 21a the opening 21 of the front ring 20 and the wedge-shaped shape of the lip 620 the seal 60 a streamlined shape of the holder 1 reached. The streamlined shape further contributes to the fact that the locking mechanism is located in-between the front ring 20 and the lock ring 40 is realized.

Die Halbleiterscheibe 10 wird auf folgende Art und Weise in die Halterung 1 eingesetzt: Zunächst liegt der Frontring 20 derart auf einer Abstützung, dass die Oberseite 20a nach unten weist und der Innenrand 62a der Dichtung 60 nach oben weist. Axial von oben wird die Halbleiterscheibe 10 mit der Vorderseite 14 nach unten auf die Dichtung 60 derart gelegt, dass der Innenrand 62 in linienförmigen Kontakt mit der Vorderseite 14 der Halbleiterscheibe 10 kommt. Dazu kann entweder die Halbleiterscheibe 10 direkt auf die Dichtung 60 aufgelegt werden. Alternativ kann durch die Öffnung 21 des Frontrings 20 ein Stempel derart positioniert werden, dass bei Auflegen der Halbleiterscheibe 10 die Vorderseite 14 zunächst auf dem Stempel zu liegen kommt und bei Absenken desselben die Halbleiterscheibe 10 auf der Dichtung 60 zu liegen kommt. Die Rückplatte 30 wird separat zunächst in den Verschlussring 40 wie zuvor beschrieben eingesetzt, woraufhin der Verschlussring 40 derart gegriffen wird, dass die Oberseite 40a nach unten weist und somit der Verschlussring 40 mit eingesetzter Rückplatte 30 auf den Frontring 20 abgesenkt werden kann. Dabei greifen zunächst die Verschlussringnasen 42 durch Zwischenräume zwischen den Frontringnasen 24 hindurch. Anschließend wird der Verschlussring 40 mit eingesetzter Rückplatte 30 um einen Winkelgrad von bspw. etwa 15° gedreht, um einen Eingriff der Verschlussringnasen 42 unter die Frontringnasen 24 zu erzielen.The semiconductor wafer 10 is in the holder in the following manner 1 used: First, the front ring lies 20 such on a support that the top 20a points down and the inner edge 62a the seal 60 points upwards. Axially from above becomes the semiconductor wafer 10 with the front 14 down on the seal 60 placed so that the inner edge 62 in linear contact with the front 14 the semiconductor wafer 10 comes. This can either be the semiconductor wafer 10 directly on the seal 60 be hung up. Alternatively, through the opening 21 of the front ring 20 a stamp can be positioned such that upon application of the semiconductor wafer 10 the front 14 first comes to rest on the stamp and the same when lowering the semiconductor wafer 10 on the seal 60 to come to rest. The back plate 30 is separately first in the lock ring 40 used as described above, whereupon the locking ring 40 so gripped that the top 40a pointing down and thus the locking ring 40 with inserted back plate 30 on the front ring 20 can be lowered. At first, the locking ring lugs engage 42 through gaps between the front lugs 24 therethrough. Subsequently, the lock ring 40 with inserted back plate 30 rotated by an angular degree of, for example, about 15 °, to engage the locking ring lugs 42 under the front nose 24 to achieve.

Der wesentliche Vorteil einer derartigen Beladung der Halterung 1 mit einer Halbleiterscheibe 10 liegt darin, dass beim Öffnen und Schließen keine Relativbewegung zwischen der Dichtung 60 und der Halbleiterscheibe 10 vorgenommen werden muss, sodass die Oberfläche der Halbleiterscheibe 10 nicht beschädigt wird. Zudem ist lediglich ein geringer senkrechter Anpressdruck vonnöten, sodass eine Abdichtung des Frontrings 20 über der Halbleiterscheibe 10 bereits mit vergleichsweise geringen Kräften realisierbar ist.The main advantage of such a loading of the holder 1 with a semiconductor wafer 10 is that when opening and closing no relative movement between the seal 60 and the semiconductor wafer 10 must be made so that the surface of the semiconductor wafer 10 not damaged. In addition, only a small vertical contact pressure is required, so that a seal of the front ring 20 over the semiconductor wafer 10 Already achievable with comparatively small forces.

Damit ein derartiges Einsetzen der Halbleiterscheibe 10 in die Halterung 1 automatisiert möglich ist, sind an dem Außenumfang 47 des Verschlussrings 40 mehrere Ausnehmungen 44 angeordnet. Einerseits kann ein Greifer einer Automatisierungsvorrichtung in diese Ausnehmungen 44 eingreifen, um den Verschlussring sicher greifen und gegenüber dem Frontring 40 verdrehen zu können. Weiterhin können die Ausnehmungen 44 die Lage des Verschlussrings relativ zu dem Greifer definieren. Schließlich können die Ausnehmungen 44 eine Codierung derart darstellen, dass beispielsweise die Anzahl der Ausnehmungen 44 in einem bestimmten Umfangsabschnitt eine Information darüber enthalten, welche Art von Halbleiterscheibe in der so gekennzeichne ten Halterung 1 angeordnet werden kann. Um einen guten Griff des Greifers an der Halterung 1 gewährleisten zu können, sind vorzugsweise drei jeweils im gleichen Winkelabstand zueinander angeordnete Ausnehmungen 44 am Außenumfang 47 des Verschlussrings 40 vorhanden.Thus, such insertion of the semiconductor wafer 10 in the holder 1 automated is possible are on the outer circumference 47 of the lock ring 40 several recesses 44 arranged. On the one hand, a gripper of an automation device in these recesses 44 engage to securely grasp the locking ring and opposite the front ring 40 to be able to turn. Furthermore, the recesses 44 define the position of the locking ring relative to the gripper. Finally, the recesses 44 represent a coding such that, for example, the number of recesses 44 in a certain peripheral portion information about what type of semiconductor wafer in the so gekennzeichne th holder 1 can be arranged. To get a good grip of the gripper on the bracket 1 to be able to ensure, are preferably three each at the same angular distance from each other arranged recesses 44 on the outer circumference 47 of the lock ring 40 available.

Durch unterschiedliche Dimensionierungen des Frontrings 20 und gegebenenfalls der Rückplatte 30 können in der Halterung 1 verschieden dimensionierte Halbleiterscheiben, insbesondere Halbleiterscheiben 10 mit einem Durchmesser von 150 mm bis 200 mm angeordnet werden, wobei die Halterungen 1 jedoch durch die identischen Automatisierungsanlagen gehandhabt werden können. Beispielsweise ist daher eine Codierung derart denkbar, dass in räumlicher Nähe einer der Ausnehmungen 44, in welche der Greifer eingreift, um die Halterung 1 zu handhaben, zusätzlich zwei weitere Ausnehmungen 44 angeordnet sind, falls in der Halterung 1 eine Halbleiterscheibe 10 mit kleinem Durchmesser angeordnet ist, während bei Anordnung einer großen Halbleiterscheibe 10 diese zusätzlichen Ausnehmungen 44 fehlen.Due to different dimensions of the front ring 20 and optionally the back plate 30 can in the holder 1 differently dimensioned semiconductor wafers, in particular semiconductor wafers 10 be arranged with a diameter of 150 mm to 200 mm, with the brackets 1 However, can be handled by the same automation equipment. For example, therefore, an encoding is conceivable such that in spatial proximity one of the recesses 44 in which the gripper engages to the holder 1 to handle, in addition two further recesses 44 are arranged, if in the holder 1 a semiconductor wafer 10 is arranged with a small diameter, while in the arrangement of a large semiconductor wafer 10 these additional recesses 44 absence.

11
Halterungbracket
1a1a
Rückseiteback
1010
HalbleiterscheibeSemiconductor wafer
1212
Rückseiteback
1414
Vorderseitefront
1616
Abflachungflattening
2020
Frontringfront ring
20a20a
Oberseitetop
2121
Öffnungopening
21a21a
Anfasungchamfer
2222
vorderer Dichtringfront seal
2424
FrontringnaseBezel nose
2626
Nutgroove
2828
Nutgroove
2929
Außenumfangouter periphery
3030
Rückplattebackplate
30a30a
Außenseiteoutside
30b30b
Innenseiteinside
3232
hinterer Dichtringrear seal
3434
AuflageringSupport ring
3636
Vorsprunghead Start
3838
Nutgroove
4040
Verschlussringlock ring
40a40a
Oberseitetop
40b40b
Unterseitebottom
4141
Öffnungopening
4242
VerschlussringnaseLock ring nose
4444
Ausnehmungrecess
4545
Anfasungchamfer
4646
Anfasungchamfer
4747
Außenumfangouter periphery
5050
Positionierstiftpositioning
6060
Dichtungpoetry
6262
Innenrandinner edge
6464
Abflachungflattening
7272
obere Flächeupper area
7474
untere Flächelower area
620620
Lippelip
622622
Oberseitetop
623623
Unterseitebottom
630630
Einsatzringinsert ring
632632
EinsatzringhöheInsert ring height
702702
Abstanddistance
αα
Winkelangle
ββ
Lippenwinkellip angle
γγ
Winkelangle

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • - US 2006/0046499 A1 [0004] US 2006/0046499 A1 [0004]

Claims (19)

Halterung (1) für eine Halbleiterscheibe (10), die eine Vorderseite (14) und eine Rückseite (12) aufweist, zur einseitigen Abdichtung der Halbleiterscheibe (10) mit: – einer parallel zur Halbleiterscheibe (10) angeordneten, der Rückseite (12) zugewandten Rückplatte (30), – einem Verschluss zur Sicherung der Halbleiterscheibe (10) an der Rückplatte (30), wobei der Verschluss die Vorderseite (14) an einem äußeren Rand der Halbleiterscheibe (10) überdeckt und eine Öffnung (21) aufweist, durch welche zumindest ein Teil einer inneren Fläche der Vorderseite (14) zugänglich ist, und – einer Dichtung (60), welche die Vorderseite (14) gegenüber dem Verschluss bezüglich fluider Medien abdichtet, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (60) ringförmig ausgebildet ist und eine radial innen liegende, keilförmige Lippe (620) aufweist.Bracket ( 1 ) for a semiconductor wafer ( 10 ), which has a front side ( 14 ) and a back ( 12 ), for one-sided sealing of the semiconductor wafer ( 10 ) with: - one parallel to the semiconductor wafer ( 10 ), the rear side ( 12 ) facing back plate ( 30 ), - a closure for securing the semiconductor wafer ( 10 ) on the back plate ( 30 ), with the closure the front ( 14 ) on an outer edge of the semiconductor wafer ( 10 ) and an opening ( 21 ), through which at least a part of an inner surface of the front side ( 14 ), and - a seal ( 60 ), which the front ( 14 ) seals against the closure with respect to fluid media, characterized in that the seal ( 60 ) is annular and has a radially inwardly disposed, wedge-shaped lip ( 620 ) having. Halterung (1) für eine Halbleiterscheibe (10), die eine Vorderseite (14) und eine Rückseite (12) aufweist, zur einseitigen Abdichtung der Halbleiterscheibe (10) mit: – einer parallel zur Halbleiterscheibe (10) angeordneten, der Rückseite (12) zugewandten Rückplatte (30), – einem Verschluss zur Sicherung der Halbleiterscheibe (10) an der Rückplatte (30), wobei der Verschluss die Vorderseite (14) an einem äußeren Rand der Halbleiterscheibe (10) überdeckt und eine Öffnung (21) aufweist, durch welche zumindest ein Teil einer inneren Fläche der Vorderseite (14) zugänglich ist, und – einer Dichtung (60), welche die Vorderseite (14) gegenüber dem Verschluss bezüglich fluider Medien abdichtet, dadurch gekennzeichnet, dass die Halterung (1) eine Codierung aufweist.Bracket ( 1 ) for a semiconductor wafer ( 10 ), which has a front side ( 14 ) and a back ( 12 ), for one-sided sealing of the semiconductor wafer ( 10 ) with: - one parallel to the semiconductor wafer ( 10 ), the rear side ( 12 ) facing back plate ( 30 ), - a closure for securing the semiconductor wafer ( 10 ) on the back plate ( 30 ), with the closure the front ( 14 ) on an outer edge of the semiconductor wafer ( 10 ) and an opening ( 21 ), through which at least a part of an inner surface of the front side ( 14 ), and - a seal ( 60 ), which the front ( 14 ) seals against the closure with respect to fluid media, characterized in that the holder ( 1 ) has an encoding. Halterung (1) für eine Halbleiterscheibe (10), die eine Vorderseite (14) und eine Rückseite (12) aufweist, zur einseitigen Abdichtung der Halbleiterscheibe (10) mit: – einer parallel zur Halbleiterscheibe (10) angeordneten, der Rückseite (12) zugewandten Rückplatte (30), – einem Verschluss zur Sicherung der Halbleiterscheibe (10) an der Rückplatte (30), wobei der Verschluss die Vorderseite (14) an einem äußeren Rand der Halbleiterscheibe (10) überdeckt und eine Öffnung (21) aufweist, durch welche zumindest ein Teil einer inneren Fläche der Vorderseite (14) zugänglich ist, und – einer Dichtung (60), welche die Vorderseite (14) gegenüber dem Verschluss bezüglich fluider Medien abdichtet, dadurch gekennzeichnet, dass – die Halterung (1) Anfasungen (45, 46, 21a) aufweist.Bracket ( 1 ) for a semiconductor wafer ( 10 ), which has a front side ( 14 ) and a back ( 12 ), for one-sided sealing of the semiconductor wafer ( 10 ) with: - one parallel to the semiconductor wafer ( 10 ), the rear side ( 12 ) facing back plate ( 30 ), - a closure for securing the semiconductor wafer ( 10 ) on the back plate ( 30 ), with the closure the front ( 14 ) on an outer edge of the semiconductor wafer ( 10 ) and an opening ( 21 ), through which at least a part of an inner surface of the front side ( 14 ), and - a seal ( 60 ), which the front ( 14 ) seals against the closure with respect to fluid media, characterized in that - the holder ( 1 ) Bevels ( 45 . 46 . 21a ) having. Halterung dadurch gekennzeichnet, dass sie die Merkmale der Ansprüche 1 und/oder 2 und/oder 3 aufweist.Holder characterized in that it has the features of claims 1 and / or 2 and / or 3. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Verschluss eine Abdichtung gegenüber der Vorderseite (14) mittels der Dichtung (60) über Form- und Kraftschluss mit zur Halbleiterscheibe (10) senkrechten Kräften realisiert.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the closure a seal against the front ( 14 ) by means of the seal ( 60 ) via positive and non-positive connection to the semiconductor wafer ( 10 ) realized vertical forces. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Verschluss als Bajonettverschluss ausgeführt ist.Holder according to one of the previous Claims, characterized in that the closure as Bayonet lock is executed. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (60) eine ringförmige Flach- oder Profildichtung mit einer Abflachung (64) der sonst runden Ringform ist.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the seal ( 60 ) an annular flat or profile seal with a flattening ( 64 ) is the otherwise round ring shape. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (60) elastisch und verformbar ist.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the seal ( 60 ) is elastic and deformable. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (60) in einer in dem Innenumfang des Verschlusses angeordneten Nut (26) angeordnet ist.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the seal ( 60 ) in a groove arranged in the inner circumference of the closure ( 26 ) is arranged. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Halterung Ausnehmungen (44) aufweist.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the holder recesses ( 44 ) having. Halterung gemäß Anspruch 2 und 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Codierung durch die Ausnehmungen (44) ausgeführt ist.Holder according to claim 2 and 10, characterized in that the coding by the recesses ( 44 ) is executed. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Halterung (1) für verschiedene Größen der Halbleiterscheibe (10) einsetzbar ist und die Außenabmaße der Halterung (1) dabei gleich bleiben.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the holder ( 1 ) for different sizes of the semiconductor wafer ( 10 ) and the outer dimensions of the holder ( 1 ) stay the same. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Verschluss einen Frontring (20) und einen Verschlussring (40) aufweist.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the closure has a front ring ( 20 ) and a locking ring ( 40 ) having. Halterung gemäß Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Frontring (20) mindestens zwei, vorzugsweise acht, Frontringnasen (24) aufweist, die radial nach außen weisen und einen Eingriff unter Verschlussringnasen (42) ermöglichen, welche vom Verschlussring (40) radial nach innen weisen.Holder according to claim 13, characterized in that the front ring ( 20 ) at least two, preferably eight, front lugs ( 24 ) which point radially outwards and engage under locking ring tabs (US Pat. 42 ), which of the lock ring ( 40 ) pointing radially inwards. Halterung gemäß Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass der Frontring (20) in einer Nut (28) an seinem Umfang (29) einen vorderen Dichtring (22) aufnimmt, der einen Spalt zum Verschlussring (40) abdichtet.Holder according to claim 13 or 14, characterized in that the front ring ( 20 ) in a groove ( 28 ) at its periphery ( 29 ) a front sealing ring ( 22 ), which has a gap to the locking ring ( 40 ) seals. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnung (21) des Verschlusses eine Anfasung (21a) aufweist, welche an die Dichtung (60) anschließt.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the opening ( 21 ) of the closure a chamfer ( 21a ), which to the seal ( 60 ). Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rückplatte (30) in einer Nut (28) an ihrem Umfang einen hinteren Dichtring (32) aufnimmt, der einen Spalt zum Verschluss abdichtet.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the back plate ( 30 ) in a groove ( 28 ) at its periphery a rear sealing ring ( 32 ) which seals a gap to the closure. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rückplatte (30) in einer Aussparung an einer ersten Seite, die der Rückseite (12) zugewandt ist, radial außerhalb der Halbleiterscheibe (10) einen Positionierstift (50) aufweist, der in eine in einer der Vorderseite (14) zugewandten Oberfläche des Verschlusses angeordnete Aussparung eingreift.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the back plate ( 30 ) in a recess on a first side, the back ( 12 ), radially outside the semiconductor wafer ( 10 ) a positioning pin ( 50 ), which in one in the front ( 14 ) facing the surface of the closure recess engages. Halterung gemäß einem der vorigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (60) während des Verschließens mittels des Verschlusses zunächst mit einem Innenrand (62) auf der Vorderseite (14) in linienförmigen Kontakt bringbar ist und anschließend flächig an die Vorderseite (14) anlegbar ist.Holder according to one of the preceding claims, characterized in that the seal ( 60 ) during closure by means of the closure initially with an inner edge ( 62 ) on the front side ( 14 ) can be brought into linear contact and then flat to the front ( 14 ) can be applied.
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