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Die
Erfindung betrifft eine Koordinaten-Messmaschine. Im Besonderen
betrifft die Erfindung eine Koordinaten-Messmaschine mit einem in einer
Ebene verfahrbaren Messtisch. Die Ebene ist durch zwei senkrecht
zueinander angeordnete Achsen definiert. Ein Messobjektiv ist zur
Bestimmung der Position von Strukturen auf einem Substrat in der optischen
Achse angeordnet. Das Substrat selbst ist in den Messtisch eingelegt.
Die Position des Messtisches wird entlang einer jeder der Achsen
mit jeweils mindestens einem Interferometer bestimmt.
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Ferner
betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Korrektur von Nichtlinearitäten
der Interferometer einer Koordinaten-Messmaschine. Dabei ist ein
in einer Ebene verfahrbarer Messtisch vorgesehen, wobei die Ebene
durch zwei senkrecht zueinander angeordnete Achsen definiert ist.
Ein Messobjektiv ist zur Bestimmung der Position von Strukturen
auf dem Substrat vorgesehen. Dabei ist das Messobjektiv in der optischen
Achse angeordnet. Das Substrat ist in einem Messtisch eingelegt.
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Die
Interferometer werden zur Bestimmung der Position des Messtisches
in jeweils einer der Achsen eingesetzt. Je genauer die Messung der
Position des Messtisches mittels der Interferometer in jeweils einer
der Achsen zu erfolgen hat, desto mehr Einfluss gewinnen auch die
Interferometer innewohnenden Fehlerquellen. Betrachtet man interferometrische
Verschiebemessungen mit einer Sub-Nanometer-Genauigkeit, so werden
diese Messungen durch die periodischen Abweichungen beeinflusst.
Die Periodenlänge hängt von der verwendeten Laserwellenlänge
und dem Aufbau der Interferometer ab. Typische Periodenlängen
sind 158 nm und 316 nm. Die Amplituden liegen typischerweise im
Bereich kleiner als 2 nm. Bei Messungen über größere
Entfernungen können diese Fehler meistens vernachlässigt
werden. Die Fehler der Interferometer rühren von Fehlern
in der optischen Ausrichtung und von Fehlern bzgl. der Polarisation
der Komponenten der Interferometer her.
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Das
U.S.-Patent 6,738,143 offenbart
ein System und ein Verfahren für die Kompensation von Nichtlinearitäten
eines Interferometers. Dazu wird eine Vielzahl von digitalen Positionswerten
aufgenommen, die in entsprechende Gruppen eingeteilt werden. Eine
erste Gruppe von digitalen Positionswerten wird digital verarbeitet,
um eine Vielzahl von Datenwerten zu generieren. Die Vielzahl von
Datenwerten wird digital verarbeitet, um zumindest quasi statische,
nicht lineare Parameter zu erzeugen. Eine zweite Gruppe der digitalen
Positionswerte werden kompensiert und zwar aufgrund der nichtlinearen
Parameter, die anhand der ersten Gruppe von Positionsdaten gewonnen
worden sind. Dieses Verfahren erfordert einen erheblichen Rechenaufwand
und ist somit nicht förderlich für einen hohen
Durchsatz einer Koordinaten-Messmaschine.
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Die
nicht veröffentlichte Deutsche Patentanmeldung
DE 10 2007 018 115 offenbart
ein Verfahren zum Steigern der Messgenauigkeit beim Bestimmen der
Koordinaten von Strukturen auf einem Substrat. Das Substrat ist
dabei auf einen in X-/Y-Koordinatenrichtung beweglichen Tisch gelegt.
Dabei erfolgt zunächst das Aufnehmen von mehreren Bildern
einer Struktur auf dem Substrat vermittelts eines zwei-dimensionalen
Detektors während der Relativbewegung des Messobjektivs
in Z-Koordinatenrichtung und gleichzeitiger Bewegung des Tisches
in X-/Y-Koordinatenrichtung. Dieses hier vorgeschlagene Verfahren
erfordert eine hohe Präzision der Motorsteuerung und ist
daher aufwendig zu implementieren. Die Schwierigkeiten bei der Implementation
liegen sowohl in der Mechanik, als auch in der dazu notwendigen
Regelsteuerung.
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Die
nicht veröffentlichte Deutsche Offenlegungsschrift
DE 10 2007 017 630 offenbart
ein Verfahren zum Steigern der Messgenauigkeit beim Bestimmen der
Koordinaten von Strukturen auf einem Substrat. Hierzu ist ein in
X-/Y-Koordinatenrichtung beweglicher Tisch vorgesehen, der in ein
interferometrischoptisches Messsystem gelegt ist. Die Struktur auf
dem Substrat wird über ein Messobjektiv, dessen optische
Achse in Z-Koordinatenrichtung ausgerichtet ist, auf mindesten einen
Detektor abgebildet. Die Struktur wird mit einem sog. Dual-Scan
aufgenommen, d. h. dass die Bilder der Struktur einmal in Z-Koordinatenrichtung
und einmal in entgegen gesetzter Z-Koordinatenrichtung aufgenommen
werden. Aus den aufgenommenen Bildern wird das Bild zur Auswertung
der Position der Struktur herangezogen, das in der jeweiligen Verfahrrichtung
am schärfsten ist. Systematische Fehler können
bei diesem Verfahren eliminiert werden. Bei dem Dual-Scan muss jede
Position zweimal gemessen werden. Dies erhöht folglich
die Messzeit und reduziert damit auch den Durchsatz der Koordinaten-Messmaschine.
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Der
Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Koordinaten-Messmaschine
und ein Verfahren zu schaffen, mit dem Nichtlinearitäten
der Interferometer in der 2D-Maskenmetrologie korrigiert werden können.
Dabei ist besonders darauf zu achten, dass sich die Korrektur nicht
negativ auf den Durchsatz einer Koordinaten-Messmaschine auswirkt.
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Die
Aufgabe wird gelöst durch eine Koordinaten-Messmaschine,
die die Merkmale des Anspruchs 1 umfasst.
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Ferner
wird die obige Aufgabe gelöst durch ein Verfahren, das
die Merkmale des Anspruchs 7 umfasst.
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Es
ist dabei von besonderen Vorteil, wenn der Koordinaten-Messmaschine
ein Rechner zugeordnet ist, der die einem jeden Interferometer innewohnende
Nichtlinearität korrigiert. Die durch die Interferometer
zu bestimmende Position des Messtisches ist entlang einer Bewegungskurve
des Messtisches angeordnet. Die Bewegungskurve ist auf eine zu vermessende
Position einer Struktur hin- oder von einer zu vermessenden Position
einer Struktur weggerichtet. Die Bewegungskurve ist zumindest teilweise
aus Komponenten der Achsen zusammengesetzt, wobei während
der auf einen Messpunkt hin- und/oder weggerichteten Bewegungskurve
Korrekturwerte ermittelt werden, die auf eine gemessene Position
einer Struktur auf dem Substrat anwendbar sind.
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Eine
der zwei senkrecht zueinander angeordneten Achsen ist in X-Koordinatenrichtung
und die andere der zwei senkrecht zueinander angeordneten Achsen
ist in Y-Koordinatenrichtung ausgerichtet.
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Ebenso
können weitere Interferometer für die Messung
der Winkellage des Messtisches vorgesehen sein. Ebenso kann ein
Interferometer für die Messung der Referenzwellenlänge
vorgesehen sein. Die Interferometer dienen zur Messung der Position des
Messtisches, zur Winkelmessung der Position des Messtisches oder
der Winkelposition des Objektivs oder zur Messung der Referenzwellenlänge.
Diese können ebenfalls mit dem Rechner korrigiert werden.
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Es
ist ein Etalon vorgesehen, dessen Länge variierbar ist,
um die Korrekturwerte für die Nichtlinearitätskorrektur
zu erhalten. Dazu ist ein Piezo-Trieb vorgesehen, mit dem die Länge
des Etalons verändert werden kann.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren ist von Vorteil, da
während der Annährung an eine Messposition und/oder
der Entfernung von einer Messposition für die Bestimmung
der Position der Struktur auf dem Substrat die Daten der Position
des Messtisches mit Interferometern aufgenommen werden. Jeder Bewegungsachse
des Messtisches ist ein Interferometer zugeordnet. Der Messtisch
wird entlang einer Bahnkurve bewegt, die sich zumindest teilweise
aus Komponenten der Achsen zusammensetzt, die die Ebene zur Bewegung
des Messtisches bestimmen. Ein Rechner ist vorgesehen, mit dem aus
den Daten der Position des Messtisches entlang der jeweiligen Bahnkurve
die Nichtlinearität der Interferometer bestimmt wird. Der
Rechner kompensiert die Nichtlinearität der Interferometer
an der jeweiligen Messposition.
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Die
zwei senkrecht zueinander angeordneten Achsen sind in X-Koordinatenrichtung
und in Y-Koordinatenrichtung ausgerichtet.
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Der
Messtisch wird von einer Messposition zur nächsten Messposition
schräg angefahren und/oder weggefahren, um gleichzeitig
Korrekturdaten in der X-Koordinatenrichtung und Y-Koordinatenrichtung
zu gewinnen. Die einmalig für das Anfahren an eine Messposition
und/oder Entfernen von einer Messposition gewonnenen Korrekturdaten
werden, für eine Vielzahl von auf dem Substrat vorhandenen Messpositionen
verwendet.
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Ebenso
ist es möglich, dass die Messposition nur in Richtung einer
Achse angefahren wird, um die Korrekturdaten in dieser Richtung
zu erhalten. Die Korrekturdaten für die andere Richtung
werden aus der letzten Bewegung in dieser Richtung verwendet. Die
Richtung der Achse liegt entweder in X-Koordinatenrichtung oder
in Y-Koordinatenrichtung.
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Die
Annäherung des Messtisches an die Messposition kann mit
unterschiedlichen Geschwindigkeiten erfolgen. So wird z. B. die
nächste Messposition zunächst mit hoher Geschwindigkeit
angefahren und auf dem letzten Stück vor der Annäherung vor
der Messposition die Geschwindigkeit so weit verringert, dass die
Daten für die Nichtlinearitätskorrektur aufgenommen
werden können.
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Es
ist ein Etalon vorgesehen, dessen Länge variiert werden
kann, um daraus Korrekturwerte für die Nichtlinearitätskorrektur
zu erhalten. Die Länge des Etalons wird mit Hilfe eines
Piezo-Triebs verändert.
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Im
Folgenden sollen Ausführungsbeispiele die Erfindung und
ihr Vorteile anhand der beigefügten Figuren näher
erläutern.
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1 zeigt
schematische eine Koordinaten-Messmaschine in der das erfindungsgemäße Verfahren
zur Positionsmessung mit Vorteil eingesetzt werden kann.
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2 zeigt
eine schematische Darstellung eines Substrats, auf dem Strukturen
aufgebracht sind, die es gilt, deren Position in Bezug auf ein Koordinatensystem,
wie z. B. das Koordinatensystem der Maske zu vermessen.
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3 zeigt
ein schräges Anfahren der Messposition, um gleichzeitig
Korrekturwerte für die X-Koordinatenrichtung und die Y-Koordinatenrichtung
zu bestimmen.
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4 zeigt
ein Beispiel für das schräge Anfahren einer Messposition,
wobei der Tisch entlang einer Linie verfährt und wobei
kurz vor Erreichen der Messposition die notwendigen Daten für
die Korrektur aufgenommen werden.
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5 zeigt
wie der Messtisch mäanderförmig verfahren wird,
wobei die Messdaten nur während des schrägen Verfahrweges
von einer Zeile von Messpositionen zur nächsten Zeile von
Messpositionen aufgenommen werden.
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6 zeigt
die Verfahrgeschwindigkeit des Messtisches in Abhängigkeit
von der Zeit, wobei kurz vor Erreichen der Messposition die Geschwindigkeit des
Messtisches reduziert wird, um die erforderlichen Korrekturwerte
messen zu können.
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7 zeigt
ein Etalon, das mit einem Piezo-Trieb versehen ist, um die Länge
des Etalons variieren zu können.
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1 zeigt
schematisch den Aufbau einer Koordinaten-Messmaschine 1,
mit der das erfindungsgemäße Verfahren ausgeführt
werden kann. Die Koordinaten-Messmaschine umfasst einen Messtisch 20,
der in einer Ebene 25a in zwei senkrecht zueinander stehenden
Achsen verfahrbar ist. Im Allgemeinen sind die zwei senkrecht zueinander stehenden
Achsen durch die X-Koordinatenrichtung und die Y-Koordinatenrichtung
gegeben. Die Ebene 25a, in der der Messtisch verfährt,
wird durch ein entsprechendes Bauelement 25 gebildet. In
der hier dargestellten Ausführungsform kann das Bauelement 25 als
Granitblock ausgebildet sein. Für einen Fachmann ist es
selbstverständlich, dass die Wahl des Materials zur Ausbildung
des Bauelements 25 keine Beschränkung der Erfindung
darstellen soll. Der Messtisch 20 ist auf Luftlagern 21 innerhalb
der Ebene 25a verfahrbar. Die Position des Messtisches 20 wird
in jeder der Achsen, innerhalb der der Messtisch 20 verfahren
kann, mittels eines Laserinterferometers 24 gemessen. Zur
Messung sendet das Laserinterferometer 24 mindestens einen
Lichtstrahl 23 aus. Bei der in 1 gezeigten
schematischen Darstellung der Koordinaten-Messmaschine 1 ist
nur ein Laserinterferometer 24 für eine Achse
dargestellt. Für einen Fachmann ist es selbstverständlich,
wie die anderen Interferfeometer anzuordnen sind, um eine entsprechende
Messung der Position des Messtisches 20 in den weiteren
Achsen der Beweglichkeit des Messtisches 20 zu erreichen.
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Das
Substrat 2, welches die zu vermessenden Strukturen 3 trägt,
ist in dem Messtisch 20 eingelegt. Zur Beleuchtung des
Substrats 2 ist zum einen eine Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 und
eine Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 vorgesehen. Das
Licht der Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 gelangt über
einen Umlenkspiegel 7 und den Kondensor 8 zu dem
Substrat 2. Das Licht, das von der Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 ausgeht,
breitet sich entlang des Durchlichtbeleuchtungsstrahlenganges 4 aus.
Das Licht der Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 gelangt über
das Messobjektiv 9 auf das Substrat 2. Das Messobjektiv 9 kann
mittels einer Verschiebeeinrichtung 15 entlang der Z-Koordinatenrichtung
verschoben werden. Damit ist z. B. eine Fokussierung des Messobjektivs 9 auf
die jeweiligen Strukturen 3 auf dem Substrat 2 möglich.
Das von dem Substrat 2 ausgehende Licht wird von dem Messobjektiv 9 gesammelt
und über einen halbdurchlässigen Spiegel 12 auf
eine Kamera 10 abgebildet. Die Kamera 10 umfasst
einen Detektor 11, der mit einem Rechner 16 verbunden
ist, der aus den aufgenommenen Bildsignalen digitale Bilder erzeugt. Zur
Schwingungsdämpfung ist die gesamte Koordinaten-Messmaschine 1 auf
Schwingungsdämpfern 26 gelagert. Ebenso sind alle
in der Koordianten-Messmaschine 1 vorhandenen Interferometer 24, 34 mit
dem Rechner 16 verbunden. Die Position einer Struktur 3 setzt
sich aus der Messung der Position des Messtisches 20 und
der Messung auf dem Detektor 11 der Kamera zusammen.
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2 zeigt
eine schematische Darstellung eines Substrats 2, auf dem
Strukturen 3 angebracht sind. Neben den Strukturen 3 kann
das Substrat ferner mehrere Kennzeichnungsmittel 54, 56 enthalten. Das
Kennzeichnungsmittel kann zum einen ein Barcode 54 oder
zum anderen eine alphanumerische Kennzeichnung 56 sein.
Die Position mindestens einer Kante 3a der Struktur 3 wird
z. B. mit einem Messfenster 40 bestimmt. In der hier dargestellten Anordnung
des Messfensters 40 können die zwei gegenüberliegenden
Kanten 3a der Struktur 3 ermittelt werden. Der
Messtisch 20 wird dabei derart verfahren, dass die Struktur 3 innerhalb
des Messfensters 40 zu liegen kommt. Ist dies der Fall,
so hat die Koordinaten-Messmaschine 1 die Messposition
erreicht. In der weiteren Beschreibung ist das Erreichen der Messposition
so zu verstehen, dass ein Messfenster 40 derart in Bezug
zu einer Struktur 3 ist, dass eine Positionsmessung in
Bezug auf diese Struktur 3 durchgeführt werden
kann.
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Bei
der Koordinaten-Messmaschine 1 kann der Messtisch 20 in
der Regel in zwei voneinander unabhängigen Achsen (Richtungen)
verfahren werden. Wie bereits vorstehend erwähnt, sind
die unabhängigen Achsen in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung
ausgerichtet. Jede der Achsen wird mit einem Interferometer überwacht.
Diese Interferometer unterscheiden sich leicht in ihren Toleranzen
und weisen daher auch unterschiedliche Nichtlinearitäten
auf. Die Größe und das Ausmaß dieser
Nichtlinearitäten liegt je nach Aufbau des Interferometers
in der Größenordnung weniger Nanometer. Dieser
Fehler ist für die 2D-Maskenmetrologie zu groß und
muss daher korrigiert werden. Bei der Messung der Position der Struktur 3,
wie in 2 dargestellt, steht der Messtisch 20 still,
so dass eine Korrektur der Nichtlinearität, bzw. Eine Aufnahme
von Daten für die Korrektur der Nichtlinearitäten
der Interferometer nur bei einer Annäherung an die Messposition 50 (siehe 3)
aufgenommen werden kann. In 3 ist die
Messposition 50 mit einem Kreuz dargestellt. Würde
sich der Messtisch 20 z. B. nur in Richtung einer Achse,
wie z. B. der X-Koordinatenrichtung an die Messposition 50 annähern,
findet keine Bewegung in der zweiten Achse (Y-Koordinatenrichtung)
statt. In dieser Achse, in welcher keine Bewegung stattfindet, können
dann auch kleine Nichtlinearitäten korrigiert werden. Da
der Messtisch 20 von zwei Interferometern in Bezug auf
seine Position kontrolliert wird, muss der Messtisch 20 vor
der Messung daher sowohl in X-Koordinatenrichtung, als auch in Y-Koordinatenrichtung
verfahren werden. Eine solche Bahnkurve 52, die sich aus
den Komponenten der beiden Achsen, bzw. aus den Komponenten der X-Koordinatenrichtung
und der Y-Koordinatenrichtung zusammensetzt, ist in 3 dargestellt.
Die Bahnkurve 52 stellt somit eine schräge lineare
Annäherung an die Messposition 50 dar. Die Bahnkurve 53 ist
eine schräge lineare Entfernung von der Messposition 50.
Obwohl in der in 3 gezeigten Darstellung die
Annäherung und das Entfernen von der Messposition linear
dargestellt ist, soll dies nicht als eine Beschränkung
der Erfindung aufgefasst werden. Für einen Fachmann ist
es selbstverständlich, dass jegliches Annäherung
und/oder Entfernen von einer Messposition 50 für
die Aufnahme von Korrekturdaten möglich ist, wenn die dafür
verwendeten Bahnkurven sich aus Komponenten in X-Koordinatenrichtung
und Komponenten in Y-Koordinatenrichtung zusammensetzen.
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4 beschreibt
eine weitere Ausführungsform der Annäherung an
die Messpositionen 50. In der hier dargestellten Ausführungsform
wird zwischen den einzelnen Messpositionen 50 des Messtisches 20 in
einem leichten Bogen 60 verfahren. Für einen Fachmann
ist es selbstverständlich, dass dieser Bogen 60 nicht
als Beschränkung der Erfindung aufgefasst werden kann.
In der in 4 dargestellten Ausführungsform,
werden alle Messpunkte 50 innerhalb einer Zeile mit einem
Bogen 60 angefahren. Durch diese Ausgestaltung des Verfahrens
des Messtisches 20 erhält man somit immer die
aktuellen Korrekturdaten für den jeweiligen Messpunkt oder die
jeweilige Messposition 50. Um den Rechner 16 der
Koordinaten-Messmaschine 1 nicht übergebührlich
zu belasten, empfiehlt es sich erst ab einer Linie 62,
die in 4 gestrichelt dargestellt ist, die für
die Korrektur der Nichtlinearitäten erforderlichen Messdaten
aufzunehmen. Bis zu dieser Linie 62 kann der Messtisch 20 mit
einer höheren Geschwindigkeit verfahren werden, da keine
Daten aufgenommen werden. Dies erhöht in vorteilhafter
Weise den Durchsatz.
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Eine
andere Möglichkeit zum Anfahren der Messposition 50 ist
in 5 dargestellt. Dabei werden die einzelnen Messpositionen 50 mäanderförmig abgefahren.
Der Korrekturwert für die Richtung der schnellen Achse
(in der Darstellung der 5 ist dies die X-Koordinatenrichtung)
wird immer aus der aktuellen Bewegung gewonnen. Für die
Korrektur der langsamen Achse werden die Korrekturwerte während
der Bewegung in dieser Richtung ermittelt und gespeichert und dann
für die Korrektur der gesamten nachfolgenden Bewegung in
der schnellen Achse verwendet. Der Messtisch 20 wird mäanderförmig verfahren.
Die Korrekturdaten werden für die Y-Koordinatenrichtung
nur während der Fahrt des Messtisches zwischen der ersten
Zeile 65 und der zweiten Zeile 66 aufgenommen.
Der Verfahrweg des Messtisches 20 von der ersten Zeile 65 zu
der zweiten Zeile 66 ist mit dem Bezugszeichen 67 bezeichnet.
Jede der Zeilen 65, 66, in denen die Messpositionen 50 liegen,
muss in der Y-Koordinatenrichtung mit den Werten korrigiert werden,
die während des Verfahrens entlang der Bewegungsrichtung
mit dem Bezugszeichen 67 gewonnen worden sind. Innerhalb
der Zeile 65 oder 66 stehen immer die aktuellen
Korrekturdaten für die Korrektur der X-Koordinate zur Verfügung.
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6 zeigt
die Verfahrgeschwindigkeit des Messtisches in Abhängigkeit
von der Zeit t. Kurz vor Erreichen einer Messposition wird die Geschwindigkeit
reduziert, um die Korrekturparameter für die Korrektur
der Nichtlinearitäten der Interferometer messen zu können.
In der Darstellung in 6 ist auf der Abszisse die Zeit
und auf der Ordinate die Geschwindigkeit des Messtisches 20 aufgetragen.
Die Verfahrgeschwindigkeit des Messtisches 20 darf während der
Datenaufnahme für die Korrektur der Nichtlinearitäten
der Interferometer nicht zu hoch sein. Die Grenze ist in 6 durch
die gestrichelte Linie 70 dargestellt. Bei einer zu hohen
Verfahrgeschwindigkeit des Messtisches 20 würde
sonst die Elektronik mit der Auswertung nicht Schritt halten können.
Für die Bestimmung der Korrekturdaten für die
Nichtlinearitäten der Interferometer wird auf der anderen
Seite aber nur ein kurzer Verfahrweg von kleiner gleich 1 mm benötigt.
Es ist daher günstig, den Messtisch 20 zuerst
mit hoher Geschwindigkeit in Richtung zur Messposition 50 hin
zu verfahren, um den Durchsatz der Masken in der Koordinaten-Messmaschine 1 hoch
zu halten. Erst kurz vor Erreichen der Messposition 50 muss
die Geschwindigkeit so weit abgesenkt werden, dass man Korrekturdaten
auf dem letzten Stück des Weges bei der Annäherung
auf die Messposition aufnehmen kann.
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In 7 ist
ein Bestandteil eines neuartigen Interferometers dargestellt. Diese
neuartigen Interferometer lassen sich in der 2D-Maskenmetrologie auch
für die Messung des Referenzlichtstrahls 80 einsetzen.
Bei der Winkelmessung muss dann für die Bestimmung der
Korrekturparameter analog zum obigen Verfahren die Verkippung variiert
werden. Die Korrekturdaten für die Messung der Referenzwellenlänge
zu erhalten ist nicht einfach, da dazu die Länge eines
Etalons 82 variiert werden muss. Das Etalon 82 ist
dazu mit einem Piezo-Trieb 84 versehen, der die Länge
des Etalons 82 während des Kalibrierlaufs verändert.
Dazu wird der Spiegel 86 für den Messlichtstrahl 88 entsprechend über
den Piezo-Trieb 84 verfahren. Da sich die Länge
des Etalons 82 während des Kalibrierlaufs verändert,
kann man daraus die Korrekturdaten erhalten.
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Die
Erfindung wurde in Bezug auf besondere Ausführungsformen
beschrieben. Es ist dennoch für einen Fachmann denkbar,
Abwandlungen und Änderungen der Erfindung durchzuführen,
ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden Ansprüche
zu verlassen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - US 6738143 [0004]
- - DE 102007018115 [0005]
- - DE 102007017630 A [0006]