DE102006052060A1 - Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung - Google Patents

Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung Download PDF

Info

Publication number
DE102006052060A1
DE102006052060A1 DE102006052060A DE102006052060A DE102006052060A1 DE 102006052060 A1 DE102006052060 A1 DE 102006052060A1 DE 102006052060 A DE102006052060 A DE 102006052060A DE 102006052060 A DE102006052060 A DE 102006052060A DE 102006052060 A1 DE102006052060 A1 DE 102006052060A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electrodes
pulsed
signals
power
generators
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE102006052060A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102006052060B4 (de
Inventor
Michael Glück
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Trumpf Huettinger GmbH and Co KG
Original Assignee
Huettinger Elektronik GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Huettinger Elektronik GmbH and Co KG filed Critical Huettinger Elektronik GmbH and Co KG
Priority to DE102006052060A priority Critical patent/DE102006052060B4/de
Priority to US11/934,994 priority patent/US7609740B2/en
Publication of DE102006052060A1 publication Critical patent/DE102006052060A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102006052060B4 publication Critical patent/DE102006052060B4/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/09702Details of the driver electronics and electric discharge circuits

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

Bei einem Verfahren zur Anregung einer Gaslaseranordnung (11) mit mehreren HF-Signalen werden zumindest zwei gepulste HF-Signale erzeugt und zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare (12-15) der Gaslaseranordnung (11) mit jeweils einem gepulsten HF-Signal versorgt, wobei zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare (12-15) mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen versorgt werden. Dadurch kann die Welligkeit der Laserleistung reduziert werden.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Anregung einer Gaslaseranordnung mit mehreren HF-Signalen und eine Laseranregungsanordnung, umfassend eine Gaslaseranordnung mit mehreren Elektroden bzw. Elektrodenpaaren zur Leistungsversorgung der Gaslaseranordnung, sowie zumindest zwei zumindest ein HF-Signal erzeugenden HF-Generatoren, an die jeweils eine oder mehrere Elektroden bzw. Elektrodenpaare angeschlossen sind.
  • Es ist bekannt, zur Laseranregung HF-Leistungsgeneratoren zu verwenden und bei einer Frequenz von 13,56 MHz zu betreiben. Zur Leistungsregelung wird Pulsbetrieb genutzt, das heißt, die Laserleistung mit der Grundfrequenz von 13,56MHz wird mit einer Pulsfrequenz von z.B. 10Hz bis 100kHz pulsierend ein- und ausgeschaltet. Die maximale Pulsfrequenz ist von der Grundfrequenz abhängig und kann nicht beliebig erhöht werden, vor allem da der Generator eine gewisse Zeit zum Ein- und Ausschwingen beim Pulsen braucht.
  • Ein derartiger HF-Leistungsgenerator ist beispielsweise aus der US 2005/0088855 A1 bekannt. Hierbei wird ein einziger Leistungsgenerator verwendet, um die gesamte Anregungsleistung zu erzeugen. Sie wird auf die einzelnen Elektroden an den Gaslaserröhren mit Splittern verteilt. Nachteilig an derartigen HF-Leistungsgeneratoren ist, dass sie aufgrund der hohen Grundfrequenz mit teuren Komponenten aufgebaut werden müssen.
  • Beispielsweise aus der US 4,823,350 ist es bekannt, mehrere Elektroden an einer Gaslaserröhre vorzusehen, wobei jeder Elektrode ein eigener HF-Generator zugeordnet ist.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Betrieb einer Laseranordnung bereitzustellen, mit denen eine geringe Welligkeit der Laserleistung erreicht werden kann.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren der eingangs genannten Art gelöst, wobei zumindest zwei gepulste HF-Signale erzeugt werden und zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare der Gaslaseranordnung mit jeweils einem gepulsten HF-Signal versorgt werden, wobei zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen versorgt werden. Dies ist so zu verstehen, dass zumindest zwei gepulste HF-Signale erzeugt werden, die zeitlich versetzt an zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare geliefert werden. Durch den zeitlichen Versatz der gepulsten HF-Signale ist es möglich, relativ niedrige Pulsfrequenzen zum Pulsen der HF-Signale zu verwenden. Dies wiederum ermöglicht es, HF-Generatoren mit einer relativ niedrigen Grundfrequenz, insbesondere < 10 MHz zu verwenden. Derartige HF-Generatoren können mit kostengünstigeren Treiberbausteinen und Ausgangsverstärkern aufgebaut werden. Somit ist es möglich, Laserleistung mit einer geringen Welligkeit zu erzielen. Dies bedeutet, dass die (niedrige) Pulsfrequenz in einer Laserschweißnaht nicht mehr sichtbar ist.
  • Die Welligkeit wird nicht nur am Ausgang (=Laser) erniedrigt, sondern auch am Eingang. Das hat Vorteile bei der pulsartigen Belastung des Stromversorgungsnetzes. Wird ein Stromversorgungsnetz pulsförmig mit großen Leistungen belastet, so hat das Auswirkungen auf die Spannung im Netz. Dadurch können andere Geräte, die ebenfalls am Netz hängen, gestört werden.
  • Bei einer besonders bevorzugten Verfahrensvariante kann vorgesehen sein, dass die phasenversetzten gepulsten HF-Signale erzeugt werden, indem HF-Signale erzeugende HF-Generatoren phasenversetzt mit einer Pulsfrequenz angesteuert werden. Die einzelnen Leistungsgeneratoren werden bei einer relativ niedrigen Grundfrequenz, beispielsweise 3,39 MHz, betrieben und mit einer relativ geringen Pulsfrequenz von beispielsweise 25 kHz gepulst. Dies erfolgt jedoch nicht gleichzeitig, sondern phasenversetzt. Dies bedeutet, dass die HF-Generatoren mit einer phasenversetzten Pulsfrequenz angesteuert werden. Durch diese Maßnahme wird die Welligkeit der Ausgangsleistung, also der Laserleistung, reduziert.
  • Gemäß einer Verfahrensvariante kann vorgesehen sein, dass ein HF-Generator eine oder mehrere Elektroden bzw. Elektrodenpaare mit einem gepulsten HF-Signal versorgt. Wenn mehrere Elektroden beziehungsweise Elektrodenpaare durch einen HF-Generator gespeist werden, kann die Anzahl zu verwendender HF-Generatoren reduziert werden. Allerdings sind in diesem Fall die gepulsten HF Signale einiger Elektroden nicht phasenversetzt. Dies bedeutet, dass die Pulsfrequenz und damit die Grundfrequenz nicht soweit reduziert werden können, wie bei HF-Generatoren, die nur eine Elektrode beziehungsweise einen Elektrodenpaar speisen.
  • Eine Verfahrensvariante zeichnet sich dadurch aus, dass alle Elektroden bzw. Elektrodenpaare mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen versorgt werden. Dies ist insbesondere dadurch realisierbar, dass jeweils ein HF-Generator einer Elektrode beziehungsweise einem Elektrodenpaar zugeordnet ist, so dass die gepulsten HF-Signale aller Elektroden beziehungsweise Elektrodenpaare zeitlich versetzt sind.
  • Bei einer Verfahrensvariante kann vorgesehen sein, dass die phasenversetzt gepulsten HF-Signale erzeugt werden, indem ein HF-Signal zeitlich versetzt auf unterschiedliche Elektroden bzw. Elektrodenpaare geschaltet wird. Dies kann beispielsweise dadurch realisiert werden, dass am Ausgang des HF-Generators ein HF-Schalter vorgesehen ist, der mit der Pulsfrequenz geschaltet wird.
  • Besonders bevorzugt ist es, wenn das Tastverhältnis zumindest eines gepulsten HF-Signals eingestellt wird. Durch diese Maßnahme kann die von dem HF-Generator abgegebene Leistung und somit auch die Laserleistung eingestellt werden. Insbesondere kann eine genauere Anpassung einer Ist-Leistung an eine Soll-Leistung erfolgen. Vorzugsweise kann das Tastverhältnis von jedem gepulsten HF-Signal eingestellt werden. Insbesondere ist es möglich, für die von unterschiedlichen HF-Generatoren erzeugten gepulsten HF-Signale unterschiedliche Tastverhältnisse vorzusehen, um auf diese Weise eine geringere Welligkeit der Laserleistung zu erzielen.
  • Eine weitere alternative oder zusätzliche Möglichkeit, die von einem HF-Generator abgegebene Leistung und somit auch die Laserleistung einzustellen besteht darin, die Pulsfrequenz zumindest eines gepulsten HF-Signals einzustellen. Vorzugsweise wird eine Plusfrequenz im Bereich 0,05Hz-30kHz, besonders bevorzugt im Bereich 0,1Hz-25kHz eingestellt.
  • Zusätzlich zu den oben genannten Möglichkeiten, die Leistungen einzustellen, bietet das erfindungsgemäße Verfahren die Möglichkeit, die Laserleistung dadurch einzustellen, dass der Phasenversatz zwischen den gepulsten HF-Signalen eingestellt wird.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Einstellung des Tastverhältnisses, der Pulsfrequenz und/oder des Phasenversatzes unter Berücksichtigung einer in die Gaslaseranordnung gelieferten Ist-Leistung und einer zu liefernden Soll-Leistung erfolgt. Dies bedeutet, dass die Ist-Leistung vorzugsweise ermittelt bzw. erfasst wird. Bevorzugt erfolgt die Leistungseinstellung mittels einer Steuereinrichtung, der die Ist-Leistung zugeführt ist. Durch die Leistungseinstellung kann die Welligkeit der Ausgangsleistung beziehungsweise der Laserleistung reduziert werden. Somit kann durch eine geeignete Einstellung dafür gesorgt werden, dass auch die Welligkeit im Stromversorgungsnetz möglichst gering ist. Auch für die Einstellung der Welligkeit kann die Steuereinrichtung für die gewünschte Leistung die bestmögliche Ansteuerung ermitteln beziehungsweise berechnen.
  • Vorzugsweise werden die HF-Signale mit einer Frequenz im Bereich 1-10 MHz erzeugt. Dadurch können die HF-Generatoren, die die HF-Signale erzeugen, kostengünstig aufgebaut werden.
  • In den Rahmen der Erfindung fällt außerdem eine Laseranregungsanordnung, umfassend eine Gaslaseranordnung mit mehreren Elektroden bzw. Elektrodenpaaren zur Leistungsversorgung der Gaslaseranordnung, sowie zumindest zwei zumindest ein HF-Signal erzeugenden HF-Generatoren, an die jeweils eine oder mehrere Elektroden bzw. Elektrodenpaare angeschlossen sind, wobei zumindest eine Pulseinrichtung zum Pulsen von HF-Signalen vorgesehen ist und zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen versorgt sind. Die HF-Generatoren einer solchen Laseranregungsanordnung können bei einer geringen Grundfrequenz und mit einer relativ geringen Pulsfrequenz betrieben werden, so dass die HF-Generatoren kostengünstig aufgebaut werden können.
  • Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform kann vorgesehen sein, dass jedem HF-Generator eine Elektrode oder ein Elektrodenpaar zugeordnet ist. Dadurch können alle Elektroden beziehungsweise Elektrodenpaare mit zeitlich versetzt gepulsten HF-Signalen versorgt werden. Dies bedeutet, dass die Welligkeit der Laserleistung erheblich reduziert werden kann.
  • Weitere Vorteile ergeben sich, wenn eine Steuereinrichtung vorgesehen ist, die die zumindest eine Pulseinrichtung ansteuert. Durch diese Maßnahme ist es möglich, die Pulsfrequenz für die gepulsten HF-Signale einzustellen. Dadurch kann gezielt die Laserleistung, aber auch die Welligkeit der Laserleistung eingestellt werden. Vorzugsweise steuert die Steuereinrichtung nicht nur die Pulseinrichtung(en) sondern auch alle HF-Generatoren an. Hierbei ist anzumerken, dass die Pulseinrichtungen in den HF-Generatoren angeordnet sein können.
  • Eine Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die zumindest eine Pulseinrichtung ein Signal mit einer Pulsfrequenz generiert und damit zumindest einen HF-Generator ansteuert. Auf diese Art und Weise kann ein gepulstes HF-Signal besonders einfach generiert werden. Die Plusfrequenz liegt vorteilhafterweise im Bereich 0,05Hz-30kHz, besonders bevorzugt im Bereich 0,1Hz-25kHz.
  • Bei einer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass eine Leistungsmesseinrichtung zur Messung der Laserleistung vorgesehen ist, die mit der Steuereinrichtung in Verbindung steht. Aufgrund dieser Rückkopplung ist es möglich, mittels der Steuereinrichtung die HF- Generatoren so anzusteuern, dass eine möglichst gute Anpassung der Ist-Leistung an die Soll-Leistung erfolgt.
  • Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform kann ein gemeinsames DC-Netzteil für mehrere HF-Generatoren vorgesehen sein. Dadurch können weitere Kosten eingespart werden. Da sich die Laserleistung u.a. mittels der Pulsfrequenz einstellen lässt, wird eine Einstellbarkeit der DC-Spannung für die Leistungseinstellung nicht benötigt. Insbesondere können alle HF-Generatoren mit derselben DC-Spannung versorgt werden.
  • Bei einer alternativen Ausführungsform kann ein Power Factor Correction Glied (PFC-Glied) zur Erzeugung einer gemeinsamen DC-Spannung vorgesehen sein. Dadurch ist es möglich, die Laseranregungsanordnung an unterschiedliche Stromversorgungsnetze anzuschließen.
  • Vorzugsweise ist diesem HF-Generator ein an die gemeinsame DC-Spannung angeschlossenes Leistungseinstellglied zugeordnet. Das Leistungseinstellglied kann als DC/DC-Wandler ausgebildet sein, insbesondere als Tiefsetzsteller oder als Hochsetzsteller. Wenn durch das PFC-Glied eine hohe DC-Spannung, beispielsweise 750 V, erzeugt wird, wird vorzugsweise als Leistungseinstellglied ein Tiefsetzsteller verwendet. Durch die Veränderung der Ausgangsspannung des Leistungseinstellglieds kann die in dem zugeordneten HF-Generator erzeugte Leistung eingestellt werden. Dadurch ist es möglich, die Leistung für jeden HF-Generator separat einzustellen. Dadurch können in unterschiedliche Entladungsstrecken, beziehungsweise Abschnitte der Entladungsstrecke, unterschiedliche Leistungen eingekoppelt werden. Dies ist beispielsweise bei unterschiedlich dicken Abschnitten der Entladungsstrecke vorteilhaft.
  • Die Vorteile der Erfindung kommen besonders zum Tragen, wenn die HF-Generatoren ein HF-Signal im Bereich 1-10MHz erzeugen.
  • Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung schematisch dargestellt und werden nachfolgend mit Bezug zu den Figuren der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt:
  • 1 eine schematische Darstellung einer Laseranregungsanordnung;
  • 2a-2f eine Darstellung der von vier HF-Generatoren erzeugten gepulsten HF-Signale und die daraus resultierende Ausgangsleistung.
  • 3 eine weitere schematische Darstellung einer Laseranordnung
  • 1 zeigt eine Laseranordnung 10 mit einer Gaslaseranordnung 11, die im Ausführungsbeispiel vier Elektrodenpaare 12-15 zur Leistungseinspeisung, beziehungsweise zum Betrieb der Gaslaseranordnung 11, umfasst. Die Elektrodenpaare 12-15 sind jeweils einem HF-Generator 16-19 zugeordnet und werden von diesem mit einem gepulsten HF-Signal gespeist. Die gepulsten HF-Signale werden erzeugt, indem in den HF- Generatoren 16-19 mit einer Grundfrequenz erzeugte HF-Signale mit einer Pulsfrequenz gepulst werden. Die Pulsfrequenz stammt von Pulseinrichtungen 20-23, die die HF-Generatoren im Wesentlichen mit der Pulsfrequenz an- und ausschalten. Dies bedeutet, dass nur bei eingeschaltetem HF-Generator ein HF-Signal an das zugeordnete Elektrodenpaar 12-15 übermittelt wird. Die Besonderheit der Erfindung liegt darin, dass das An- und Ausschalten der HF-Generatoren 16-19 zeitlich versetzt erfolgt. Dies bedeutet, dass zeitlich versetzte beziehungsweise phasenversetzte gepulste HF-Signale erzeugt werden und an die Elektrodenpaare 12-15 geliefert werden. Durch diese Maßnahme kann die Welligkeit der Laserleistung reduziert werden.
  • Die Pulsfrequenz und auch der zeitliche Versatz (Phasenversatz) werden durch eine gemeinsame Steuereinrichtung 24 eingestellt, die alle HF-Generatoren 16-19 bzw. Pulseinrichtungen 20-23 ansteuert. Durch die Steuereinrichtung 24 kann zudem das Tastverhältnis der Pulssignale eingestellt werden, also das Verhältnis der Anschaltdauer zu der Ausschaltdauer eines HF-Generators während einer Periode des Pulssignals. Die Pulsfrequenz, das Tastverhältnis und der zeitliche Versatz werden dabei durch die Steuereinrichtung 24 so eingestellt, dass eine vorgegebene Soll-Leistung und eine geringe Welligkeit der Laserleistung erzielt werden. Hierbei ist zu beachten, dass die HF-Generatoren 16-19 mit unterschiedlichen Pulsfrequenzen und Tastverhältnissen angesteuert werden können, so dass sie unterschiedliche Leistungen abgeben. Um die Ist-Leistung möglichst gut an die Soll-Leistung anpassen zu können, ist eine Leistungsmesseinrichtung 25 vorgesehen.
  • Die Stromversorgung der HF-Generatoren 16-19 erfolgt durch eine als DC-Netzteil ausgebildete gemeinsame DC-Stromversorgung 26. Zu beachten ist weiterhin, dass die Laseranregungsanordnung 10 modular aufgebaut ist.
  • Dies bedeutet, dass je nach Leistungsklasse des Lasers unterschiedlich viele HF-Generatoren 16-19 eingesetzt werden können. Zur Leistungsregelung können auch nicht dargestellte Leistungseinstellglieder verwendet werden, wobei jeweils ein Leistungseinstellglied einem HF-Generator 16-19 vorgeschaltet und an die DC-Stromversorgung 26 angeschlossen ist.
  • In den 2a-2f wird die Erfindung an Hand von schematisch dargestellten Ausgangssignalen M1-M4 (gepulste HF-Signale) der HF-Generatoren 16-19 sowie einer Summenausgangsleistung S dargestellt.
  • Um die Darstellung zu vereinfachen, wird angenommen, dass alle HF-Generatoren 16-19 mit derselben Pulsfrequenz angesteuert werden. In der 2a wurde ein Tastverhältnis von 12,5% gewählt. Dies bedeutet, dass die HF-Generatoren 16-19 nur während 12,5% der Dauer einer Periode des Pulssignals eingeschaltet wurden. Die Einschaltpulse sind mit der Bezugsziffer 30 gekennzeichnet. Der 2a kann man entnehmen, dass die HF-Generatoren 16-19 zu unterschiedlichen Zeitpunkten für jeweils dieselbe Dauer eingeschaltet wurden. Aufgrund des geringen Tastverhältnisses, d.h. der kurzen Einschaltzeit der HF-Generatoren 16-19 ergibt sich eine pulsierende Summenausgangsleistung S. Dabei wurden die Zeitpunkte so gewählt, dass die Leistungspulse 31 denselben Abstand aufweisen. Der Abstand der steigenden Flanken stellt dabei den Phasenversatz 32 bzw. den zeitlich Versatz zwischen zwei gepulsten HF-Signalen dar.
  • In der 2b ist ein Tastverhältnis von 25% gewählt. Der Phasenversatz der Signale M1-M4 ist dabei so gewählt, dass eine kontinuierliche Summenausgangsleistung S entsteht. In den 2a, 2b sind niemals zwei HF-Generatoren 16-19 gleichzeitig eingeschaltet.
  • In der 2c weisen die Pulssignale ein Tastverhältnis von 50% auf, so dass die HF-Generatoren 16-19 immer für die Hälfte einer Periode des Pulssignals angeschaltet sind und die andere Hälfte der Periode ausgeschaltet sind. Da in diesem Fall immer zwei HF-Generatoren 16-19 gleichzeitig eingeschaltet sind, verdoppelt sich die Summeausgangsleistung S gegenüber der Darstellung in der 2b. Eine Verdreifachung der Summenausgangsleistung S ergibt sich in der 2d bei einem Tastverhältnis von 75%.
  • In der Darstellung der 2e ist ein Tastverhältnis von 87,5% gewählt. In diesem Fall weist das Summenausgangssignal eine Welligkeit auf.
  • Bei einem Tastverhältnis von 100% (2f) sind die HF-Generatoren 16-19 ständig eingeschaltet, so dass dauernd ein HF-Signal an die Elektrodenpaare geliefert wird. Es versteht sich, dass hier die größte Summenausgangsleistung S erzielt wird.
  • Bei der Laseranregungsanordnung 40 in der 3 ist ein zentrales PFC-Glied 41 vorgesehen, welches an ein Spannungsversorgungsnetz anschließbar ist und die Versorgungsspannung in eine gemeinsame DC-Spannung wandelt. An das PFC-Glied 41 und damit an die gemeinsame DC-Spannung sind als Tiefsetzsteller ausgebildete Leistungseinstellglieder 42-45 angeschlossen. Die Leistungseinstellglieder werden ebenfalls durch eine nicht dargestellte Steuereinrichtung angesteuert, so dass die Ausgangsspannung der Leistungseinstellglieder 42-45 einstellbar ist. Auf diese Weise kann die in den HF-Generatoren 46-49 erzeugte Leistung eingestellt beziehungsweise geregelt werden.
  • Die HF-Generatoren 46-49 weisen jeweils eine HF-Schaltstufe 50-53 und einen Ausgangstransformator 54-57 auf, durch den die Ausgangsspannung auf geeignete Werte für die als Ersatzschaltbild dargestellten Entladungsstreckenabschnitte 58-61 transformiert wird.

Claims (19)

  1. Verfahren zur Anregung einer Gaslaseranordnung (11) mit mehreren HF-Signalen (M1–M4), dadurch gekennzeichnet, dass zumindest zwei gepulste HF-Signale (M1-M4) erzeugt werden und zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare (12-15) der Gaslaseranordnung (11) mit jeweils einem gepulsten HF-Signal (M1 -M4) versorgt werden, wobei zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare (12-15) mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen (M1-M4) versorgt werden.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die phasenversetzten gepulsten HF-Signale (M1-M4) erzeugt werden, indem HF-Signale erzeugende HF-Generatoren (16-19, 46-49) phasenversetzt mit einer Pulsfrequenz angesteuert werden.
  3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein HF-Generator (16-19, 46-49) eine oder mehrere Elektroden bzw. Elektrodenpaare (12-15) mit einem gepulsten HF-Signal (M1-M4) versorgt.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass alle Elektroden bzw. Elektrodenpaare (12-15) mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen (M1-M4) versorgt werden.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die phasenversetzt gepulsten HF-Signale (M1 -M4) erzeugt werden, indem ein HF-Signal zeitlich versetzt auf unterschiedliche Elektroden bzw. Elektrodenpaare (12-15) geschaltet wird.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Tastverhältnis zumindest eines gepulsten HF-Signals (M1-M4) eingestellt wird.
  7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Pulsfrequenz zumindest eines gepulsten HF-Signals (M1-M4) eingestellt wird.
  8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Phasenversatz (32) zwischen den gepulsten HF-Signalen (M1-M4) eingestellt wird.
  9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche 6-8, dadurch gekennzeichnet, dass die Einstellung des Tastverhältnisses, der Pulsfrequenz und/oder des Phasenversatzes (32) unter Berücksichtigung einer in die Gaslaseranordnung (11) gelieferten Ist-Leistung und einer zu liefernden Soll-Leistung erfolgt.
  10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass HF-Signale mit einer Frequenz im Bereich 1-10 MHz erzeugt werden.
  11. Laseranregungsanordnung (10, 40), umfassend eine Gaslaseranordnung (11) mit mehreren Elektroden bzw. Elektrodenpaaren (12-15) zur Leistungsversorgung der Gaslaseranordnung (11), sowie zumindest zwei zumindest ein HF-Signal erzeugenden HF-Generatoren (16-19, 46-49), an die jeweils eine oder mehrere Elektroden bzw. Elektrodenpaare (12-15) angeschlossen sind, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Pulseinrichtung (20-23) zum Pulsen von HF-Signalen vorgesehen ist und zumindest zwei Elektroden oder Elektrodenpaare (12-15) mit zueinander phasenversetzt gepulsten HF-Signalen (M1 -M4) versorgt sind.
  12. Laseranregungsanordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass jedem HF-Generator (16-19, 46-49) eine Elektrode oder ein Elektrodenpaar (12-15) zugeordnet ist.
  13. Laseranregungsanordnung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine Steuereinrichtung (24) vorgesehen ist, die die zumindest eine Pulseinrichtung (20-23) ansteuert.
  14. Laseranregungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 11-13, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Pulseinrichtung (20-23) ein Signal mit einer Pulsfrequenz generiert und damit zumindest einen HF-Generator (16-19, 46-49) ansteuert.
  15. Laseranregungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 11-14, dadurch gekennzeichnet, dass eine Leistungsmesseinrichtung (25) zur Messung der Laserleistung vorgesehen ist, die mit der Steuereinrichtung (24) in Verbindung steht.
  16. Laseranregungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 11-15, dadurch gekennzeichnet, dass ein gemeinsames DC-Netzteil (26) für mehrere HF-Generatoren (16-19, 46-49) vorgesehen ist.
  17. Laseranregungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 11-15, dadurch gekennzeichnet, dass ein Power Factor Correction-Glied (41) (PFC-Glied) zur Erzeugung einer gemeinsamen DC-Spannung vorgesehen ist.
  18. Laseranregungsanordnung nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass jedem HF-Generator (16-19, 46-49) ein an die gemeinsame DC-Spannung angeschlossenes Leistungseinstellglied (42-45) zugeordnet ist.
  19. Laseranregungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 11-16, dadurch gekennzeichnet, dass die HF-Generatoren (16-19, 46-49) ein HF-Signal im Bereich 1-10MHz erzeugen.
DE102006052060A 2006-11-04 2006-11-04 Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung Expired - Fee Related DE102006052060B4 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006052060A DE102006052060B4 (de) 2006-11-04 2006-11-04 Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung
US11/934,994 US7609740B2 (en) 2006-11-04 2007-11-05 Method and arrangement for the excitation of a gas laser arrangement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006052060A DE102006052060B4 (de) 2006-11-04 2006-11-04 Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102006052060A1 true DE102006052060A1 (de) 2008-05-08
DE102006052060B4 DE102006052060B4 (de) 2009-11-26

Family

ID=39264864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102006052060A Expired - Fee Related DE102006052060B4 (de) 2006-11-04 2006-11-04 Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7609740B2 (de)
DE (1) DE102006052060B4 (de)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7825719B2 (en) * 2008-12-29 2010-11-02 Advanced Energy Industries, Inc. System and method for wideband phase-adjustable common excitation
US11440825B2 (en) 2017-10-11 2022-09-13 Schwing Bioset, Inc. Struvite recovery and phosphorus management techniques for wastewater treatment plants
US10555412B2 (en) 2018-05-10 2020-02-04 Applied Materials, Inc. Method of controlling ion energy distribution using a pulse generator with a current-return output stage
US11476145B2 (en) 2018-11-20 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Automatic ESC bias compensation when using pulsed DC bias
WO2020154310A1 (en) 2019-01-22 2020-07-30 Applied Materials, Inc. Feedback loop for controlling a pulsed voltage waveform
US11508554B2 (en) 2019-01-24 2022-11-22 Applied Materials, Inc. High voltage filter assembly
US11462389B2 (en) 2020-07-31 2022-10-04 Applied Materials, Inc. Pulsed-voltage hardware assembly for use in a plasma processing system
US11901157B2 (en) 2020-11-16 2024-02-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11798790B2 (en) 2020-11-16 2023-10-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11495470B1 (en) 2021-04-16 2022-11-08 Applied Materials, Inc. Method of enhancing etching selectivity using a pulsed plasma
US11948780B2 (en) 2021-05-12 2024-04-02 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11791138B2 (en) 2021-05-12 2023-10-17 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11967483B2 (en) 2021-06-02 2024-04-23 Applied Materials, Inc. Plasma excitation with ion energy control
US20220399185A1 (en) 2021-06-09 2022-12-15 Applied Materials, Inc. Plasma chamber and chamber component cleaning methods
US11810760B2 (en) 2021-06-16 2023-11-07 Applied Materials, Inc. Apparatus and method of ion current compensation
US11569066B2 (en) 2021-06-23 2023-01-31 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications
US11776788B2 (en) 2021-06-28 2023-10-03 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage boost for substrate processing
US11476090B1 (en) 2021-08-24 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Voltage pulse time-domain multiplexing
US12106938B2 (en) 2021-09-14 2024-10-01 Applied Materials, Inc. Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber
US11694876B2 (en) 2021-12-08 2023-07-04 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing
US11972924B2 (en) 2022-06-08 2024-04-30 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications
US12111341B2 (en) 2022-10-05 2024-10-08 Applied Materials, Inc. In-situ electric field detection method and apparatus

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD261675A1 (de) * 1987-06-01 1988-11-02 Univ Magdeburg Tech Elektronisch steuerbare stromquelle fuer gasentladungslaser
US4823350A (en) * 1986-10-14 1989-04-18 Fanuc Ltd. Laser device
EP0933843B1 (de) * 1998-01-30 2002-10-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Mikrowellenangeregter Gaslaseroszillator
DE102004023750A1 (de) * 2004-05-11 2005-12-08 Rofin Sinar Laser Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Gaslasers mit einer getakteten Hochfrequenzspannung und nach diesem Verfahren betriebener Gaslaser
EP1667291A2 (de) * 2004-11-29 2006-06-07 Fanuc Ltd Gaslaseroszillator

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE261675C (de)
US4494236A (en) * 1979-07-26 1985-01-15 Hughes Aircraft Company Pulsed rf pumped waveguide laser
US4618961A (en) * 1982-12-16 1986-10-21 Sutter Jr Leroy V Configuration of electrodes for transversely excited gas lasers
JPH0736458B2 (ja) 1987-04-30 1995-04-19 フアナツク株式会社 レ−ザ発振装置
JPS63273378A (ja) 1987-04-30 1988-11-10 Fanuc Ltd レ−ザ発振装置
DE10161743B4 (de) * 2001-12-15 2004-08-05 Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG Hochfrequenzanregungsanordnung

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4823350A (en) * 1986-10-14 1989-04-18 Fanuc Ltd. Laser device
DD261675A1 (de) * 1987-06-01 1988-11-02 Univ Magdeburg Tech Elektronisch steuerbare stromquelle fuer gasentladungslaser
EP0933843B1 (de) * 1998-01-30 2002-10-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Mikrowellenangeregter Gaslaseroszillator
DE102004023750A1 (de) * 2004-05-11 2005-12-08 Rofin Sinar Laser Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Gaslasers mit einer getakteten Hochfrequenzspannung und nach diesem Verfahren betriebener Gaslaser
EP1667291A2 (de) * 2004-11-29 2006-06-07 Fanuc Ltd Gaslaseroszillator

Also Published As

Publication number Publication date
DE102006052060B4 (de) 2009-11-26
US7609740B2 (en) 2009-10-27
US20080107142A1 (en) 2008-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102006052060B4 (de) Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung
DE69512476T2 (de) Vorrichtung zur magnetischen reizung von zellen oder gewebe
DE102011075210B4 (de) Linearbeschleuniger
DE19500219A1 (de) Elektrochirurgisches Gerät
DE3810293A1 (de) Elektronenkanone
DE10250229B4 (de) Leistungsregelung für Hochfrequenzverstärker
DE102006052061A1 (de) Verfahren zur Ansteuerung von zumindest zwei HF-Leistungsgeneratoren
WO2001080413A1 (de) Stromversorgungsgerät zur bipolaren stromversorgung
DE102005007769A1 (de) Hochfrequenzchirurgie-Vorrichtung und Betriebsverfahren dafür
WO2017001603A2 (de) Vorrichtung zur erzeugung mehrerer takt- oder hochfrequenzsignale
DE3208673A1 (de) Verfahren und anordnung zum erzeugen einer reihe diskreter, zeitlich beabstandeter elektrischer entladungen
EP1612937B1 (de) Verfahren zur Formung von Signalspektren
EP0160995B1 (de) Schaltungsanordnung zur Erzeugung von Erodierimpulsen an einer Funkenerosionsanlage
DE2645223A1 (de) Verfahren zur gewinnung von kenngroessen fuer die regelung des schweissprozesses beim lichtbogenschweissen
EP1972405B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Vorbehandlung von elektronischen Bauelementen vor dem Löten
EP1723985B1 (de) Magnetfeldtherapiegerät zum Erzeugen eines zeitlich veränderlichen elektromagnetischen Feldes mittels einer Folge von Stromimpulsen
DE3841938C2 (de)
DE3048876C2 (de) Fluidauslaßvorrichtung zum Ausrichten einer Fluidströmung
EP0101922B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von ferromagnetischen Werkstoffen
EP1640100B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Metall-Schutzgas (MSG)-Lichtbogenschweissen
DE102015117107B4 (de) Schweißgerät
DE1058653B (de) Verfahren und Einrichtung zur Erzeugung oszillierender elektrischer Entladungen in Funkenerosionsmaschinen
DE459896C (de) Einrichtung zur Schwingungserzeugung
EP3684537A1 (de) Verfahren zur berührungslosen zündung eines lichtbogens und schweissstromquelle zur durchführung eines zündverfahrens
CH670591A5 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8364 No opposition during term of opposition
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: TRUMPF HUETTINGER GMBH + CO. KG, DE

Free format text: FORMER OWNER: HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG, 79111 FREIBURG, DE

Effective date: 20130801

R082 Change of representative

Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE PARTNERSCH, DE

Effective date: 20130801

Representative=s name: KOHLER SCHMID MOEBUS PATENTANWAELTE, DE

Effective date: 20130801

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee