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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Ausrichten einer ebenen Tischoberfläche relativ zu einer Referenzlinie, um
die Tischoberfläche
entlang von zumindest einer ersten Bewegungsrichtung quer zu der
Referenzlinie und mit einem definierten Abstand zu der Referenzlinie
zu verfahren.
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Für die Herstellung
von so genannten Flüssigkristallanzeigen
(liquid crystal displays, LCDs) wurde ein neues Verfahren unter
der Bezeichnung „thin-beam
crystallization" vorgeschlagen.
Bei diesem Verfahren wird eine leitfähige Schicht aus polykristallinem
Silizium auf einem Glassubstrat erzeugt, indem ein Siliziumfilm
mit Hilfe eines Lasers aufgeschmolzen wird. Um ein möglichst
gleichmäßiges Produktionsergebnis
zu erhalten, soll das Glassubstrat mit dem Siliziumfilm möglichst
gleichmäßig in der Fokuslinie
eines fächerartig
aufgeweiteten Laserstrahls geführt
werden, der senkrecht auf die Glasplatte auftrifft. Jede Abweichung
aus der Fokuslinie kann das Produktionsergebnis beeinträchtigen.
US 7,009,140 B2 beschreibt
eine solche Vorrichtung.
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Bei
der praktischen Realisierung einer solchen Vorrichtung zeigt sich
allerdings, dass es äußerst schwierig
ist, eine großflächige, ebene
Platte exakt parallel zu einer dünnen
Referenzlinie zu führen.
Zumindest bei den Genauigkeiten, die für die neue Herstellung von
LCDs benötigt
wird, spielen schon Abweichungen eine Rolle, die in der Größenordnung
der Fertigungs- und Montagetoleranzen von hochgenauen Maschinenführungen
liegen. Dementsprechend ist das exakte Ausrichten einer Tischoberfläche, auf
der zum Beispiel ein Glassubstrat abgelegt werden soll, relativ
zu einer im Idealfall parallelen Referenzlinie ein bislang ungelöstes Problem.
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Auf
einem anderen Technikgebiet, nämlich der
Entwicklung, Herstellung und Verwendung von so genannten Koordinatenmessgeräten, ist
es bekannt, die Position eines bewegten Maschinenteils innerhalb
eines Raumvolumens mit einer hohen Genauigkeit zu bestimmen, indem
man in einem Kalibriervorgang Korrekturwerte entlang der Bewegungsbahnen
des Maschinenteils bestimmt. Mit den Korrekturwerten lassen sich
die so genannten Führungsfehler
zumindest teilweise rechnerisch korrigieren. Die Führungsfehler
sind eine Folge von statischen und dynamischen Einflüssen, wie
etwa Welligkeiten oder Schräglauf
der Führungsbahnen
und wechselnde Lasten beim Bewegen des Maschinenteils. Verfahren
zur Bestimmung und Korrektur von Führungsfehlern bei einem Koordinatenmessgerät sind bspw. in
DE 44 10 267 A1 oder
in
DE 102 14 490 A1 beschrieben.
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Bei
einem Koordinatenmessgerät
beziehen sich die Korrekturen der Führungsfehler in der Regel auf
einen „Punkt", nämlich die
Position des Messkopfes im Messvolumen. Die bekannten Verfahren
bieten daher keine Lösung,
um eine ebene Tischoberfläche
relativ zu einer Referenzlinie mit hoher Genauigkeit auszurichten
und zu führen.
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Angesichts
dessen ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
und eine Vorrichtung der eingangs genannten Art anzugeben. Wenngleich
die Erfindung hierauf nicht beschränkt ist, ist es insbesondere
eine Aufgabe, ein Verfahren und eine Vorrichtung anzugeben, um eine
ebene Tischoberfläche,
die zur Aufnahme eines plattenförmigen
Werkstücks
dient, mit höchster
Genauigkeit relativ zu einer Referenzlinie auszurichten, wobei die ebene
Tischoberfläche
mit einem definierten Abstand quer zu der Referenzlinie verfahren
werden soll.
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Gemäß einem
Aspekt der Erfindung wird diese Aufgabe durch ein Verfahren zum
Ausrichten einer ebenen Tischoberfläche relativ zu einer Referenzlinie gelöst, mit
den Schritten:
- – Bereitstellen von zumindest
einem ersten Positionssensor, der in einem senkrechten Abstand zu der
Tischoberfläche
angeordnet ist,
- – Bereitstellen
eines zweiten Positionssensors, der mit der Tischoberfläche verbunden
ist,
- – Verfahren
der Tischoberfläche
entlang der ersten Bewegungsrichtung und Bestimmen eines ersten
Führungsfehlers,
der eine Kippbewegung der Tischoberfläche relativ zu dem ersten Positionssensor
entlang der ersten Bewegungsrichtung repräsentiert,
- – Verfahren
der Tischoberfläche
entlang einer zweiten Bewegungsrichtung, die quer zu der ersten
Bewegungsrichtung liegt, und Bestimmen eines zweiten Führungsfehlers,
der eine Kippbewegung der Tischoberfläche relativ zu dem ersten Positionssensor
entlang der zweiten Bewegungsrichtung repräsentiert,
- – Verfahren
der Tischoberfläche
mit dem zweiten Positionssensor entlang der zweiten Bewegungsrichtung
und Bestimmen eines dritten Führungsfehlers,
der eine Kippbewegung des zweiten Positionssensors relativ zu dem
ersten Positionssensor entlang der zweiten Bewegungsrichtung repräsentiert,
- – Bestimmen
eines aktuellen Verlaufs der Referenzlinie mit dem zweiten Positionssensor,
und
- – Ausrichten
der Tischoberfläche
relativ zu dem aktuellen Verlauf in Abhängigkeit von den ersten, zweiten
und dritten Führungsfehlern.
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Die
Aufgabe wird ferner durch eine Vorrichtung zum Ausrichten einer
ebenen Tischoberfläche relativ
zu einer Referenzlinie gelöst,
mit zumindest einem ersten Positionssensor, der in einem senkrechten
Abstand zu der Tischoberfläche
angeordnet ist und der dazu ausgebildet ist, eine Entfernung zu
der Tischoberfläche
zu bestimmen, mit einem zweiten Positionssensor, der mit der Tischoberfläche verbunden
ist und der dazu ausgebildet ist, die Referenzlinie zu detektieren,
mit einem Antrieb zum Verfahren der Tischoberfläche entlang der ersten Bewegungsrichtung
und entlang von zumindest einer zweiten Bewegungsrichtung, die quer
zu der ersten Bewegungsrichtung und in etwa parallel zu der Referenzlinie liegt,
mit einer ersten Messeinrichtung zum Bestimmen eines ersten Führungsfehlers,
der eine Kippbewegung der Tischoberfläche relativ zu dem ersten Positionssensor
entlang der ersten Bewegungsrichtung repräsentiert, mit einer zweiten
Messeinrichtung zum Bestimmen eines zweiten Führungsfehlers, der eine Kippbewegung
der Tischoberfläche
relativ zu dem ersten Positionssensor entlang der zweiten Bewegungsrichtung
repräsentiert,
mit einer dritten Messeinrichtung zum Bestimmen eines dritten Führungsfehlers,
der eine Kippbewegung des zweiten Positionssensors relativ zu dem
ersten Positionssensor entlang der zweiten Bewegungsrichtung repräsentiert,
mit einer Recheneinheit zum Bestimmen eines aktuellen Verlaufs der
Referenzlinie in Abhängigkeit von
den ersten, zweiten und dritten Führungsfehlern, und mit einer
Stelleinrichtung zum Ausrichten der Tischoberfläche relativ zu dem aktuellen
Verlauf.
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Das
neue Verfahren und die neue Vorrichtung verwenden also zumindest
zwei Positionssensoren. Ein erster Positionssensor ist in einem
senkrechten Abstand zu der Tischoberfläche und damit getrennt von
der Tischoberfläche
angeordnet. Da der erste Positionssensor in der Lage ist, die Entfernungen
zu einzelnen Punkten auf der Tischoberfläche zu bestimmen, lässt sich
die Tischoberfläche
mit Hilfe des ersten Positionssensors vermessen. In bevorzugten
Ausführungsbeispielen
ist der erste Positionssensor ein Laserentfernungsmesser, der an
einem Gestell oberhalb der Tischoberfläche angeordnet ist.
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Ein
zweiter, separater Positionssensor ist speziell dazu ausgebildet,
die Referenzlinie zu detektieren. Für den bevorzugten Anwendungsfall,
dass die Referenzlinie die Fokuslinie eines fächerartig geweiteten Laserstrahls
ist, beinhaltet der zweite Positionssensor bspw. eine Kamera, die
dazu ausgebildet ist, den Laserstrahl aufzunehmen, um die Lage der Fokuslinie
zu detektieren. Es handelt sich hier also um zwei verschiedene Positionssensoren,
von denen einer zur Vermessung der Tischoberfläche ausgebildet ist, während der
andere zur Vermessung der Referenzlinie ausgebildet ist. Der zweite
Positionssensor ist im Gegensatz zu dem ersten Positionssensor mit
der Tischoberfläche
verbunden, so dass er sich mit der Tischoberfläche mitbewegt.
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Indem
man nun die Kippbewegung des zweiten Positionssensors beim Bewegen
der Tischoberfläche
mit Hilfe des ersten Positionssensor bestimmt, wird ein Bezug zwischen
den Messergebnissen des ersten und zweiten Positionssensors gebildet.
Des Weiteren werden die Tischoberfläche und die Referenzlinie über die
beiden Positionssensoren zueinander in Bezug gesetzt. Mit anderen
Worten wird der zweite Positionssensor durch die Bestimmung des dritten
Führungsfehlers
in dasselbe Referenzkoordinatensystem übernommen, in dem auch die
Tischoberfläche
unter Berücksichtigung
der ersten und zweiten Führungsfehler
geführt
wird. Anschließend kann
die Lage der Referenzlinie bezogen auf dieses Referenzsystem mit
Hilfe des zweiten Positionssensors bestimmt werden. Die Vermessung
des zweiten Positionssensors mit dem ersten Positionssensor stellt
ein Bindeglied dar, über
das die Tischoberfläche in
eine definierte Beziehung zu der Referenzlinie gebracht wird.
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Dementsprechend
ist es nach der Bestimmung der zumindest drei Arten von Führungsfehlern möglich, die
ebene Tischoberfläche
relativ zu der Referenzlinie auszurichten, weil sowohl die Tischoberfläche als
auch die Referenzlinie im gleichen Referenzraum liegen. Eine Schräglage des
zweiten Positionssensors relativ zu der Tischoberfläche kann bspw.
durch die Berücksichtigung
der zweiten und dritten Führungsfehler
rechnerisch korrigiert werden.
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Insgesamt
lässt sich
die ebene Tischoberfläche
mit Hilfe des neuen Verfahrens und der neuen Vorrichtung mit einer
hohen Genauigkeit parallel zu einer quer verlaufenden Referenzlinie
ausrichten, an der die Tischoberfläche mit einem definierten und möglichst
gleichbleibenden Abstand vorbeigefahren werden soll. Die oben genannte
Aufgabe ist daher vollständig
gelöst.
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Darüber hinaus
besitzen die neue Vorrichtung und das neue Verfahren den Vorteil,
dass die ermittelten Führungsfehler
auch beim Verfahren der Tischoberfläche entlang der ersten Bewegungsrichtung
berücksichtigt
werden können,
so dass die optimale Ausrichtung auch während der Verfahrbewegung gewährleistet
werden kann.
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In
einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist die Referenzlinie
eine Laserlinie, die quer zu der Tischoberfläche verläuft, und der erste Positionssensor
ist dazu ausgebildet, die Laserlinie zu detektieren.
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Diese
Ausgestaltung ist bevorzugt, weil eine Laserlinie als Referenzlinie
eine sehr exakte Bezugsgröße darstellt,
so dass die Ausrichtung der Tischoberfläche im Raum mit einer sehr
hohen Genauigkeit erfolgt.
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In
einer weiteren Ausgestaltung ist die Laserlinie eine Fokuslinie
eines fächerartig
geweiteten Laserstrahls, der senkrecht auf die Tischoberfläche auftrifft.
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In
dieser Ausgestaltung sind das neue Verfahren und die neue Vorrichtung
besonders einfach in eine Anlage der eingangs beschriebenen Art
zur Herstellung von LCDs zu integrieren. Umgekehrt profitiert eine
solche Anlage in besonderem Maße
von der hohen Positioniergenauigkeit beim Ausrichten.
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In
einer weiteren Ausgestaltung beinhaltet der erste Positionssensor
eine Kamera, um die Laserlinie zu erfassen.
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In
allgemeinen Ausgestaltungen der Erfindung muss der erste Positionssensor
lediglich in der Lage sein, die Referenzlinie mit möglichst
hoher Genauigkeit zu erfassen. Wenn die Referenzlinie durch einen „konventionellen" Laserstrahl bereitgestellt wird,
der von einem Sender seitlich der Tischoberfläche zu einem Empfänger auf
der anderen Seite der Tischoberfläche verläuft, kann der erste Positionssensor
bspw. ein einfacher Fotoempfänger
sein, der ähnlich
wie der Fotoempfänger
einer herkömmlichen Lichtschranke
ausgebildet ist. Bevorzugt beinhaltet der erste Positionssensor
jedoch eine Kamera, die eine Vielzahl lichtempfindlicher Bildzellen
in einer matrixartigen Anordnung aufweist, weil eine solche Kamera
einen großen
Erfassungsbereich mit einer hohen Ortsauflösung kombiniert.
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Besonders
vorteilhaft ist ein solcher zweiter Positionssensor, wenn die Referenzlinie
die Fokuslinie eines senkrecht auf die Tischoberfläche auftreffenden,
fächerartig
geweiteten Laserstrahls ist, weil die Höhe der Fokuslinie über der
Tischoberfläche dann
parallel zum Verlauf der Referenzlinie detektiert werden kann. In
bevorzugten Ausgestaltungen wird der Tisch mit der Kamera von unten
an die Fokuslinie herangefahren, um durch eine Auswertung des Kamerabildes
die exakte Höhenlage
der Fokuslinie an dem Punkt der Kamera zu bestimmen. Diese Ausgestaltung
ermöglicht
eine automatisierte Detektion der Fokuslinie.
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In
einer weiteren Ausgestaltung wird eine Vielzahl von ersten Tischhöhen zwischen
dem ersten Positionssensor und der Tischoberfläche bestimmt, um den ersten
Führungsfehler
zu bestimmen. Bevorzugt wird der erste Führungsfehler bestimmt, indem eine
Messgerade mit Hilfe einer Geradeneinpassung in die erhaltene Punktewolke
der ersten Tischhöhen eingepasst
wird, wobei anschließend
ein Kippwinkel zwischen der Messgeraden und der ersten Bewegungsrichtung
bestimmt wird.
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Mit
dieser Ausgestaltung lässt
sich der erste Führungsfehler
einfach und mit einer hohen Reproduzierbarkeit bestimmen.
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In
einer weiteren Ausgestaltung wird eine Vielzahl von zweiten Tischhöhen zwischen
dem ersten Positionssensor und der Tischoberfläche bestimmt, um den zweiten
Führungsfehler
zu bestimmen. Auch hier ist es wieder bevorzugt, wenn der zweite
Führungsfehler
in Form eines Kippwinkels zwischen einer Messgeraden, die in die
Punktewolke der zweiten Tischhöhen
eingepasst ist, und der zweiten Bewegungsrichtung bestimmt wird.
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Auch
diese Ausgestaltung besitzt den Vorteil, dass der zweite Führungsfehler
einfach und mit einer hohen Reproduzierbarkeit bestimmt werden kann.
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In
einer weiteren Ausgestaltung wird eine Vielzahl von dritten Tischhöhen zwischen
dem ersten Positionssensor und dem zweiten Positionssensor bestimmt,
um den dritten Führungsfehler
zu bestimmen.
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Diese
Ausführungsbeispiel
ermöglicht
gut reproduzierbare Bestimmung des dritten Führungsfehlers, insbesondere,
wenn der dritte Führungsfehler
in Form eines Kippwinkels zwischen einer durch die Punktewolke der
dritten Tischhöhen
gelegten Messgeraden und der zweiten Bewegungsrichtung ist.
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In
einer weiteren Ausgestaltung weist der zweite Positionssensor zumindest
eine definierte Referenzfläche
auf, die mit dem ersten Positionssensor erfasst wird, um den dritten
Führungsfehler
zu bestimmen.
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In
dieser Ausgestaltung besitzt der zweite Positionssensor an einer
von außen
zugänglichen Gehäuseseite
zumindest eine markierte Fläche,
die in einer definierten Lage zu der Aufnahmesensorik des Positionssensors
angeordnet ist. Indem man eine solche Referenzfläche mit dem ersten Positionssensor
erfasst, wird eine besonders hohe Genauigkeit in der Wirkungskette
erreicht, mit der die Referenzlinie und die Tischoberfläche zueinander
in Bezug gesetzt werden.
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In
einer weiteren Ausgestaltung wird die Tischoberfläche mit
dem zweiten Positionssensor ferner entlang der ersten Bewegungsrichtung
verfahren, um einen vierten Führungsfehler
zu bestimmen, der eine Kippbewegung des zweiten Positionssensors
relativ zu dem ersten Positionssensor entlang der ersten Bewegungsrichtung
repräsentiert.
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Diese
Ausgestaltung ermöglicht
eine noch höhere
Genauigkeit. Sie besitzt den Vorteil, dass ein Montagefehler, der
sich als Kippwinkel zwischen dem zweiten Positionssensor und der
Tischoberfläche entlang
der ersten Bewegungsrichtung auswirken kann, bei der Ausrichtung
der Tischoberfläche
berücksichtigt
wird.
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In
einer weiteren Ausgestaltung ist der erste Positionssensor stationär oberhalb
der Tischoberfläche
angeordnet. Des Weiteren ist es bevorzugt, wenn der zweite Positionssensor
mit der Tischoberfläche
dauerhaft verbunden ist.
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Diese
Ausgestaltungen besitzen den Vorteil, dass die Ausrichtung der Tischoberfläche mit
einer gleichbleibend hohen Genauigkeit wiederholt werden kann. Außerdem lässt sich
die Vorrichtung dieser Ausgestaltung relativ einfach und kostengünstig in eine
Anlage der eingangs beschriebenen Art integrieren.
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In
einer weiteren Ausgestaltung erfolgt das Ausrichten der Tischoberfläche mit
Hilfe von Stellgrößen, die
in einem Speicher dauerhaft abgespeichert werden.
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In
dieser Ausgestaltung werden die Stellgrößen, die zum Ausrichten der
Tischoberfläche
ermittelt werden, dauerhaft abgespeichert. Die Ausgestaltung ermöglicht eine
einfache und schnelle Neuausrichtung der Tischoberfläche, bspw.
nach einem unvorhergesehenen Stoß oder nach einer definierten
Anzahl von Produktionsdurchlaufen.
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In
einer weiteren Ausgestaltung wird die Tischoberfläche um eine
Hochachse senkrecht zur Tischoberfläche verschwenkt und die Bestimmung der
Messebene und die Ausrichtung der Tischoberfläche wird nach dem Verschwenken
wiederholt.
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Diese
Ausgestaltung ist von Vorteil, weil sie eine einfache und schnelle Änderung
der Zuführrichtung
der Tischoberfläche
relativ zu der Referenzlinie ermöglicht.
Mit dieser Ausgestaltung ist es bspw. möglich, ein plattenförmiges Werkstück zunächst in einer
ersten Richtung und anschließend
in einer orthogonalen zweiten Richtung an der Referenzlinie vorbeizuführen. Die
Neuausrichtung der Tischoberfläche
nach einer Schwenkbewegung um die Hochachse sorgt dabei für eine gleichbleibend
hohe Genauigkeit.
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Es
versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend
noch zu erläuternden Merkmale
nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in
anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar sind, ohne
den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
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Ausführungsbeispiele
der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden in der
nachfolgenden Beschreibung näher
erläutert.
Es zeigen:
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1 eine
vereinfachte Darstellung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der neuen Vorrichtung
im Zusammenhang mit einer Anlage der eingangs beschriebenen Art,
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2 die
Vorrichtung aus 1 in einem ersten Zwischenschritt
des neuen Verfahrens,
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3 die
Vorrichtung aus 1 in einem weiteren Zwischenschritt
des neuen Verfahrens,
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4 die
Vorrichtung aus 1 in einem weiteren Zwischenschritt
des neuen Verfahrens,
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5 die
Vorrichtung aus 1 beim Vermessen der Referenzlinie,
und
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6 ein
Flussdiagramm zur Erläuterung
eines bevorzugten Ausführungsbeispiels
des neuen Verfahrens.
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In 1 ist
eine Anlage zum Bearbeiten eines plattenförmigen Werkstücks insgesamt
mit der Bezugsziffer 10 bezeichnet. Die Anlage 10 beinhaltet hier
eine Vorrichtung nach einem Ausführungsbeispiel
der Erfindung.
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Die
Anlage 10 besitzt einen Tisch 12 mit einer Tischoberfläche 14,
auf der das Werkstück 15 angeordnet
ist. Bei dem Werkstück 15 handelt
es sich hier bspw. um eine Glasplatte, deren Oberseite mit amorphem
Silizium beschichtet ist. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht
auf diesen speziellen Anwendungsfall beschränkt und kann daher auch bei anderen
Anlagen eingesetzt werden, bei denen eine ebene Tischoberfläche 14 relativ
zu einer Referenzlinie ausgerichtet werden muss.
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In
typischen Anwendungen liegt die Glasplatte nicht unmittelbar auf
der Tischoberfläche 14 auf,
sondern auf einem dazwischen angeordneten Halter. Ein solcher Halter
ist hier aus Gründen
der Übersichtlichkeit
nicht dargestellt. Es versteht sich daher, dass der Begriff „Tischoberfläche" ggf. den Werkstückhalter
einschließt.
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Der
Tisch
12 ist hier auf einer Grundplatte
16 angeordnet
und besitzt einen Antrieb
18, der ein Verfahren des Tisches
12 in
Richtung der Pfeile
19 (X-Achse) und
20 (Y-Achse) ermöglicht.
Der Tisch
12 besitzt hier drei Beine, deren Höhe individuell
verstellbar ist. aus Gründen
der Übersichtlichkeit
ist hier lediglich ein Bein mit einem entsprechenden Antrieb mit
der Bezugsziffer
22 bezeichnet. Die Höhenverstellbarkeit der Beine
ermöglicht
es, die Tischoberfläche
14 in
Richtung des Pfeils
24 (Z-Achse) zu bewegen. Da die Beine
22 individuell
in der Höhe
einstellbar sind, kann außerdem
die Neigung der Tischoberfläche
14 um
die X- und Y-Achse eingestellt werden. Ein bevorzugtes Verfahren
zum Einstellen der Tischoberfläche
14 ist
in der deutschen Patentanmeldung
DE
10 2006 020 681.9 beschrieben, deren Offenbarungsgehalt
hier durch Bezugnahme vollumfänglich aufgenommen
ist.
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Um
die Höhe
und Neigung der Tischoberfläche 14 zu
ermitteln, ist an jedem Bein 22 ein Messsystem 26 angeordnet,
das die Bestimmung der individuellen Beinlänge ermöglicht.
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Am
vorderen Ende des Tisches 12 befindet sich ein Positionssensor 28.
Der Positionssensor 28 beinhaltet hier eine Kamera 30 und
zwei außen
am Gehäuse
angeordnete Referenzflächen 32 und 34.
In dem dargestellten Ausführungsbeispiel
erstreckt sich das Gehäuse
des Positionssensors 28 in X-Richtung über die gesamte Breite des
Tisches 12. Die Kamera 30 befindet sich etwa mittig
in dem Gehäuse
des Positionssensors 28 und „blickt" nach oben.
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Die
erste Referenzfläche 32 erstreckt
sich rechts und links von der Öffnung
der Kamera 30 in X-Richtung über die gesamte Länge des
Positionssensors 28. Die zweite Referenzfläche 34 verläuft orthogonal
zu der ersten Referenzfläche
in Y-Richtung. Auf der Tischoberfläche 14 sind zwei weitere
Referenzflächen 35, 36 angeordnet.
Die Referenzfläche 35 erstreckt
sich in X-Richtung quer über
die Tischoberfläche 14.
Die Referenzfläche 36 erstreckt
sich in Y-Richtung quer über
die Tischoberfläche 14.
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Über der
Tischoberfläche
14 ist
ein Gestell
38 angeordnet, an dem hier drei weitere Positionssensoren
40a,
40b,
40c mit
einem seitlichen Versatz zueinander in X-Richtung angeordnet sind. Die Positionssensoren
40a bis
40c sind
hier Laser-Entfernungsmesser,
mit deren Hilfe die Entfernung zu einem Punkt an der Tischoberfläche
14 (bzw.
der Glasplatte
15) bestimmt werden kann. In bevorzugten Ausfüh rungsbeispielen
der Anlage
10 dienen die Positionssensoren
40a bis
40c u.a.
dazu, eine Autofokusregelung beim Verfahren der Tischoberfläche
14 in
Richtung
20 durchzuführen.
Eine solche Autofokusregelung ist in der deutschen Patentanmeldung
DE 10 2005 039 094.3 beschrieben,
deren Offenbarungsgehalt hier durch Bezugnahme vollumfänglich aufgenommen
ist.
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Darüber hinaus
dient der Positionssensor 40b in bevorzugten Ausführungsbeispielen
der Erfindung als erster Positionssensor im Sinne der vorliegenden
Erfindung.
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Mit
der Bezugsziffer 42 ist ein Laserstrahl eines leistungsstarken
Lasers (hier nicht näher
dargestellt) bezeichnet. Der Laserstrahl 42 wird mit Hilfe
einer Optik 44 aufgeweitet, wie dies in 1 vereinfacht
dargestellt ist. Der fächerartig
aufgeweitete Laserstrahl 42 trifft senkrecht von oben auf
die Tischoberfläche 14 bzw.
die Glasplatte 15. Die Optik 44 sorgt dafür, dass
sich eine Fokuslinie bildet, die hier mit der Bezugsziffer 46 bezeichnet
ist. Die Fokuslinie 46 bildet eine Referenzlinie quer zu
der Bewegungsrichtung 20 des Tisches 12. Mit Hilfe
des neuen Verfahrens und der neuen Vorrichtung wird die Tischoberfläche 14 relativ
zu der Referenzlinie 46 ausgerichtet, so dass sich die
Oberfläche
der Glasplatte 15 beim Verfahren des Tisches 12 in
Y-Richtung genau in
der Fokuslinie des Laserstrahls 42 befindet. Vorzugsweise
wird die Tischoberfläche 14 so
verfahren, dass die Positionssensoren 40a bis 40c der
Fokuslinie 46 in Bewegungsrichtung 20 des Tisches 12 vorauslaufen,
das heißt
der Tisch 12 wird in der Darstellung gemäß 1 von
rechts nach links verfahren.
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Um
eine Belichtung der Glasplatte 15 mit Hilfe des aufgefächerten
Laserstrahls 42 auch quer zu der Bewegungsrichtung 20 zu
ermöglichen,
ist der Tisch 12 hier um eine Hochachse 50 schwenkbar.
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Mit
der Bezugsziffer 54 ist eine Steuereinheit bezeichnet,
die über
mehrere Leitungen 56, 58 mit den Antrieben 18, 22,
den Positionssensoren 28, 40 und den Messsystemen 26 verbunden
ist. Die Steuereinheit 54 ist dazu ausgebildet, die Bewegungen der
Anlage 10 zu steuern, insbesondere also die Verfahrbewegungen
des Tisches 12. Die Steuereinheit 54 besitzt einen
Prozessor 60 und zumindest zwei Speicher 62, 64.
Der Speicher 62 ist ein Festspeicher, in dem ein Computerprogramm
abgespeichert ist, das die Durchführung des neuen Verfahrens
zum Ausrichten der Tischoberfläche 14 ermöglicht.
Außerdem
dient der Festspeicher 62 dazu, Steilwerte, die für die ausgerichtete
Tischoberfläche 14 repräsentativ
sind, dauerhaft abzuspeichern, um die Tischoberfläche 14 nach
Bedarf in ihre ausgerichtete Position zurückzuversetzen.
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Die 2 bis 5 zeigen
verschiedene Verfahrensschritte beim Ausrichten der Tischoberfläche 14 gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung. Gleiche Bezugszeichen bezeichnen dieselben Elemente
wie zuvor. Des Weiteren ist ein Ausführungsbeispiel des neuen Verfahrens
in dem vereinfachten Flussdiagramm der 6 dargestellt.
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Zunächst wird
der Tisch 12 zum Ausrichten der Tischoberfläche in Richtung
der Y-Achse verfahren.
Dabei werden mit Hilfe des ersten Positionssensors 40b Entfernungsmesswerte
zu der Referenzfläche 36 aufgenommen
(Siehe 2 und 6, Schritt 80).
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Gemäß Schritt 82 wird
mit der Steuereinheit 54 als nächstes ein Kippwinkel des Tisches 12 entlang
der Y-Achse bestimmt. Der Kippwinkel ist in 2 symbolisch
bei der Bezugsziffer 106 dargestellt. In bevorzugten Ausführungsbeispielen
wird der Kippwinkel 106 bestimmt, indem zunächst eine Messgerade
in die Punktewolke der Entfernungsmesswerte entlang der Referenzfläche 36 eingepasst
wird, was bspw. nach der Methode der kleinsten Quadrate erfolgen
kann. Anschließend
wird der Winkel zwischen dieser Messgeraden und der Bewegungsrichtung 20 bestimmt.
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Gemäß den Schritten 84 und 86 wird
der Tisch 12 anschließend
in X-Richtung verfahren und es werden Entfernungsmesswerte zwischen
dem Positionssensor 40b und der Tischoberfläche 14 entlang
der Referenzfläche 35,
also in X-Richtung bestimmt. Dieser Zwischenschritt ist in 3 dargestellt.
Anschließend
wird ein Kippwinkel des Tisches 12 entlang der X-Achse
bestimmt, und zwar vorzugsweise eben falls mit Hilfe einer Geradeneinpassung
in die Punktewolke der Entfernungsmesswerte entlang der Referenzfläche 35.
Der Kippwinkel in X-Richtung ist in 3 bei der
Bezugsziffer 108 symbolisch dargestellt.
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Gemäß Schritt 88 werden
als nächstes
Entfernungsmesswerte zwischen dem ersten Positionssensor 40b und
dem zweiten Positionssensor 28 bestimmt, und zwar entlang
der Referenzfläche 32 (siehe
auch 4). Anschließend
wird gemäß Schritt 90 ein
Kippwinkel des zweiten Positionssensors 28 entlang der
X-Achse bestimmt. Vorzugsweise erfolgt auch dies, indem eine Messgerade
in die Punktewolke der Entfernungsmesswerte entlang der Referenzfläche 32 eingepasst
wird, wobei anschließend
ein Winkel zwischen der Messgeraden und der Bewegungsrichtung 19 bestimmt
wird.
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Als
nächstes
wird der Tisch 12 in Y-Richtung verfahren und es werden
Entfernungsmesswerte zwischen dem ersten Positionssensor 40b und
der Referenzfläche 34 auf
dem zweiten Positionssensor 28 bestimmt (Schritt 92).
Gemäß Schritt 94 wird
als nächstes
ein Kippwinkel des zweiten Positionssensors 28 relativ
zu der Y-Bewegungsrichtung 20 bestimmt.
Gemäß Schritt 96 wird
als nächstes
ein Winkelversatz zwischen der Tischoberfläche 14 und dem zweiten
Positionssensor 28 in X- und Y-Richtung bestimmt, indem
die zuvor bestimmten Kippwinkel 106, 108, 110 zueinander
in Beziehung gesetzt werden.
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Anschließend wird
der Tisch 12 mit dem zweiten Positionssensor 28 unter
die Referenzlinie 46 verfahren, und es wird der Verlauf
der Referenzlinie 46 mit Hilfe der Kamera 30 und
der Höhenverstellung 24 des
Tisches 12 bestimmt (siehe 5). Hierzu
wird der Tisch 12 an verschiedenen X-Positionen unter die
Referenzlinie 46 verfahren. Anschließend wird der Tisch 12 in
Richtung des Pfeils 24 (Z-Richtung) so weit angehoben oder
abgesenkt, bis die Referenzlinie 46 exakt detektiert ist.
Die entsprechende X-/Y-/Z-Position wird gespeichert. Durch eine
Geradeneinpassung in die Punktewolke der erhaltenen Messwerte lässt sich
der Verlauf der Referenzlinie 46 bestimmen.
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Anschließend wird
der Tisch 12 gemäß Schritt 100 ausgerichtet,
so dass die Tischoberfläche 14 parallel
zu der Referenzlinie 46 liegt. Die erforderlichen Stellwerte
für die
Antriebe 22 werden im Festspeicher 62 gespeichert.
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Gemäß Schritt 102 wird
der Tisch 12 anschließend
um 90° um
die Hochachse 50 verschwenkt. Nun werden die Schritte 80 bis 100 wiederholt,
um die Ausrichtung der Tischoberfläche 14 auch für die neue
Schwenkposition zu erhalten (Schleife 104).
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Zur
Ausrichtung der Tischoberfläche 14 werden
die erforderlichen Stellwerte rechnerisch bestimmt, indem die Lage
der Tischoberfläche 14 unter Berücksichtigung
der zuvor bestimmten Kippwinkel an den Verlauf der Referenzlinie 46 angepasst
wird.
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In
weiteren Ausführungsbeispielen
der Erfindung kann die Tischoberfläche 14 zeitgleich
mit mehreren Positionssensoren 40a bis 40c vermessen
werden, um eine höhere
Dichte der Messwerte zu erhalten (hier nicht dargestellt).