DE102006041469B3 - Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing - Google Patents

Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing Download PDF

Info

Publication number
DE102006041469B3
DE102006041469B3 DE102006041469A DE102006041469A DE102006041469B3 DE 102006041469 B3 DE102006041469 B3 DE 102006041469B3 DE 102006041469 A DE102006041469 A DE 102006041469A DE 102006041469 A DE102006041469 A DE 102006041469A DE 102006041469 B3 DE102006041469 B3 DE 102006041469B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
coating
sio
silicon dioxide
coating solution
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE102006041469A
Other languages
German (de)
Inventor
Denise Trapp
Stephan Dr. Tratzky
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schott AG
Original Assignee
Schott AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott AG filed Critical Schott AG
Priority to DE102006041469A priority Critical patent/DE102006041469B3/en
Priority to IT000611A priority patent/ITTO20070611A1/en
Priority to MX2007010583A priority patent/MX2007010583A/en
Priority to IL185628A priority patent/IL185628A0/en
Priority to US11/847,433 priority patent/US7842339B2/en
Priority to ES200702355A priority patent/ES2322010B1/en
Priority to CNA2007101701282A priority patent/CN101182130A/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102006041469B3 publication Critical patent/DE102006041469B3/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/003General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/213SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/425Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/107Porous materials, e.g. for reducing the refractive index
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/109Sols, gels, sol-gel materials

Abstract

Procedure for coating a liable- and washable anti-reflection layer containing porous silicon dioxide, on a boro-silicate glass body, comprises wetting the body containing silicon dioxide (70-75 wt.%), boron trioxide (8-11 wt.%), aluminum trioxide (5-9 wt.%), alkaline oxide (7-12 wt.%) and alkaline earth oxide (0-10 wt.%), coating with a solution containing hydrochloric acid (1-6 wt.%), silicon dioxide-sol (solid material content) (0.5-7 wt.%), water (0.5-5 wt.%) and easily volatile and water-soluble organic solvent (85-98 wt.%), and drying and annealing the coating. An independent claim is included for a coating solution for the production of anti-reflection layers on boro-silicate glass.

Description

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Erzeugung einer haft- und wischfesten, poröses SiO2 enthaltenden Antireflexionsschicht auf einem Borosilikatglaskörper sowie dafür geeignete Beschichtungslösung.The invention relates to a process for producing an adhesive and smudge-resistant, porous SiO 2 -containing antireflection coating on a borosilicate glass body and coating solution suitable therefor.

DE 100 51 724 A1 beschreibt ein thermisch vorgespanntes, mit einer porösen SiO2-Antireflex-Schicht versehenes Kalk-Natron-Glas, bei dem das Glas mit einer Lösung aus einem wässrigen SiO2-Sol und einem Tensidgemisch beschichtet wird, das beschichtete Glas getrocknet, auf Temperaturen von mindestens 600°C erwärmt und durch Anblasen mit Luft abgeschreckt wird. DE 100 51 725 A1 beschreibt eine ähnliche Beschichtungslösung für denselben Zweck, wobei das Tensidgemisch aus 10-30 Gew.-% anionischen Tensiden, 5-15 Gew.-% nicht-ionischen Tensiden und weniger als 5 Gew.-% amphoteren Tensiden besteht. DE 100 51 724 A1 describes a thermally toughened soda-lime glass provided with a porous SiO 2 antireflective layer, in which the glass is coated with a solution of an aqueous SiO 2 sol and a surfactant mixture, the coated glass dried to temperatures of at least Heated to 600 ° C and quenched by blowing with air. DE 100 51 725 A1 describes a similar coating solution for the same purpose wherein the surfactant mixture consists of 10-30% by weight of anionic surfactants, 5-15% by weight of nonionic surfactants and less than 5% by weight of amphoteric surfactants.

Aus DE 101 46 687 C1 ist ein Glas mit einer porösen SiO2-Antireflexschicht bekannt, bei dem die Oberflächenbeschichtung eine erste Partikelfraktion mit einer Partikelgröße von 3 bis 13 nm und eine zweite Partikelfraktion mit einer Partikelgröße von 20 bis 50 nm aufweist. Das Glas kann wie bei DE 100 51 724 A1 auf mindestens 600°C aufgeheizt und durch Anblasen mit kalter Luft vorgespannt werden.Out DE 101 46 687 C1 For example, a glass with a porous SiO 2 antireflective layer is known in which the surface coating has a first particle fraction with a particle size of 3 to 13 nm and a second particle fraction with a particle size of 20 to 50 nm. The glass can be like at DE 100 51 724 A1 heated to at least 600 ° C and biased by blowing cold air.

DE 100 52 075 A1 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung poröser Schichten und deren Verwendung in der Mikroelektronik, bei dem eine Suspension aus Silicalit-1 (Zeolith) mit einem SiO2-Sol als Binder mittels Spin-Coating auf ein Substrat aufgebracht und bei ca. 420°C eingebrannt wird. DE 100 52 075 A1 describes a method for producing porous layers and their use in microelectronics, in which a suspension of silicalite-1 (zeolite) with a SiO 2 sol as binder is spin-coated on a substrate and baked at about 420 ° C. ,

Gemäß EP 1 167 313 A1 wird ein entspiegelter Glasartikel, z.B. eine Automobil-Windschutzscheibe, Schaufensterglas und dergl. erzeugt, indem man SiO2-Partikel mit einer Größe von 40-1000 nm in Gegenwart von SiO2-Gel auf der Scheibe einbrennt. Das SiO2-Gel dient als Binder und bedeckt vorzugsweise die Oberfläche der SiO2-Partikel vollständig.According to EP 1 167 313 A1 For example, an antireflective glass article such as an automobile windshield, window glass, and the like is produced by baking SiO 2 particles having a size of 40-1000 nm in the presence of SiO 2 gel on the disc. The SiO 2 gel serves as a binder and preferably completely covers the surface of the SiO 2 particles.

Alle vorgenannten Schriften befassen sich mit der Erzeugung von Schichten auf Kalk-Natron-Glas.All The above publications are concerned with the generation of layers on soda-lime glass.

Es ist bekannt, dass poröse SiO2-Schichten auf Borosilikatglaskörpern schlecht haften. Das betrifft insbesondere Schichten, die unter Verwendung eines SiO2-Sols hergestellt worden sind.It is known that porous SiO 2 layers adhere poorly to borosilicate glass bodies. This applies in particular to layers which have been produced using a SiO 2 sol.

Zur Verbesserung der Haftung wurde bereits vorgeschlagen, dem Sol Tetraethylorthosilikat zuzusetzen, dessen Zersetzungsprodukte die SiO2-Partikel untereinander und mit der Unterlage verkleben ( US 2,601,123 ). Diese Lösungen sind jedoch kompliziert herzustellen und verhältnismäßig teuer.To improve the adhesion, it has already been proposed to add tetraethyl orthosilicate to the sol, the decomposition products of which adhere the SiO 2 particles to one another and to the substrate ( US 2,601,123 ). However, these solutions are complicated to manufacture and relatively expensive.

Aus EP 0 897 898 B1 ist ein Verfahren unter Verwendung einer rein wässrigen Beschichtungslösung bekannt, die SiO2-Sole sowie Tenside enthält. Bei diesem Verfahren ist eine Vorbehandlung des zu beschichtenden Substrats mit Aceton, Ethanol und Wasser, einer stark alkalischen Reinigungslösung (1nNaOH) oder handelsüblichen Reinigungsbädern zwingend erforderlich, wobei gegebenenfalls die Reinigungswirkung durch die Anwendung von Ultraschall verstärkt werden muss. Insbesondere die Reinigungsschritte (vergl. Beispiel 1) gestalten dieses Verfahren aufwendig.Out EP 0 897 898 B1 For example, a method using a purely aqueous coating solution containing SiO 2 sols and surfactants is known. In this method, a pretreatment of the substrate to be coated with acetone, ethanol and water, a strong alkaline cleaning solution (1nNaOH) or commercially available cleaning baths is mandatory, where appropriate, the cleaning effect must be enhanced by the application of ultrasound. In particular, the purification steps (see Example 1) make this process consuming.

Aus EP 1 342 702 A1 bzw. US 6,998,177 B2 ist ein verfahrenstechnisch günstiges Verfahren bekannt, bei dem eine alkoholhaltige, Salpe tersäure-stabilisierte Suspension eines SiO2-Sols zur Anwendung kommt. Die bekannt schlechte Haft- und Wischfestigkeit der gebildeten SiO2-Partikelschicht wird dadurch vermieden, dass der Beschichtungsflüssigkeit H3PO4 zugesetzt wird. Die Haft- und Wischfestigkeit der so erzeugten Antireflexionsschicht ist zwar sehr gut, jedoch hat sich gezeigt, dass derartige Schichten im Verlauf weniger Wochen altern, was sich dadurch bemerkbar macht, dass die ursprünglich tief blauen Antireflexionsschichten verblassen und sich eintrüben, so dass der erwünschte hohe Transmissionsgrad für einfallendes Licht sowie die Wischfestigkeit zurückgehen. Diese Verblassung kann durch Abwaschen mit Wasser rückgängig gemacht werden. Sie kann vermieden werden, wenn die mit den Antireflexionsschichten versehenen Glaskörper nach ihrer Herstellung noch in der Fabrik mit Wasser gewaschen werden, womit das Alterungsproblem in der Praxis beseitigt ist. Allerdings bedeutet dieser Waschschritt einen unerwünschten zusätzlichen Aufwand.Out EP 1 342 702 A1 respectively. US 6,998,177 B2 is a procedurally favorable method is known in which an alcoholic, salper tersäure-stabilized suspension of a SiO 2 sol is used. The known poor adhesion and wipe resistance of the formed SiO 2 particle layer is avoided by adding H 3 PO 4 to the coating liquid. Although the adhesion and wipe resistance of the antireflection coating thus produced is very good, it has been found that such layers age in the course of a few weeks, which is manifested by the fact that the originally deep blue antireflection layers fade and cloud, so that the desired high Transmittance for incident light and wipe resistance go back. This fading can be reversed by washing with water. It can be avoided if the glass bodies provided with the antireflection coatings are still washed with water in the factory after their production, thus eliminating the problem of aging in practice. However, this washing step means an undesirable additional effort.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Beschichtungsverfahren und eine Beschichtungslösung zu finden, die ähnlich einfach zu handhaben ist wie die oben beschriebene phosphorhaltige Beschichtungslösung, wobei die daraus gebildete Schicht aber keine Alterungsprobleme hat und nicht nach ihrer Herstellung gewaschen werden muss.The The object of the invention is a coating method and a coating solution find that similar easy to handle is like the phosphorus-containing one described above Coating solution but the layer formed therefrom does not cause aging problems and does not have to be washed after their preparation.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst durch ein Verfahren, bei dem der mit einer Antireflexionsschicht zu versehende Körper, der in Gew.-% auf Oxidbasis 70-75 SiO2, 8-11 B2O3, 5-9 Al2O3, 7-12 Alkalioxide, 0-10 Erdalkalioxide enthält, mit einer Lösung benetzt wird, die bezogen auf das Gesamtgewicht der Lösung enthält: 1,0 bis 6 Gew.-% HCl 0,5 bis 7 Gew.-% SiO2-Sol (Feststoffanteil) 0,5 bis 5 Gew.-% Wasser 85 bis 98 Gew.-% leichtflüchtiges, wasserlösli ches organisches Lösungsmittel According to the invention, this object is achieved by a method in which the body to be provided with an antireflection layer, in wt .-% based on oxide 70-75 SiO 2 , 8-11 B 2 O 3 , 5-9 Al 2 O 3 , 7 12 alkali oxides, 0-10 alkaline earth oxides, is wetted with a solution containing, based on the total weight of the solution: 1.0 to 6 Wt .-% HCl 0.5 to 7 Wt.% SiO 2 sol (solid content) 0.5 to 5 Wt .-% water 85 to 98 % By weight volatile, water-soluble organic solvent

Der HCl-Anteil dient als Säure in an sich bekannter Weise der Stabilisierung des SiO2-Sols. Das SiO2-Sol (Kieselsol) kann nach bekannten Methoden, z. B. durch Behandeln einer wässrigen Alkalisilikat-Lösung mit Ionenaustauschern, hergestellt werden. Kieselsol ist eine wässrige Lösung von kolloidalem, amorphem SiO2. Die im Handel erhältlichen Kieselsole enthalten üblicherweise 30 bis 60 Gew.-% SiO2. Der durchschnittliche Partikeldurchmesser beträgt 5 bis 150 nm.The HCl fraction serves as the acid in a manner known per se for stabilizing the SiO 2 sol. The SiO 2 sol (silica sol) can be prepared by known methods, for. Example, by treating an aqueous alkali metal silicate solution with ion exchangers, are prepared. Silica sol is an aqueous solution of colloidal, amorphous SiO 2 . The commercially available silica sols usually contain from 30 to 60% by weight of SiO 2 . The average particle diameter is 5 to 150 nm.

Der SiO2-Anteil in der Beschichtungslösung beträgt bevorzugt 0,5 bis 2,5 Gew.-%. Die Teilchengröße des SiO2 in der Beschichtungslösung soll 5 bis 50 nm, bevorzugt 8 bis 20 nm betragen.The SiO 2 content in the coating solution is preferably 0.5 to 2.5% by weight. The particle size of the SiO 2 in the coating solution should be 5 to 50 nm, preferably 8 to 20 nm.

Der Wasseranteil in der Beschichtungslösung beträgt 0,5 bis 5 Gew.-%, er stammt in der Regel aus dem Kieselsol, der Säure und den nicht immer wasserfreien Lösemitteln.Of the Water content in the coating solution is 0.5 to 5 wt .-%, it comes from usually from the silica sol, the acid and not always anhydrous Solvents.

Der Rest der Beschichtungslösung besteht aus einem leichtflüchtigen, wasserlöslichen organischen Lösungsmittel. Unter leichtflüchtig wird verstanden, dass das Lösungsmittel einen Siedepunkt von 75 bis 140°C, insbesondere von 75 bis 85°C besitzt. Als wasserlösliche Lösungsmittel sind insbesondere polare Lösungsmittel geeignet. Besonders geeignet sind einwertige niedere Alkohole mit 1 bis 5 C-Atomen, z. B. Methanol, Ethanol, Propanole, Butanole und Pentanole. Weiterhin sind wasserlösliche Ketone mit 3 bis 5 C-Atomen geeignet, insbesondere Aceton, Methylethylketon, Diethylketon. Bevorzugt werden Methanol, Ethanol, Propanole, Butanole, Dimethylketon oder Mischungen davon.Of the Remainder of the coating solution consists of a volatile, water-soluble organic solvents. Under volatile it is understood that the solvent a boiling point of 75 to 140 ° C, in particular from 75 to 85 ° C has. As water-soluble solvent are especially polar solvents suitable. Particularly suitable are monohydric lower alcohols with 1 to 5 carbon atoms, z. As methanol, ethanol, propanols, butanols and Pentanols. Furthermore, water-soluble ketones having 3 to 5 carbon atoms are suitable, in particular acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone. To be favoured Methanol, ethanol, propanols, butanols, dimethyl ketone or mixtures from that.

Die Herstellung der Lösung erfolgt in der Regel so, dass das Lösungsmittel in ganzer Menge oder zu einem Teil vorgelegt wird, dann wird unter Rühren die Säure und danach unter Rühren das Silica-Sol zugegeben sowie gegebenenfalls die Restmenge an Lösungsmittel zugefügt.The Preparation of the solution usually takes place in such a way that the solvent in whole quantity or is submitted to a part, then with stirring the Acid and then stir the silica sol is added and optionally the residual amount of solvent added.

Das Benetzen der Glaskörper mit der Beschichtungslösung kann auf beliebige Art und Weise erfolgen, z. B. durch Aufwalzen mit porösen Walzen (Schwammwalzen), durch Pinseln, Bürsten, Fluten usw., bevorzugt durch Aufsprühen und besonders bevorzugt durch Tauchen. Bei dem Tauchen werden die zu beschichtenden Glaskörper in die Lösung getaucht (mit beliebiger Geschwindigkeit, sofern nur dabei die Radflüssigkeit nicht spritzt und keine Gasblasen an dem eintauchenden Glaskörper hängen bleiben) und mit konstanter Geschwindigkeit wieder herausgezogen. Geeignete Geschwindigkeiten liegen zwischen 1 mm·s-1 bis zu etwa 100 mm·s-1. Es wird angestrebt, mit einer möglichst hohen Ziehgeschwindigkeit zu arbeiten, um hohe Produktivitätsraten zu erreichen. Die Ziehgeschwindigkeit hängt von der Verdampfungsrate der Lösung sowie der Viskosität der Lösung, den apparativen Gegebenheiten, der Temperatur der Lösung und der Atmosphäre im Ziehbereich ab und kann von jedem Fachmann leicht im Hinblick auf die örtlichen Gegebenheiten optimiert werden. In der Praxis haben sich Ziehgeschwindigkeiten von 1 bis 20 mm·s-1 bewährt.The wetting of the glass body with the coating solution can be done in any way, for. B. by rolling with porous rollers (sponge rollers), by brushing, brushing, flooding, etc., preferably by spraying and more preferably by dipping. During the immersion, the glass bodies to be coated are dipped into the solution (at any speed, provided that only the wheel fluid does not splash and no gas bubbles get caught on the dipping glass body) and pulled out again at a constant speed. Suitable speeds are between 1 mm.s -1 to about 100 mm.s -1 . The aim is to work with the highest possible pulling speed in order to achieve high productivity rates. The rate of drawing depends on the rate of evaporation of the solution and the viscosity of the solution, the conditions of the apparatus, the temperature of the solution and the atmosphere in the drawing area and can be easily optimized by any person skilled in the art with regard to the local conditions. In practice, drawing rates of 1 to 20 mm · s -1 have proven successful.

Nach der Benetzung des Glaskörpers mit der Lösung wird die gebildete Schicht in an sich bekannter Weise getrocknet und eingebrannt. Das Trocknen kann auch in einem Schritt mit dem Einbrennvorgang erfolgen, wenn sichergestellt ist, dass bei der Verdampfung der Lösung keine Gasblasenbildung erfolgt. Das Einbrennen erfolgt in üblicher, dem Fachmann an sich bekannter Weise bei Temperaturen von etwa 450°C (d.h. unterhalb Tg) bis zu 35°C oberhalb der Transformationstemperatur Tg des Glases, insbesondere bei Temperaturen von 575 bis 590°C. Einbrenntemperaturen oberhalb Tg des Glases wurden bisher jedoch noch nicht angewandt.After wetting the glass body with the solution, the layer formed is dried and baked in a conventional manner. The drying can also take place in one step with the baking process, if it is ensured that no gas bubble formation occurs during the evaporation of the solution. The baking is carried out in a conventional manner known to those skilled in the art at temperatures of about 450 ° C (ie below T g ) up to 35 ° C above the transformation temperature T g of the glass, in particular at temperatures of 575 to 590 ° C. However, baking temperatures above T g of the glass have not yet been used.

Die für das Einbrennen benötigte Zeit richtet sich nach den apparativen Gegebenheiten und kann von einem Fachmann leicht bestimmt werden. Üblicherweise kommen Einbrennzeiten von etwa 0,5-1 Stunde zur Anwendung.The for the Branding needed Time depends on the equipment and can of a Professional easily diagnosed. Usually come burn-in times from about 0.5-1 hour to application.

Die erzeugte Schicht besteht zu mindestens 95 Gew.-%, bevorzugt mindestens 99 Gew.-% aus SiO2. Ganz besonders wird bevorzugt, wenn die Schicht vollständig aus SiO2 besteht.The produced layer consists of at least 95 wt .-%, preferably at least 99 wt .-% of SiO 2 . It is particularly preferred if the layer consists entirely of SiO 2 .

Die Schicht besitzt eine Porosität von etwa 10 bis 60% des Schichtvolumens. In diesem Bereich wird eine gute Entspiegelung, d.h. ein guter Durchtritt von Licht durch den entspiegelten Glaskörper erreicht.The Layer has a porosity from about 10 to 60% of the layer volume. In this area will be a good antireflection, i. a good passage of light through the anti-reflective glass body reached.

Die mit dem Verfahren erzeugte Schichtdicke liegt für eine gute Entspiegelungswirkung zwischen 50 nm und 500 nm. Wird diese Schichtdicke nicht erreicht, ist gegebenenfalls vorzugsweise vor dem Einbrennen ein weiterer Beschichtungsvorgang erforderlich, wobei vor dem erneuten Beschichtungsvorgang die vorherige Beschichtung jeweils so weit getrocknet werden muss, dass sie nicht in dem zweiten Beschichtungsvorgang aufgelöst wird. Bevorzugt wird eine Schichtdicke zwischen 80 und 160 nm.The layer thickness produced by the method is for a good anti-reflection effect between 50 nm and 500 nm. If this layer thickness is not reached, If appropriate, it is preferably another before baking Coating process required, taking before the re-coating process each time the previous coating has to be dried that it does not dissolve in the second coating process. A layer thickness between 80 and 160 nm is preferred.

Der Porendurchmesser in der erzeugten Schicht soll bevorzugt 2 bis 50 nm betragen, da bei dieser Porengröße eine besonders gute antireflexive Wirkung erreicht wird.Of the Pore diameter in the layer produced should preferably 2 to 50 nm, since this pore size is a particularly good antireflexive Effect is achieved.

Das Verfahren erlaubt insbesondere die Herstellung von Antireflexionsschichten auf Borosilikatglas. Das Borosilikatglas enthält folgende Bestandteile (in Gew.-% auf Oxidbasis): SiO2 70-75 B2O3 8-11 Na2O + K2O 7-12 Al2O3 5-9 Erdalkalioxide 0-10 The method allows, in particular, the production of antireflection coatings on borosilicate glass. The borosilicate glass contains the following constituents (in% by weight based on oxide): SiO 2 70-75 B 2 O 3 8-11 Na 2 O + K 2 O 7-12 Al 2 O 3 5-9 alkaline earth oxides 0-10

Auf Borosilikatglas mit einer abweichenden Glaszusammensetzung nimmt die Haft- und Wischfestigkeit der Beschichtung deutlich ab.On Borosilicate glass with a different glass composition increases the adhesive and wipe resistance of the coating significantly.

Besonders geeignet sind Gläser der Zusammensetzung 70-75 SiO2, 8-11 B2O3, 6-8 Al2O3, 6-8 Na2O, 1-4 K2O, 7-12 Σ Alkalioxide, 0-2 CaO.Especially suitable are glasses of the composition 70-75 SiO 2 , 8-11 B 2 O 3 , 6-8 Al 2 O 3 , 6-8 Na 2 O, 1-4 K 2 O, 7-12 Σ alkali oxides, 0- 2 CaO.

Ein besonderer Reinigungsschritt vor dem Benetzen, z. B. durch Sprühbeschichten oder Tauchen der Glaskörper in die Beschichtungslösung ist normalerweise nicht erforderlich. Lediglich wenn die Glaskörper während des Transports oder der Lagerung verschmutzt worden sind, müssen die Verschmutzungen durch einen Waschprozess wieder entfernt werden.One special cleaning step before wetting, z. B. by spray coating or dipping the vitreous body in the coating solution is not usually required. Only if the glass body during the Transport or storage must be contaminated Pollutions are removed by a washing process again.

Die Beschichtung ist besonders geeignet zur Beschichtung von Borosilikatglaskörpern der oben genannten Zusammensetzungen als Glasrohr, Glasstab oder Glasscheibe, zur Herstellung einer Vorrichtung in der Solarthermie, besonders bei der Brauchwassererwärmung, Prozesswärmeerzeugung und insbesondere in der Parabolrinnenkraftwerkstechnik.The Coating is particularly suitable for coating borosilicate glass bodies of above-mentioned compositions as a glass tube, glass rod or glass plate, for producing a device in solar thermal, especially during domestic water heating, Process heat and especially in parabolic trough power plant technology.

Mit der Erfindung lassen sich Antireflexionsschichten auf Borosilikatglas erzeugen, die auch ohne Nachbehanldung alterungsfest sind und über eine hervorragende Wischbeständigkeit verfügen.With According to the invention, antireflection coatings can be applied to borosilicate glass which are resistant to aging without further notice and over one excellent wiping resistance feature.

BeispieleExamples

1. Herstellung der Beschichtungslösungen1. Preparation of the coating solutions

  • A) Stand der Technik (phosphathaltig) Analog der US 6,998,177 B2 , in Beispiel 1 wurde eine Beschichtungslösung wie folgt erzeugt: 235,8 g Isopropanol wurden mit 206,0 g 1 N-HNO3 gemischt und 10 Minuten lang gerührt. Dann wurden 44,5 g 85%ige H3PO4 zugegeben und erneut 5 Minuten lang gerührt. Danach wurden 271,2 g Kieselsol (Köstrosol 0830A, 30% SiO2, Hersteller Chemiewerke Bad Köstriz) zugesetzt und weitere 5 Minuten gerührt. Diese Mischung wurde mit 3301 g Isopropanol verdünnt und dann einen Tag stehen gelassen. Danach war die Lösung gebrauchsfertig.A) Prior art (phosphate-containing) Analogous to US 6,998,177 B2 In Example 1, a coating solution was prepared as follows: 235.8 g of isopropanol was mixed with 206.0 g of 1 N-HNO 3 and stirred for 10 minutes. Then, 44.5 g of 85% H 3 PO 4 was added and stirred again for 5 minutes. Thereafter, 271.2 g of silica sol (Köstrosol 0830A, 30% SiO 2 , manufacturer Chemiewerke Bad Köstriz) was added and stirred for a further 5 minutes. This mixture was diluted with 3301 g of isopropanol and then allowed to stand for one day. After that, the solution was ready to use.
  • B) Stand der Technik (phosphatfrei) Analog der US 6,998,177 B2 , in Beispiel 2 wurde eine phosphatfreie Beschichtungslösung wie folgt erzeugt: Nach der Vorschrift A) wurde eine entsprechende Lösung erzeugt mit folgenden Änderungen: Es wurde keine Phosphorsäure zugesetzt, es wurden 268,8 g Kieselsol verwendet.B) State of the art (phosphate-free) Analogous to US 6,998,177 B2 In Example 2, a phosphate-free coating solution was produced as follows: According to procedure A), a corresponding solution was produced with the following changes: no phosphoric acid was added, 268.8 g of silica sol were used.
  • C) Erfindungsgemäß Eine erfindungsgemäße Beschichtungslösung wurde wie folgt erzeugt: 235,8 g Isopropanol wurden mit 216 g 5 N-HCl versetzt, die Lösung wurde 1 Minute lang gerührt, danach wurden 268,8 g Kieselsol (Köstrosol 0830A) zugesetzt, es wurde wieder 1 Minute lang gerührt, die Mischung wurde mit 3301 g Isopropanol versetzt und 5 Minuten lang gerührt. Danach war die Lösung gebrauchsfertig.C) According to the Invention A coating solution according to the invention was produced as follows: 2165 g of 5N-HCl were added to 235.8 g of isopropanol, the solution was stirred for 1 minute, then were added 268.8 g of silica sol (Köstrosol 0830A), it was again stirred for 1 minute, the mixture was treated with 3301 g of isopropanol and stirred for 5 minutes. After that, the solution was ready to use.

2. Beschichtungsverfahren2. Coating process

Glasrohre der Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) 73 SiO2, 9,5 B2O3, 7 Al2O3, 7 Na2O, 3 K2O und 0,5 CaO (Glas Nr. 1) mit einem Außendurchmesser von 125 mm und einer Wanddicke von 3 mm sowie einer Länge von 500 mm wurden entlang ihrer Längsachse 250 mm tief in die Beschichtungslösung eingetaucht. Die Eintauchgeschwindigkeit betrug 10 mm·s-1. Nach einer Verweilzeit von ca. 10 sec wurde das Glasrohr mit einer Geschwindigkeit von 3,8 mm·s-1 aus der Beschichtungslösung herausgezogen. Durch den Ziehprozess bildete sich ein Nassfilm auf dem Glas. Das beschichtete Glas wurde entweder in einer beheizten Kammer bei einer Temperatur von 575°C, d.h. 10°C oberhalb Tg des Glases, 1 Stunde lang behandelt oder bei 500°C, d.h. 65°C unterhalb Tg des Glases, 1 Stunde lang behandelt.Glass tubes of the composition (in% by weight based on oxide) 73 SiO 2 , 9.5 B 2 O 3 , 7 Al 2 O 3 , 7 Na 2 O, 3 K 2 O and 0.5 CaO (glass no. 1) with an outer diameter of 125 mm and a wall thickness of 3 mm and a length of 500 mm were immersed along their longitudinal axis 250 mm deep in the coating solution. The immersion speed was 10 mm · s -1 . After a residence time of about 10 seconds, the glass tube was pulled out of the coating solution at a speed of 3.8 mm.s -1 . The drawing process formed a wet film on the glass. The coated glass was either in a heated chamber at a temperature of 575 ° C, ie 10 ° C above T g of the glass, treated for 1 hour or at 500 ° C, ie 65 ° C below T g of the glass, for 1 hour treated.

Zum Vergleich wurde ein Glasrohr aus einem Borosilikatglas der Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) von 81 SiO2, 13 B2O3, 2 Al2O3, 3,5 Na2O und 0,5 K2O beschichtet (Glas Nr. 2). Das Glasrohr hatte einen Außendurchmesser von 100 mm und eine Wanddicke von 2,5 mm For comparison, a glass tube of a borosilicate glass of the composition (in% by weight based on oxide) of 81 SiO 2 , 13 B 2 O 3 , 2 Al 2 O 3 , 3.5 Na 2 O and 0.5 K 2 O was coated (Glass No. 2). The glass tube had an outer diameter of 100 mm and a wall thickness of 2.5 mm

3. Alterungsbeständigkeit3. aging resistance

Die beschichteten Rohre wurden bis zu 9 Monate an freier Luft gelagert. Es wurde geprüft, ob visuell Trübungen oder eine Verblassung der Farbe der Antireflexionsschicht auftraten.The coated tubes were stored in open air for up to 9 months. It was checked whether visually clouding or fading of the color of the antireflection layer occurred.

4. Wischtest4. Wipe test

Da der Wischtest nach DIN 58196 5 nur für plane Glasproben geeignet ist, wurde er zur Prüfung der beschichteten Rohre entsprechend abgewandelt.There the wipe test according to DIN 58196 5 only suitable for flat glass samples is, he was for examination The coated tubes modified accordingly.

Als Wischkörper dient ein genormter Radiergummi mit der Spezifikation MILE-12397. Das Glasrohr wurde eingespannt und der Radiergummi wurde mit einer Auflagefläche von 1 kg mittels eines beweglichen Schlittens längs der Rohrachse mit einer Geschwindigkeit von 10 mm·s-1 über die Beschichtung hin und her bewegt. Die Anzahl der Wischhübe bis zur kompletten Schichtentfernung ist ein Maß für die Wischfestigkeit der Schicht. Der Wischtest wurde sofort nach dem Einbrennen der Beschichtung („anfangs") vorgenommen und nach einiger Zeit wiederholt.The wiper body is a standardized eraser with the specification MILE-12397. The glass tube was clamped and the eraser was reciprocated over the coating with a 1 kg contact surface by means of a movable carriage along the tube axis at a speed of 10 mm.s -1 . The number of swipe strokes up to complete layer removal is a measure of the smudge resistance of the layer. The wipe test was performed immediately after baking the coating ("at the beginning") and repeated after some time.

5. Ergebnisse5. Results

Die Ergebnisse sind in der Tabelle 1 zusammengefasst. Tabelle 1 Glas Nr. Einbrenntemperatur [°C] Alterungsbeständigkeit Wischtest [Hübe] Beispiel 1 mit Phosphat (Lösung A) (Stand der Technik) 1 500 stark verblasst nach 3 Wochen (fast farblos) anfangs > 50 nach 3 Monaten Alterung > 50 1 575 stark verblasst nach 3 Wochen, stärker als bei Einbrenntemp. 500°C anfangs > 50 nach 3 Monaten Alterung > 50 Beispiel 2 phosphatfrei (Lösung B) (Stand der Technik) 1 500 stark verblasst nach 3 Wochen, punktartige Eintrübung nach 3 Wochen, stark eingetrübt nach 3 Monaten anfangs 36 nach 3 Wochen Alterung 2 1 575 stark verblasst nach 3 Wochen, stark eingetrübt nach 3 Wochen anfangs 36 nach 3 Wochen Alterung 2 Beispiel 3 Lösung C erfindungsgemäß 1 500 keinerlei Verblassung oder Eintrübung anfangs > 50 nach 9 Monaten Alterung > 50 1 575 keinerlei Verblassung oder Eintrübung anfangs > 50 nach 9 Monaten Alterung > 50 Beispiel 4 Lösung A 2 500 keine Verblassung, jedoch kristallartige Ausblühungen, auch nach Abwaschen wiederkehrend anfangs 50 nach 10 Tagen Alterung 10 Beispiel 5 Lösung C 2 wie Beispiel 4 anfangs 50 nach 10 Tagen 15 The results are summarized in Table 1. Table 1 Glass no. Stoving temperature [° C] aging resistance Wipe test [strokes] Example 1 with phosphate (solution A) (prior art) 1 500 strongly faded after 3 weeks (almost colorless) initially> 50 after 3 months aging> 50 1 575 strongly faded after 3 weeks, stronger than at burning temp. 500 ° C initially> 50 after 3 months aging> 50 Example 2 Phosphate-free (solution B) (prior art) 1 500 severely faded after 3 weeks, dot-like cloudiness after 3 weeks, very cloudy after 3 months initially 36 after 3 weeks aging 2 1 575 strongly faded after 3 weeks, very cloudy after 3 weeks initially 36 after 3 weeks aging 2 Example 3 Solution C according to the invention 1 500 no fading or clouding initially> 50 after 9 months aging> 50 1 575 no fading or clouding initially> 50 after 9 months aging> 50 Example 4 Solution A 2 500 no fading, but crystal-like efflorescence, recurring even after washing initially 50 after 10 days aging 10 Example 5 Solution C 2 as example 4 initially 50 after 10 days 15

Aus diesen Beispielen wird die Überlegenheit des erfindungsgemäßen Verfahrens deutlich.Out these examples become superiority the method according to the invention clear.

Claims (7)

Verfahren zur Erzeugung einer haft- und wischfesten, poröses SiO2 enthaltenden Antireflexionsschicht auf einem Borosilikatglaskörper gekennzeichnet durch folgende Schritte – Benetzen des zu beschichtenden Körpers, der (in Gew.-% auf Oxidbasis) enthält 70-75 SiO2 8-11 B2O3 5-9 Al2O3 7-12 Alkalioxid 0-10 Erdalkalioxide
mit einer Beschichtungslösung – die enthält 1,0 bis 6,0 Gew.-% HCl 0,5 bis 7,0 Gew.-% SiO2-Sol (Feststoffanteil) 0,5 bis 5 Gew.-% Wasser 85 bis 98 Gew.-% leichtflüchtiges, wasserlösliches organisches Lösungsmittel, und
– Trocknen und Einbrennen der Beschichtung.
A method for producing an adhesion and smear-resistant, porous SiO 2 -containing antireflection layer on a borosilicate glass body characterized by the following steps - wetting the body to be coated, which contains (in wt .-% based on oxide) 70-75 SiO 2 8-11 B 2 O 3 5-9 Al 2 O 3 7-12 alkali 0-10 alkaline earth oxides
with a coating solution - which contains 1.0 to 6.0 Wt .-% HCl 0.5 to 7.0 Wt.% SiO 2 sol (solid content) 0.5 to 5 Wt .-% water 85 to 98 % By weight volatile, water-soluble organic solvent, and
- Drying and baking of the coating.
Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Verwendung einer Beschichtungslösung aus 1,0 bis 6,0 Gew.-% HCl 0,5 bis 7,0 Gew.-% SiO2-Sol (Feststoffanteil) 0,5 bis 5,0 Gew.-% Wasser 85 bis 98 Gew.-% Methanol und/oder Ethanol und/oder Propanol und/oder Butanol und/oder Dimethylketon und/oder Methyl-ethyl-keton.
A method according to claim 1, characterized by using a coating solution 1.0 to 6.0 Wt .-% HCl 0.5 to 7.0 Wt.% SiO 2 sol (solid content) 0.5 to 5.0 Wt .-% water 85 to 98 Wt .-% methanol and / or ethanol and / or propanol and / or butanol and / or Dimethyl ketone and / or methyl ethyl ketone.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Benetzung des zu beschichtenden Körpers durch Eintauchen in die Beschichtungslösung erfolgt.Method according to claim 1 or 2, characterized that the wetting of the body to be coated by immersion in the coating solution he follows. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Entfernen aus der Tauchlösung mit einer Geschwindigkeit von 1 bis 100 mm·s-1, insbesondere 1 bis 20 mm·s-1 erfolgt.A method according to claim 3, characterized in that the removal from the dipping solution at a rate of 1 to 100 mm · s -1 , in particular 1 to 20 mm · s -1 occurs. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, dass der Borosilikatglaskörper enthält (in Gew.-% auf Oxidbasis): 70-75 SiO2 8-11 B2O3 6-8 Al2O3 6-8 Na2O 1-4 K2O 7-12 Σ Alkalioxide 0-2 CaO
A method according to claim 1 or 2, characterized in that the borosilicate glass body contains (in wt .-% based on oxide): 70-75 SiO 2 8-11 B 2 O 3 6-8 Al 2 O 3 6-8 Na 2 O 1-4 K 2 O 7-12 Σ alkali oxides 0-2 CaO
Beschichtungslösung zur Erzeugung einer Antireflexionsschicht auf Borosilikatglas mit einem Gehalt von 1,0 bis 6,0 Gew.-% HCl 0,5 bis 7,0 Gew.-% SiO2-Sol (Feststoffanteil) 0,5 bis 5 Gew.-% Wasser 85 bis 98 Gew.-% leichtflüchtiges, wasserlösli ches organisches Lösungsmittel
Coating solution for producing an antireflection coating on borosilicate glass containing 1.0 to 6.0 Wt .-% HCl 0.5 to 7.0 Wt.% SiO 2 sol (solid content) 0.5 to 5 Wt .-% water 85 to 98 % By weight volatile, water-soluble organic solvent
Beschichtungslösung nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch einen Gehalt von 1,0 bis 6,0 Gew.-% HCl 0,5 bis 7,0 Gew.-% SiO2-Sol (Feststoffanteil) 0,5 bis 5 Gew.-% Wasser 85 bis 95 Gew.-% Methanol und/oder Ethanol und/oder Propanol und/oder Butanol und/oder Dimethylketon und/oder Methyl-ethyl-keton.
Coating solution according to claim 5, characterized by a content of 1.0 to 6.0 Wt .-% HCl 0.5 to 7.0 Wt.% SiO 2 sol (solid content) 0.5 to 5 Wt .-% water 85 to 95 Wt .-% methanol and / or ethanol and / or propanol and / or butanol and / or Dimethyl ketone and / or methyl ethyl ketone.
DE102006041469A 2006-09-02 2006-09-02 Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing Expired - Fee Related DE102006041469B3 (en)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006041469A DE102006041469B3 (en) 2006-09-02 2006-09-02 Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing
IT000611A ITTO20070611A1 (en) 2006-09-02 2007-08-28 PROCEDURE AND COATING SOLUTION FOR THE IMPLEMENTATION OF AN ANTI-REFLECTIVE LAYER RESISTANT TO STROFING ON A BOROSILICATE-BASED GLASS BODY
MX2007010583A MX2007010583A (en) 2006-09-02 2007-08-29 A process and a coating solution for the production of an anti-reflective layer resistant to rubbing over a borosilicate glass body.
IL185628A IL185628A0 (en) 2006-09-02 2007-08-30 Method of making a wipe-resistant antireflection coating on a borosilicate glass body and coating solution for use in said method
US11/847,433 US7842339B2 (en) 2006-09-02 2007-08-30 Method of making a wipe-resistant antireflection coating on a borosilicate glass body and coating solution for use in said method
ES200702355A ES2322010B1 (en) 2006-09-02 2007-08-30 PROCEDURE AND SOLUTION FOR COATING TO PRODUCE AN ANTI-REFLECTIVE LAYER RESISTANT TO FROTATION ON A BOROSILICATE GLASS BODY.
CNA2007101701282A CN101182130A (en) 2006-09-02 2007-08-31 Method for preparing wear well anti-reflection film on borosilicate glass body and coating solution

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006041469A DE102006041469B3 (en) 2006-09-02 2006-09-02 Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102006041469B3 true DE102006041469B3 (en) 2008-01-31

Family

ID=38859682

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102006041469A Expired - Fee Related DE102006041469B3 (en) 2006-09-02 2006-09-02 Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7842339B2 (en)
CN (1) CN101182130A (en)
DE (1) DE102006041469B3 (en)
ES (1) ES2322010B1 (en)
IL (1) IL185628A0 (en)
IT (1) ITTO20070611A1 (en)
MX (1) MX2007010583A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2165986A1 (en) 2008-09-16 2010-03-24 Schott AG Glass and use of a glass for glass-metal compounds
EP2287121A1 (en) 2009-08-21 2011-02-23 Schott Ag Glass and use of a glass for glass-metal compounds

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101579672A (en) * 2008-05-16 2009-11-18 3M创新有限公司 Silicon dioxide coating for improving hydrophilicity/transmittivity
US20100035039A1 (en) * 2008-08-07 2010-02-11 3M Innovative Properties Company Acicular silica coating for enhanced hydrophilicity/transmittivity
CN101941001B (en) 2009-07-03 2014-04-02 3M创新有限公司 Hydrophilic coating, product, coating composition and method
CN102241899B (en) 2010-05-11 2014-05-14 3M创新有限公司 Coating composition, method for modifying matrix surface, and product
DE102015214431B3 (en) * 2015-07-29 2016-12-22 Schott Ag Boron-poor zirconium-free neutral glass with optimized alkali ratio
WO2017218705A1 (en) 2016-06-17 2017-12-21 View, Inc. Mitigating defects in an electrochromic device under a bus bar

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2601123A (en) * 1947-04-05 1952-06-17 American Optical Corp Composition for reducing the reflection of light
EP0879898B1 (en) * 1997-05-21 2001-07-18 Aisin Takaoka Co., Ltd. Magnesium alloy having superior elevated-temperature properties and die castability
EP1167313A1 (en) * 1999-12-13 2002-01-02 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Low-reflection glass article
DE10051724A1 (en) * 2000-10-18 2002-05-02 Flabeg Gmbh & Co Kg Thermally tempered safety glass used for covers of solar collectors, for photovoltaic cells, for vehicle windscreens and/or for glazing has a porous silicon dioxide layer having a specified refractive index
DE10052075A1 (en) * 2000-10-19 2002-05-02 Thomas Bein Porous layers and a process for their production by means of spin coating
DE10051725A1 (en) * 2000-10-18 2002-05-02 Merck Patent Gmbh Aqueous coating solution for abrasion-resistant SiO2 anti-reflective coatings
DE10146687C1 (en) * 2001-09-21 2003-06-26 Flabeg Solarglas Gmbh & Co Kg Glass with a porous anti-reflective surface coating and method for producing the glass and use of such a glass
EP1342702A1 (en) * 2002-03-06 2003-09-10 Schott Glas Glass body with a porous coating

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0897898B1 (en) 1997-08-16 2004-04-28 MERCK PATENT GmbH Method for the deposition of optical layers
ES2196243T3 (en) * 1997-11-27 2003-12-16 Ferro Italia Srl CERAMIC TILE AND ENAMEL FOR USE IN A TILE OF THIS TYPE.
JP2005298237A (en) * 2004-04-07 2005-10-27 Nippon Sheet Glass Co Ltd Antifogging article and method for producing the same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2601123A (en) * 1947-04-05 1952-06-17 American Optical Corp Composition for reducing the reflection of light
EP0879898B1 (en) * 1997-05-21 2001-07-18 Aisin Takaoka Co., Ltd. Magnesium alloy having superior elevated-temperature properties and die castability
EP1167313A1 (en) * 1999-12-13 2002-01-02 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Low-reflection glass article
DE10051724A1 (en) * 2000-10-18 2002-05-02 Flabeg Gmbh & Co Kg Thermally tempered safety glass used for covers of solar collectors, for photovoltaic cells, for vehicle windscreens and/or for glazing has a porous silicon dioxide layer having a specified refractive index
DE10051725A1 (en) * 2000-10-18 2002-05-02 Merck Patent Gmbh Aqueous coating solution for abrasion-resistant SiO2 anti-reflective coatings
DE10052075A1 (en) * 2000-10-19 2002-05-02 Thomas Bein Porous layers and a process for their production by means of spin coating
DE10146687C1 (en) * 2001-09-21 2003-06-26 Flabeg Solarglas Gmbh & Co Kg Glass with a porous anti-reflective surface coating and method for producing the glass and use of such a glass
EP1342702A1 (en) * 2002-03-06 2003-09-10 Schott Glas Glass body with a porous coating

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2165986A1 (en) 2008-09-16 2010-03-24 Schott AG Glass and use of a glass for glass-metal compounds
DE102008047280A1 (en) 2008-09-16 2010-04-01 Schott Ag Glass and use of a glass for glass-metal connections
US8178451B2 (en) 2008-09-16 2012-05-15 Schott Ag Glass composition formulated for a glass-metal bond of a tube collector and glass-metal bond made with glass of said glass composition
EP2287121A1 (en) 2009-08-21 2011-02-23 Schott Ag Glass and use of a glass for glass-metal compounds
DE102009038475A1 (en) 2009-08-21 2011-02-24 Schott Ag Use of a glass for glass-metal connections
DE102009038475B4 (en) * 2009-08-21 2011-07-07 Schott Ag, 55122 Use of a glass for glass-metal connections
US8349750B2 (en) 2009-08-21 2013-01-08 Schott Ag Glass and use of a glass for glass-metal bonds

Also Published As

Publication number Publication date
ES2322010B1 (en) 2010-03-17
ES2322010A1 (en) 2009-06-15
IL185628A0 (en) 2008-11-03
ITTO20070611A1 (en) 2008-03-03
CN101182130A (en) 2008-05-21
US7842339B2 (en) 2010-11-30
MX2007010583A (en) 2009-02-19
US20080057187A1 (en) 2008-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102006041469B3 (en) Coating anti-reflection layer containing silicon dioxide on a borosilicate glass body comprises wetting the body containing e.g. silicon dioxide with a coating solution containing e.g. hydrochloric acid, followed by drying and annealing
EP1342702B1 (en) Glass body with a porous coating
DE822714C (en) Process for the production of a reflection-reducing film on the surface of a glass object
DE102008006785B3 (en) Process for producing a smear-resistant antireflection coating on a borosilicate glass body and use of the coated glass body for producing lamp bulbs of discharge lamps
EP0897898B1 (en) Method for the deposition of optical layers
DE102005020168A1 (en) Coating glass or ceramic substrate with anti-reflective layer using sol-gel process, employs e.g. silicon-aluminum mixed oxide with adsorbed hydrophobe present in sol-gel binder
EP1430001A2 (en) Glass comprising a porous anti-reflection surface coating and method for producing one such glass
DE19801594A1 (en) Permanently water repelling glass e.g. for safety glass in car(s)
EP1685075A2 (en) Object with easily cleaned surfaces and method for production thereof
DE2016074C3 (en) Method for producing a reflection-reducing layer on the glass surface of a display screen and glass surface of a display screen, which has a reflection-reducing layer produced according to this method
EP0294830B1 (en) Process of making glasses with an increased break resistance
DE10051725A1 (en) Aqueous coating solution for abrasion-resistant SiO2 anti-reflective coatings
DE60119202T2 (en) Colored, transparent, film-forming composition, process for its coating and process for removing a film made therefrom
DE102009025788A1 (en) Process for producing a reflection-reduced disk
DE2526804A1 (en) METHOD OF TREATMENT OF GLASS
DE102006056088A1 (en) Process to increase the strength of lithium-alumino-silicate glass ceramic by coating with lithium salt prior to ceramic conversion
DE19828231A1 (en) Process for the deposition of optical layers
DE3823089A1 (en) Pyrolytically coated flat glass, and process for its production
WO2012037589A2 (en) Process and means for the treatment of glass objects
DE2235814B2 (en) Process for the surface treatment of shaped glass bodies by applying an aqueous solution containing aluminum phosphate to the heated glass surface and a solution for carrying out the process
DE102018008593B3 (en) A method of treating a substrate of glass or glassy substrate based on silica
DE1596756A1 (en) Process for etching glass
DE10311340B4 (en) Use of a composition comprising a water-soluble salt, a surfactant and a sugar alcohol as the aqueous anti-contamination coating composition
DE10392399T5 (en) Thin silica film, silica-titania composite film and method of making the same
DE1953374C (en) Process for increasing the mechanical strength of soda-lime glass bodies by exchanging sodium ions for potassium ions derived from an aqueous solution at temperatures slightly below the lower stress point

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20140401