DE102005043432B4 - Abtasteinheit einer optischen Positionsmesseinrichtung und Positionsmesseinrichtung mit dieser Abtasteinheit - Google Patents
Abtasteinheit einer optischen Positionsmesseinrichtung und Positionsmesseinrichtung mit dieser Abtasteinheit Download PDFInfo
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Abstract
Abtasteinheit, mit welcher ein in Messrichtung (X) relativ dazu bewegbarer Maßstab (1) optisch abtastbar ist, mit
– einer Abtastplatte (5, 5.1, 5.2) mit einer dem Maßstab (1) zugewandten ersten Oberfläche (10) und einer dem Maßstab (1) abgewandten zweiten Oberfläche (9), wobei
– auf der ersten Oberfläche (10) der Abtastplatte (5, 5.1, 5.2) eine ein Fenster (7) begrenzende elektrisch leitende opake Schicht (8) aufgebracht ist, die über ein Kontaktelement (13, 13.1, 13.2) an einem ein Bezugspotential aufweisenden elektrisch leitenden Körper (14) angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, dass
– die Abtastplatte (5, 5.1, 5.2) einen bezüglich der ersten Oberfläche (10) zurückgesetzten Oberflächenbereich (11, 11.1, 11.2) aufweist, der eine elektrisch leitende Beschichtung (12, 12.1, 12.2, 12.3) aufweist, die mit der opaken Schicht (8) in Kontakt steht, und dass
– das Kontaktelement (13, 13.1, 13.2) diese Beschichtung (12, 12.1, 12.2, 12.3) am zurückgesetzten Oberflächenbereich (11, 11.1, 11.2) kontaktiert.
– einer Abtastplatte (5, 5.1, 5.2) mit einer dem Maßstab (1) zugewandten ersten Oberfläche (10) und einer dem Maßstab (1) abgewandten zweiten Oberfläche (9), wobei
– auf der ersten Oberfläche (10) der Abtastplatte (5, 5.1, 5.2) eine ein Fenster (7) begrenzende elektrisch leitende opake Schicht (8) aufgebracht ist, die über ein Kontaktelement (13, 13.1, 13.2) an einem ein Bezugspotential aufweisenden elektrisch leitenden Körper (14) angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, dass
– die Abtastplatte (5, 5.1, 5.2) einen bezüglich der ersten Oberfläche (10) zurückgesetzten Oberflächenbereich (11, 11.1, 11.2) aufweist, der eine elektrisch leitende Beschichtung (12, 12.1, 12.2, 12.3) aufweist, die mit der opaken Schicht (8) in Kontakt steht, und dass
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Description
- Die Erfindung betrifft eine Abtasteinheit einer optischen Positionsmesseinrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie eine optische Positionsmesseinrichtung mit einem von dieser Abtasteinheit optisch abtastbaren Maßstab gemäß dem Anspruch 11.
- Derartige Positionsmesseinrichtungen werden als lineare Messeinrichtung mit einem linearen Maßstab oder als rotatorische Messeinrichtung mit einer Codescheibe ausgeführt. Sie werden insbesondere bei Bearbeitungsmaschinen zur Messung der Relativbewegung eines Werkzeugs bezüglich eines zu bearbeitenden Werkstücks, bei Robotern, Koordinatenmessmaschinen und vermehrt auch in der Halbleiterindustrie eingesetzt.
- Die Positionsmesseinrichtung ist bei vielen Anwendungen elektrischen Feldern, insbesondere störenden elektrischen Wechselfeldern ausgesetzt, welche auf elektrisch leitende Elemente der Abtasteinheit einwirken und elektrische Störsignale und daraus eine fehlerhafte Positionserfassung verursachen. Darüber hinaus kann es aufgrund der Relativbewegung zwischen der Abtasteinheit und dem Maßstab zu elektrischen Aufladungen von Bauteilen kommen, die letztendlich zu Entladungen zwischen der Abtasteinheit und dem Maßstab aufgrund eines sich aufbauenden Potentialunterschieds führen. Diese sprunghaft auftretenden Entladungen können ebenfalls zu einer fehlerhaften Positionserfassung führen.
- Aus der
DE 100 33 263 A1 und derUS 5,030,825 A sind Maßnahmen zur Erdung elektrisch leitfähiger Elemente einer Abtasteinheit einer optischen Positionsmesseinrichtung bekannt. - Man hat bereits erkannt, dass auch die elektrisch leitende Beschichtung der Abtastplatte eine Störquelle bildet. Es wurde daher bereits vorgeschlagen, auch diese Beschichtung zu erden.
- In der
EP 0 328 661 B1 ist eine optische Winkelmesseinrichtung mit einem scheibenförmigen Maßstab und einer diesen Maßstab abtastenden Abtasteinheit beschrieben. Eine Abtastplatte aus Glas trägt auf seiner dem Maßstab zugewandten Oberfläche eine ein Abtastmuster bildende Chromschicht. Diese Chromschicht ist mit einem Bezugspotential elektrisch verbunden, also geerdet. Die Erdung erfolgt mittels eines Kontaktelementes in Form einer Lötung zwischen der Chromschicht und einem Schirmungskörper. - Eine derartige Lötung ist nur möglich, wenn ein ausreichender Abstand zwischen der Abtastplatte und dem Maßstab zur Verfügung steht.
- Bei besonders hochgenauen Positionsmesseinrichtungen ist der Abtastabstand so gering, dass diese Kontaktierung des Abtastmusters problematisch ist.
- Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Platz sparende Kontaktierung des Abtastmusters zu schaffen, die auch bei sehr kleinen Abtastabständen Platz sparend realisierbar ist.
- Diese Aufgabe wird durch eine Abtasteinheit mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie durch eine optische Positionsmesseinrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 11 gelöst.
- Der Vorteil der Erfindung liegt darin, dass die Erdung des Abtastmusters der Abtastplatte Platz sparend und somit auch bei äußerst kleinen Abtastabständen realisierbar ist. Die elektrisch leitende Beschichtung der Abtastplatte scheidet somit als Störquelle aus.
- In den abhängigen Ansprüchen sind vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung angegeben.
- Die Erfindung wird mit Hilfe von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
- Dabei zeigt
-
1 einen Längsschnitt einer optischen Positionsmesseinrichtung (schematisiert); -
2 eine perspektivische Darstellung der Positionsmesseinrichtung gemäß1 ohne Maßstab; -
3 eine Detailansicht aus1 ; -
4 eine alternative Ausgestaltung einer Abtastplatte; -
5 eine weitere alternative Ausgestaltung einer Abtastplatte; -
6 eine alternative Ausgestaltung eines Kontaktelementes; -
7 eine weitere alternative Ausgestaltung eines Kontaktelementes und -
8 eine weitere Ausgestaltung einer Abtastplatte. - Die
1 bis3 zeigen ein Ausführungsbeispiel einer optischen Positionsmesseinrichtung. Die Positionsmesseinrichtung ist dabei eine Längenmesseinrichtung mit einem Maßstab1 und eine relativ zum Maßstab1 in Messrichtung X bewegbaren Abtasteinheit2 . Der Maßstab1 ist transparent und weist auf einer seiner Oberflächen eine Messteilung3 auf, die von der Abtasteinheit2 abgetastet wird. Dazu umfasst die Abtasteinheit2 eine Lichtquelle4 , deren Licht durch eine transparente Abtastplatte5 auf den Maßstab1 trifft, dort von der Messteilung3 positionsabhängig moduliert wird und auf einen Detektor6 trifft. - Das von der Lichtquelle
4 ausgehende Lichtbündel wird beim Auftreffen auf die Abtastplatte5 von einer zumindest ein Fenster7 bildenden elektrisch leitenden opaken Schicht8 begrenzt. Diese Schicht8 begrenzt das Fenster7 und bildet somit eine Blende, zusätzlich bildet die elektrisch leitende opake Schicht8 ein Abtastgitter innerhalb des Fensters7 , das in bekannter Weise aus abwechselnd nebeneinander angeordneten opaken Bereichen der Schicht8 und transparenten Bereichen besteht. Das Abtastgitter dient zur Bildung mehrerer Teilstrahlenbündel, die mit der Messteilung3 des Maßstabs1 wechselwirken und auf den Detektor6 zur Erzeugung von positionsabhängigen, gegeneinander phasenverschobenen Abtastsignalen treffen. - Die Abtastplatte
5 hat zwei zueinander parallel verlaufende und einander gegenüberliegende Oberflächen9 ,10 . Eine dieser Oberflächen10 ist dem Maßstab1 gegenüberliegend zugewandt, diese Oberfläche10 wird nachfolgend erste Oberfläche10 genannt. Die zweite Oberfläche9 ist dem Maßstab1 dagegen abgewandt. - Die das Fenster
7 bildende elektrisch leitende opake Schicht8 ist auf der ersten Oberfläche10 aufgebracht. Dabei ist die Abtastplatte5 aus elektrisch isolierendem transparentem Material, insbesondere Glas und die Schicht8 eine Metallschicht, insbesondere Chrom. - Die Abtastplatte
5 weist einen bezüglich der ersten Oberfläche10 zurückgesetzten Oberflächenbereich11 auf, der ebenfalls elektrisch leitend beschichtet ist. Diese elektrisch leitende Beschichtung12 wird vorzugsweise von der Schicht8 einstückig gebildet, sie kann aber auch eine separate mit der Schicht8 elektrisch verbundene Beschichtung12.3 sein, welche zumindest partiell unter oder über der Schicht8 verläuft, wie später noch anhand der8 näher erläutert wird. Der als zurückgesetzt bezeichnete Oberflächenbereich11 der Abtastplatte5 ist vom Maßstab1 weiter entfernt, als die parallel zum Maßstab1 verlaufende, die Messteilung tragende Oberfläche10 . - Die Beschichtung
12 ist am zurückgesetzten Oberflächenbereich11 über ein Kontaktelement13 an einem ein Bezugspotential 0 V aufweisenden elektrisch leitenden Körper14 kontaktiert. Ein Beispiel dieser Kontaktierung ist in3 im Detail dargestellt. In diesem Beispiel ist die Beschichtung12 am zurückgesetzten Oberflächenbereich11 , also an der Fase, eine Fortführung der Schicht8 . Das Kontaktelement ist ein elektrisch leitender Klebstoff13 , insbesondere Silberleitkleber, der so eingebracht ist, dass er die Schicht8 auf der ersten Oberfläche10 in Richtung hin zum Maßstab1 betrachtet nicht überragt, vorteilhafter Weise auch die erste Oberfläche10 nicht überragt. - Der elektrische leitende Körper ist in den beschriebenen Beispielen ein Abtastwagen
14 , der über Kugellager15 am Maßstab1 in Messrichtung X geführt wird. Der Abtastwagen14 besteht beispielsweise aus leitfähigem Kunststoff, insbesondere aus Polycarbonat mit Kohlefaserverstärkung und ist über eine elektrische Verbindung am Bezugspotential 0 V angeschlossen. - Der zurückgesetzte Oberflächenbereich
11 verläuft in Bezug auf die erste Oberfläche10 derart, dass er einen Normalenvektor N11 besitzt, der eine Richtungskomponente N1 aufweist, die dem Normalenvektor N10 der ersten Oberfläche10 der Abtastplatte5 entspricht. Der Oberflächenbereich11 ist hierbei gegenüber der ersten Oberfläche10 geneigt, er weist insbesondere einen Neigungswinkel von 45° ± 20° auf. Dies hat den Vorteil, dass der Oberflächenbereich11 mit einfachen Werkzeugen durch Materialabtrag fertigbar ist, und dass der Oberflächenbereich11 von der gleichen Richtung aus, wie die erste Oberfläche10 beschichtet (bedampft, gesputtert) werden kann. - Alternativ oder zusätzlich kann ein zurückgesetzter Oberflächenbereich
11.1 an der Abtastplatte5.1 ausgebildet sein, der zur ersten Oberfläche10 parallel verläuft, wie in4 dargestellt ist. Auch hier ist eine einfache Aufbringung der Beschichtung12.1 möglich. - Eine alternative Ausgestaltung einer Abtastplatte
5.2 ist in5 dargestellt. Der zurückgesetzte mit der Beschichtung12.2 versehene Oberflächenbereich11.2 verläuft hier senkrecht zur ersten Oberfläche10 . - In
6 ist ein alternatives Kontaktelement in Form einer am Körper14 befestigten elektrisch leitenden Kontaktfeder13.1 dargestellt, welche sich federnd an dem zurückgesetzten, geneigten und mit der Beschichtung12 versehenen Oberflächenbereich11 abstützt und die Beschichtung12 elektrisch leitend kontaktiert. - In
7 ist eine weitere Ausgestaltung eines Kontaktelementes dargestellt. Das Kontaktelement ist dabei eine an den Körper14 einstückig angeformte Kontaktfeder13.2 . - Wie bereits ausgeführt, kann die Beschichtung
12 ,12.1 ,12.2 durch Fortführung der Schicht8 über den zurückgesetzten Oberflächenbereich11 ausgeführt sein. Eine Alternative dazu ist in8 dargestellt. Dabei ist die Beschichtung12.3 des zurückgesetzten Oberflächenbereichs11 als eine die Schicht8 überlappende separate Beschichtung12.3 ausgeführt. Die Beschichtung12.3 und die Schicht8 sind beispielsweise aus Chrom. Zur Verminderung der Reflexion ist der Schicht8 eine diese bedeckende reflexmindernde und elektrisch nicht leitende Schicht80 , z. B. aus Chromoxid bzw. Chromdioxid zugeordnet. - In nicht gezeigter Weise kann das Kontaktelement auch ein elektrisch leitfähiger Lack sein. Reicht die Festigkeit des elektrisch leitfähigen Klebstoffs
13 bzw. Lacks zur sicheren Lagefixierung der Abtastplatte5 am Körper14 nicht aus, kann ein zusätzlicher ggf. elektrisch nicht leitender stabilerer Klebstoff20 eingesetzt werden, wie in3 dargestellt. - Wie aus den dargestellten Beispielen ersichtlich, ist ein besonders Platz sparender Aufbau möglich, wenn sich der zurückgesetzte Oberflächenbereich
11 jeweils innerhalb der Dicke der Abtastplatte5 , also zwischen den beiden einander gegenüberliegenden ersten Oberflächen10 und zweiten Oberflächen9 befindet. - Wie in
1 schematisch dargestellt ist, befindet sich der Detektor6 auf einer dem Maßstab1 zugewandten Oberfläche einer am Abtastwagen14 befestigten Leiterplatte30 . Zur weiteren Erhöhung der Störsicherheit der Positionsmesseinrichtung ist diese Leiterplatte20 eine Multilayer-Platine mit zwei äußeren Erdungsschichten und einer dazwischen liegenden Signalleiterschicht. Die elektrischen Bauelemente31 zur Signalverarbeitung befinden sich auf der dem Maßstab1 abgewandten Oberfläche der Leiterplatte30 .
Claims (11)
- Abtasteinheit, mit welcher ein in Messrichtung (X) relativ dazu bewegbarer Maßstab (
1 ) optisch abtastbar ist, mit – einer Abtastplatte (5 ,5.1 ,5.2 ) mit einer dem Maßstab (1 ) zugewandten ersten Oberfläche (10 ) und einer dem Maßstab (1 ) abgewandten zweiten Oberfläche (9 ), wobei – auf der ersten Oberfläche (10 ) der Abtastplatte (5 ,5.1 ,5.2 ) eine ein Fenster (7 ) begrenzende elektrisch leitende opake Schicht (8 ) aufgebracht ist, die über ein Kontaktelement (13 ,13.1 ,13.2 ) an einem ein Bezugspotential aufweisenden elektrisch leitenden Körper (14 ) angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, dass – die Abtastplatte (5 ,5.1 ,5.2 ) einen bezüglich der ersten Oberfläche (10 ) zurückgesetzten Oberflächenbereich (11 ,11.1 ,11.2 ) aufweist, der eine elektrisch leitende Beschichtung (12 ,12.1 ,12.2 ,12.3 ) aufweist, die mit der opaken Schicht (8 ) in Kontakt steht, und dass – das Kontaktelement (13 ,13.1 ,13.2 ) diese Beschichtung (12 ,12.1 ,12.2 ,12.3 ) am zurückgesetzten Oberflächenbereich (11 ,11.1 ,11.2 ) kontaktiert. - Abtasteinheit nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Kontaktelement (
13 .13.1 ,13.2 ) die opake Schicht (8 ) auf der ersten Oberfläche (10 ) nicht überragt. - Abtasteinheit nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Normalenvektor (N11) des zurückgesetzten Oberflächenbereichs (
11 ,11.1 ) eine Richtungskomponente (N1) aufweist, die dem Normalenvektor (N10) der ersten Oberfläche (10 ) der Abtastplatte (5 ,5.1 ) entspricht. - Abtasteinheit nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der zurückgesetzte Oberflächenbereich (
11 ) gegenüber der ersten Oberfläche (10 ) geneigt ist. - Abtasteinheit nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der zurückgesetzte Oberflächenbereich (
11.1 ) parallel zur ersten Oberfläche (10 ) verläuft. - Abtasteinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (
12 ,12.1 ,12.2 ) eine Fortsetzung der opaken Schicht (8 ) ist. - Abtasteinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Beschichtung (
12.2 ) und die opake Schicht (8 ) überlappen. - Abtasteinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Kontaktelement ein elektrisch leitfähiger Klebstoff (
13 ) oder Lack ist. - Abtasteinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Kontaktelement eine Kontaktfeder (
13.1 ,13.2 ) ist. - Abtasteinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Oberfläche (
10 ) und die zweite Oberfläche (9 ) parallel zueinander verlaufen. - Optische Positionsmesseinrichtung mit einem Maßstab (
1 ) und einer relativ zum Maßstab (1 ) in Messrichtung (X) bewegbaren Abtasteinheit (2 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche.
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2005
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