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Die
Erfindung betrifft eine Messanordnung zum Messen von Overlay-Fehlern
bei der Untersuchung eines Objektes insbesondere eines Halbleiters nach
dem Oberbegriff des Anspruch 1 sowie ein Verfahren zur Reduzierung
systematischer Messfehler beim Messen von Overlay-Fehlern bei der
Untersuchung eines Objektes, insbesondere eines, nach dem Oberbegriff
von Anspruch 10.
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In
der Halbleiterfertigung werden Wafer während des Fertigungsprozesses
in einer Vielzahl von Prozessschritten sequentiell bearbeitet, wobei
auf einem Wafer eine Vielzahl gleicher wiederkehrenden Strukturelemente,
die so genannten Dies, hergestellt wird. Mit zunehmender Integrationsdichte
steigen die Anforderungen an die Qualität der auf den Wafern ausgebildeten
Strukturen. Um die Qualität
dieser Strukturen überprüfen und
eventuelle Defekte finden zu können,
ist das Erfordernis an die Genauigkeit und die Reproduzierbarkeit
der den Wafer handhabenden Bauteile und Prozessschritte entsprechend
hoch. Dies bedeutet, dass bei der Produktion eines Wafer mit der
Vielzahl von Prozessschritten und der Vielzahl der aufzutragenden
Schichten an Fotolack oder Ähnlichem
eine zuverlässige
Erkennung der Qualität der
vorangegangen Prozessschritte ermittelt werden muss. Bei der Fertigung
von Halbleiterbauelementen werden die Strukturen üblicherweise
in verschiednen Ebenen gefertigt. Die Orientierung der Strukturen
in diesen Ebenen zueinander ist von großer Wichtigkeit, denn eine
zu große
Verschiebung der Strukturen kann zu einer Unterbrechung der Verbindung
von Elementen zwischen diesen Ebenen führen. Daher wird unter anderem
auch die Orientierung, Verschiebung beziehungsweise Ausrichtung
dieser Ebenen zueinander untersucht und als Over lay-Fehler bezeichnet.
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Ein
Verfahren zur Messung des Overlay-Fehlers ist beispielsweise aus
der US 2004/0207849 A1 bekannt. Hierin wird vorgeschlagen, die in
unterschiedlichen Ebenen vorliegenden periodischen Strukturen mit
kohärentem
Licht zu beleuchten. Aus der positiven und negativen Streulichtstrahlung
wird der optische Phasenunterschied zwischen der negativen und positiven
Streulichtstrahlung ermittelt. Aus diesem Phasenunterschied lässt sich
dann der Overlay-Fehler ermitteln.
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Aus
der WO 03/104929 A2 ist weiterhin ein Verfahren zur Messung des
Overlay-Fehlers bekannt, bei dem Bild- oder Intensitätsinformationen von
der untersuchten Oberfläche
analysiert werden um zu dem gesuchten Overlay-Fehler zu gelangen.
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Bei
diesen Verfahren werden üblicherweise Mikroskope
zur Untersuchung der Strukturen eingesetzt, die unendlich-plankorrigierte
Mikroobjektive aufweisen. Bei der Montage von Mikroobjektiven entstehen
aufgrund der Bauteiltoleranzen Abbildungsfehler, die auch bei Anwendung
großer
Sorgfalt nicht zu vermeiden sind. Damit ist beispielsweise die Zentrierungen
nur innerhalb bestimmter Toleranzen möglich. So kann etwa die Lage
der Achse einer Linse zum Gesamtsystem verkippt oder verschoben
sein. Die daraus resultierenden Abbildungsfehler Coma, Astigmatismus
und axialer Farbquerfehler, der bereits in der Bildmitte auftritt,
beschränken
die Genauigkeit der Untersuchung und sind allgemein bekannt. Üblicherweise
wird durch das so genannte Setzen versucht, Coma und Astigmatismus
so klein als möglich
zu halten. Zur Astigmatismuskorrektur werden hierzu einzelne Linsengruppen
zueinander gedreht und so die optische Achse ausgeglichen. Einem Coma
kann durch das seitliche Verschieben einer Linsengruppe entgegengewirkt
werden. Die beiden Fehler können
damit zwar nicht vollständig
aufgehoben werden, jedoch ist es im allgemeinen möglich, eine
Korrektur zu bewirken, die so gut ist, dass die Messung im Rahmen
der gewünschten
Genauigkeit unbeeinflusst durchgeführt werden kann. Axiale Farbquerfehler
lassen sich zwar auch grundsätzlich auch
durch Setzen beeinflussen, jedoch müssen hierzu die gleichen Frei heitsgrade,
verwendet werden, die auch Astigmatismus und Coma beeinflussen.
Damit führt
zwingend jede derartige Korrektur des axialen Farbquerfehlers zu
einer Veränderung der
Korrektur von Astigmatismus und Coma. Somit muss der ganze Prozess
iterativ gestaltet werden um zu vermeiden, dass keiner der Korrekturen
zu Werten führt,
die außerhalb
der akzeptablen Toleranz liegen. Da dieser Prozess sehr zeitaufwändig ist
und zudem von Anfang an offen ist, ob der iterative Prozess konvergiert,
also etwa zu einem Minimum in den Fehlern führt, wird auf eine Korrektur
des axialen Farbquerfehlers auf der Achse normalerweise verzicht
und die daraus resultierenden Nachteile werden als systematische
Fehler in Kauf genommen.
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es daher, die systematischen Messfehler
bei der Untersuchung von Objekten, insbesondere von Halbleiterstrukturen
zu verringern.
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Entsprechend
der Erfindung wird diese Aufgabe durch eine Messanordnung zum Messen
von Overlay-Fehlern bei der Untersuchung eines Objektes insbesondere
eines Halbleiters mit den Merkmalen gemäß Anspruch 1 gelöst. Im Hinblick
auf das Verfahren wird diese Aufgabe durch ein Verfahren zur Reduzierung
systematischer Messfehler beim Messen von Overlay-Fehlern bei der
Untersuchung eines Objektes, insbesondere eines Halbleiters, mit den
Merkmalen gemäß Anspruch
11 gelöst.
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Die
erfindungsgemäße Messanordnung,
die insbesondere bei der Untersuchung von Overlay-Fehlern auf produzierten
Halbleiterwafern eingesetzt werden kann, weist eine Beleuchtungseinrichtung
und ein unendlich-plankorrigiertes
Objektiv zum Fokussieren einer Strahlung der Beleuchtungseinrichtung
auf das Objekt, etwa den Halbleiterwafer auf. Eine Tubuslinse ist
zum Abbilden des im unendlichen gelegenen Zwischenbildes auf eine
Sensoreinheit, insbesondere einen CCD-Sensor vorgesehen. Im Strahlengang
der Messanordnung ist ein Kompensator vorgesehen. Dabei werden im
Kompensator die Wellenfronten der einfallenden Strahlung spektral
unterschiedlich so verkippt, dass eine Kompensation des axialen
Farbquerfehlers erfolgt. Durch den Aufbau des Kompensators und die
gewählte
Objektivkorrektur bleiben sphärische
Aberration, Astigmatismus und Koma von dem Setzen des axialen Farbquerfehlers
unberührt.
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Bevorzugt
wird der Kompensator in der Pupille des Objektivs angeordnet, da
in dieser Position die ausgenützten
Durchmesser am kleinsten sind. Dies begünstigt die hochgenaue Fertigung
des Kompensators. Alternativ kann der Kompensator auch im Strahlengang
zwischen dem Objektiv und der Tubuslinse angeordnet werden. Zwischen
der Tubuslinse und der Sensoreinheit kann eine Nachvergrößerungseinheit
vorgesehen sein.
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Der
Kompensator kann ein Prisma, ein Doppelprisma oder bevorzugt ein
variables Prisma aufweisen. Das variable Prisma besteht aus einer
Plankonkav- und
einer Plankonvexlinse aus gleichem Material, deren sphärischen
Radien gleich sind und miteinander in Kontakt sind. Die Einstellung
des Prisma erfolgt durch Gleiten an der Grenzfläche, so dass die beiden Planflächen einen
Winkel zueinander erhalten. Diese Einstellung kann mit einem Kitt
zwischen den beiden Elementen fixiert werden. Besonders vorteilhaft
ist es, wenn der Brechungsindex und die Dispersion des Kitts möglichst
mit den Werten der Glaselemente übereinstimmt.
Zur Einstellung des Kompensators wird die Größe und Richtung der erforderlichen
Kompensation ermittelt und über
das variable Prisma eingestellt und gegebenenfalls mit Hilfe des Klebers
fixiert. Zum Ermitteln der erforderlichen Werte wird ein Musterobjekt,
insbesondere ein Testwafer verwendet, von dem die auf dem Testwafer
vorhandenen Strukturen bekannt sind.
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Mit
dem Einsatz eines Kompensators im Strahlengang der Messanordnung
kann ein axialer Farbquerfehler kompensiert werden, ohne dass die für die Astigmatismus-
oder Coma-Korrektur vorgenommenen Einstellungen wieder verändert werden müssten. Denn
ein Verkippen der Wellenfronten in der Pupille der Messanordnung
verursacht bei unendlich-plankorrigierten Objektiven nur einen wellenlängenabhängigen Bildversatz
ohne zusätzliche
Aberrationsveränderungen.
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Weitere
Vorteile und vorteilhafte Ausführungsformen
der Erfindung sind Gegenstand der nachfolgenden Figuren sowie deren
Beschreibungen, bei deren Darstellung zugunsten der Übersichtlichkeit
auf eine maßstabsgetreue
Wiedergabe verzichtet wurde.
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Es
zeigen im Einzelnen:
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1 schematisch
die Entstehung eines axialen Farbquerfehlers
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2a–2d schematisch die Auswirkungen des axialen
Farbquerfehlers
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3 schematisch
die Anordnung eines Kompensators in der Pupille des Objektivs
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4 schematisch
eine erfindungsgemäße Messanordnung
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5 schematisch
eine weitere erfindungsgemäße Messanordnung
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6a–6c eine schematisch Darstellung mögliche Kompensatoren
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7 schematisch
den Ablauf der erfindungsgemäßen Justage
des Kompensators
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Bei
der Overlay-Messung zur Bestimmung des Overlay-Fehlers wird die
Position des Zentrums zweier Boxen bestimmt. Diese Boxen liegen,
wie etwa aus der US 2004/0207849 A1 bekannt ist, in unterschiedlichen
Ebenen des Wafers. Im Allgemeinen unterscheiden sich die Boxen in
ihrer Farbe, da in den Schichten unterschiedlichen Materialien eingesetzt
werden. Sofern die Schichten exakt zueinander positioniert sind,
liegen auch die Zentren der Boxen exakt übereinander, so dass mit dieser
Messung überprüft werden
kann, ob die Strukturen in den Schichten zueinander ausreichend
exakt positioniert sind. Dies ist besonders wichtig, da bereits
kleine Abweichungen zu einer Fehlfunktion des Chips führen können.
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Weist
das abbildende System, bestehend aus Objektiv 14, Tubuslinse 18 und
optionaler Nachvergrößerung 24,
allerdings einen axialen Farbquerfehler auf, so wird ein Überlagerungsfehler
detektiert, der zu einer Fehlinterpretation des Messergebnisses führt. In 1 ist
ein Objektiv 14 gezeigt, in das weißes Licht 38 einfällt. Als
typischer axialer Farbquerfehler ist ausgangsseitig des Objektivs 14,
also gegenüber
der Pupille 40, ein wellenlängenabhängiger Versatz des Auftreffens
der Strahlung auf der y-Ebene festzustellen. Schematisch ist dargestellt,
dass die Strahlung mit roter Wellenlänge R, die Strahlung mit grüner Wellenlänge G und
die Strahlung mit blauer Wellenlänge
B an unterschiedlichen Positionen der y-Richtung der Bildebene 42 auftreffen.
Im Gegensatz zu manch anderen Bildfehlern ist der axiale Farbquerfehler
bereits in der Bildmitte zu erkennen.
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In 2a ist die tatsächliche Lage eines grünen Objekts
dargestellt. Hier kann eine Sensoreinheit, etwa eine CCD-Kamera
so justiert werden, dass das Bild des Objektes in der Bildmitte
zu liegen kommt, wie in 2c gezeigt.
Liegt nun ein axialer Farbquerfehler vor, so ist, wie in 2b dargestellt, für ein blaues Objekt eine Verschiebung
in positive y-Richtung zu erkennen. Entsprechend wird ein rotes Objekt
in negative y-Richtung verschoben, wie in 2d dargestellt.
Die Wirkung des axialen Farbquerfehlers besteht demgemäß darin,
dass sich abhängig
von der Farbe des Objekts ein Bildversatz von Δy ergibt. Diese Verschiebung
beeinflusst die Messung immer dann erheblich, wenn gleichzeitig
mehrere Farben dargestellt werden sollen, da in diesem Fall eine
Kompensation durch eine Neuzentrierung der CCD-Kamera nicht möglich ist.
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Erfindungsgemäß hat sich
nun gezeigt, dass das Verkippen der Wellenfront in der Pupille des
optischen Systems, bei unendlich-plankorrigierten Objektiv, nur
zu einem Bildversatz führt,
ohne dass eine zusätzliche
Aberration eingeführt
werden würde.
Damit lässt
sich der axiale Farbquerfehler dadurch kompensieren, dass ein Kompensator 22 eingefügt wird, der
eine wellenlängenabhängige Verkippung
der Wellenfront verursacht. Wie in 3 dargestellt
wird dieser Kompensator 22 bevorzugt in der Pupille 40 des
Objektivs 14 vorgesehen. Denn der axiale Farbquerfehler
des Objektivs 14 kann dadurch kompensiert werden. Mit dem
Kompensator 22 erfolgt bereits eine wellenlängenabhängige Verkippung
der Wellenfronten der weißen
Eingangstrahlung 38. Dies entspricht aber gerade einem
Bildversatz, der dann wellenlängenabhängig ist.
Der Kompensator 22 wird gerade so ausgelegt, dass die Verkippung
der Wellenfronten entgegengesetzt gleich dem Bildversatz ist, der
im Objektiv 14 durch den axialen Farbquerfehler verursacht
wird. Damit wird der axiale Farbquerfehler im Objektiv 14 wieder
korrigiert. Wie in 3 dargestellt wird der Kompensator
bevorzugt in der Pupille 40 angeordnet. Besonders, wenn
dies nicht zugänglich
ist, kann der Kompensator 22 auch an einer anderen Stelle
im Strahlengang der Messanordnung 10 vorgesehen werden.
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In 4 ist
hierzu eine Messanordnung 10 dargestellt. Diese weist eine
Beleuchtungseinrichtung 12 auf, aus der Licht auf einen
Auflichtteiler 13 auftrifft. Das Beleuchtungslicht für das Objekt 16, also
den Wafer, tritt durch den Kompensator 22 und gelangt über das
Objektiv 14 auf das Objekt 16. Der Kompensator 22 ist
dabei so ausgeführt,
dass er den axialen Farbquerfehler des Objektivs 14 kompensiert und
ist zwischen der Tubuslinse 18 und dem Objektiv 14 auf
der Objektivseite des Auflichtteilers 13 positioniert.
Zwischen der Tubuslinse 18 und der Sensoreinrichtung 20,
die typischerweise als CCD-Sensor
oder CCD-Kamera ausgeführt
ist, kann optional eine Nachvergrößerungseinrichtung 24 vorgesehen
werden.
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Ein
alternative Anordnung ist in 5 dargestellt.
Diese weist wieder eine Beleuchtungseinrichtung 12 auf,
aus der Licht auf einen Auflichtteiler 13 auftrifft. Das
Beleuchtungslicht für
das Objekt 16, also den Wafer, gelangt über das Objektiv 14 auf
das Objekt 16. Ein Kompensator 22 ist zwischen
der Tubuslinse 18 und dem Objektiv 14 auf der
Tubuslinsenseite des Auflichtteilers 13 positioniert und
dabei so ausgeführt,
dass er den Axialen Farbquerfehler des Objektivs 14 kompensiert
und. Zwischen der Tubuslinse 18 und der Sensoreinrichtung 20,
die typischerweise als CCD-Sensor oder CCD-Kamera ausgeführt ist,
kann wiederum optional eine Nachvergrößerungseinrichtung 24 vorgesehen
werden.
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In 6 sind
unterschiedliche Ausführungsformen
des Kompensators 22 dargestellt. So kann der Kompensator 22,
wie in 6a gezeigt, ein Prisma 26 oder
Keilplatte aufweisen, die bevorzugt in der Systempupille positioniert
wird.
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Das
Prisma zerlegt einfallendes weißes
Licht 38 in seine spektralen Anteile, die exemplarisch
wieder als R, G und B dargestellt sind. In einem derartigen Prisma
erfolgt allerdings auch ein Verkippen der Hauptwellenlänge, was
allerdings einfach durch eine geeignete Positionierung der CCD-Kamera
wieder kompensiert werden kann.
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Wie
in 6b dargestellt kann auch ein Doppelprisma 28 verwendet
werden. Dieses weist zwei Prismen 29, 31 auf,
die bevorzugt aus Glas gefertigt sind und sich nur in ihrer Dispersion
unterscheiden. Die beiden Gläser
werden miteinander verklebt. Der Brechungsindex solcher Gläser ist
für Grün gleich,
so dass hier keine Verkippung der Hauptfarbe erfolgt und dementsprechend
auf eine Neupositionierung der CCD-Kamera verzichtet werden kann.
Somit muss die Kamera während
der Justierung nicht nachgeführt
werden.
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In 6c ist ein variables Prisma gezeigt, das
ebenfalls zur Korrektur des axialen Farbquerfehlers eingesetzt werden
kann. Dieses ist immer dann von Vorteil, wenn unterschiedliche Objektive 14 verwendet
werden sollen. Denn der axiale Farbquerfehler ist von Objektiv zu
Objektiv verschieden. Mit dem Einsatz eines variablen Prismas 30 kann
auf diesen Umstand reagiert werden und die spektral unterschiedliche
Verkippung der Wellenfronten entsprechend den Eigenschaften des
jeweils eingesetzten Systems dadurch eingestellt werden, dass unterschiedliche
Keilwinkel der Außenflächen der
Elemente 32 und 34 zueinander gewählt werden.
Die Elemente 32 und 34 können nach dem Erreichen des gewünschten
Effekts, d. h. nach dem Auffinden des besten Keilwinkels in ihrer
Lage zueinander fixiert werden. Hierzu können die Elemente mit einem
Klebstoff 36, bevorzugt einem UV-aktivierbaren Klebstoff dauerhaft
miteinander verbunden werden. Es wird also zunächst mit dem noch nicht ausgehärteten Klebstoff 36 die
Justierung durchgeführt
und gewünschte
Position gesucht. Ist diese Position gefunden, dann kann der Klebstoff 36 etwa
durch einen UV-Blitz aktiviert werden.
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Beim
Aufbau der Messanordnung 10 (4) wird
zu einem geeigneten Zeitpunkt auch der Kompensator 22 positioniert.
Idealerweise wird der Kompensator 22 in der Objktivpupille 40 positioniert.
Hier besteht allerdings häufig
das Problem, dass das Objektiv als abgeschlossenes Bauteil nicht
zugänglich ist.
Daher kann der Kompensator 22 auch, wie in 4 und 5 gezeigt,
zwischen dem Objektiv 14 und der Tubuslinse 18 positioniert
werden. Nach der Positionierung wird der axiale Farbfehler der gesamten
Messanordnung 10 mit Hilfe des Kompensators 22 dadurch
kompensiert, dass der Kompensator 22 justiert wird. Die
Justage erfolgt dabei mit Hilfe eines Testwafers, der eine bekannte
Struktur aufweist.
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In 7 ist
der Verfahrensablauf zur Justierung des Kompensators 22 schematisch
dargestellt. Zunächst
wird im Schritt 44 in der Messanordnung 10 ein
neuer Kompensator 22 mit einem variablem Prisma 30 und
einem Kleber 36 im Schritt 44 montiert. Im Schritt 46 wird
ein Testwafer geladen, d. h. so in der Messanordnung positioniert,
dass er untersucht werden kann. Im Schritt 48 werden dann
mit der Messanordnung 10 Werte erfasst, aus denen sich
die Richtung und der Betrag des Farbquerfehlers in axialer Richtung
bestimmen lassen. Im Schritt 50 wird nun geprüft, ob sich
diese Werte im Rahmen eines vorgegebenen, für die Messanordnung 10 akzeptablen Wertebereichs
befinden. Ist dies der Fall, so wird im Schritt 52 die
aktuelle Position der sphärischen
Elemente 32, 34 fixiert, wobei insbesondere der
Klebstoff 36 etwa durch UV-Bestrahlung ausgehärtet wird. Je
nach Klebersystem muss dabei so lange mit UV-Licht bestrahlt werden,
bis der Klebstoff ausgehärtet
ist oder lediglich das Aushärten
mit einem UV-Blitz initiiert werden. Außerdem können auch andere Klebstoffe
verwendet werden, bevorzugt jedoch solche, die nach einer Initiierung
schnell aushärten. Schließlich wird
im Schritt 54 der Testwafer wieder entladen.
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Zeigt
sich im Schritt 50, dass die im Schritt 48 ermittelten
Werte des axialen Farbquerfehlers außerhalb des vorgegebenen, für die Messanordnung 10 akzeptablen
Wertebereichs befinden, so ist eine Justierung des Kompensator 22 erforderlich.
Hierzu wird im Schritt 56 die Richtung und der Betrag für die Änderung
des Kompensators 22 berechnet. Im darauf folgenden Schritt 58 wird
der Kompensator 22 neu eingestellt. Hierzu kann der Keilwinkel
der beiden Elemente 32, 34 so geändert werden,
dass der Fehler kompensiert wird. Anschließend wird im Schritt 48 erneut
die Richtung und der Betrag des axialen Farbquerfehlers gemessen.
Da der Justageprozess nicht linear verläuft ist es erforderlich, die
Korrekturschleife 60 Iterativ zu durchlaufen, um ein optimales Ergebnis
erzielen zu können.
Die Schleife 60 wird dann verlassen, sobald im Schritt 50 festgestellt
wird, dass sich die Werte im Rahmen eines vorgegebenen, für die Messanordnung 10 akzeptablen
Wertebereichs befinden.
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Ist
der Kompensator mit Aktoren (z.B. Piezos) ausgestattet, dann kann
der Justagevorgang automatisch von einem Rechner gesteuert werden.
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Grundsätzlich ist
es auch möglich,
insbesondere für
Messanordnungen 10, für
die niedrigere Ansprüche
bestehen, die Korrektur nicht iterativ in der Schleife 60 durchzuführen, sondern
auf einen Kompensator 22 zurückzugreifen, der einem Satz
vorgefertigter, möglicher
Kompensatoren entnommen wird. Hierbei dient die Feststellung des
Betrags und der Richtung des axialen Farbquerfehlers im Schritt 48 der
Bestimmung des zu verwendenden Kompensators aus dem Satz vorgefertigter
Kompensatoren und seiner Einbauorientierung. Die Anzahl und die
Abstufung der Kompensatoren innerhalb eines Satzes ergibt sich dabei
aus den jeweils anzuwendenden Toleranzbetrachtungen der Optik.
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Mit
der vorgeschlagenen Messanordnung und dem vorgeschlagenen Verfahren
ist es möglich, die
Qualität
einer Messanordnung zum Messen von Overlay-Fehlern bei der Untersuchung
eines Objektes deutlich zu verbessern. Der axiale Axialen Farbquerfehler
kann für
ein Objektiv und darüber
hinaus auch für
das Gesamtsystem kompensiert werden. Im Gegensatz zum bekannten
Setzten im Objektiv stört das
vorgeschlagene Verfahren nicht die bereits durchgeführten Korrekturen
von Astigmatismus und Coma. Außerdem
gewährleistet
dieses Verfahren grundsätzlich
die Konvergenz, so dass Fehler, die auch in anderen optischen Komponenten
als dem Objektiv auftreten mitberücksichtigt werden.
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- 10
- Messanordnung
- 12
- Beleuchtungseinrichtung
- 13
- Auflichtteiler
- 14
- Objektiv
- 16
- Objekt
- 18
- Tubuslinse
- 20
- Sensoreinheit
- 22
- Kompensator
- 24
- Nachvergrößerungseinheit
- 26
- Prisma
- 28
- Doppelprisma
- 30
- variables
Prisma
- 32
- plankonkaves
Element
- 34
- plankonvexes
Element
- 36
- Klebstoff
- 38
- weißes Licht
- 40
- Pupille
- 42
- Bildebene
- 44
- Monatage
neuer Kompensator
- 46
- Montage
Teststruktur
- 48
- Ermitteln
der Werte des axialen Farbquerfehlers
- 50
- Werte
im zulässigen
Wertebereich?
- 52
- Klebstoff
aushärten
- 54
- Teststruktur
entladen
- 56
- Änderung
berechnen
- 58
- Kompensator
neu einstellen
- 60
- Korrekturschleife
- R
- rotes
Licht (allgemein Wellenlänge
1)
- G
- grünes Licht
(allgemein Wellenlänge
2)
- B
- blaues
Licht (allgemein Wellenlänge
3)