DE10150955C1 - Vertikaler Hall-Sensor - Google Patents
Vertikaler Hall-SensorInfo
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft einen vertikalen Hall-Sensor, bei dem sich ein elektrisch leitfähiges Gebiet zur Bildung eines Hall-Sensorelementes senkrecht zur Oberfläche eines Substrates in das Substrat erstreckt und mehrere erste Anschlussbereiche entlang einer Seitenfläche an der Oberfläche des Substrates aufweist. Der vorliegende Hall-Sensor zeichnet sich dadurch aus, dass zumindest ein zweites gleichartiges Hall-Sensorelement parallel zum ersten Hall-Sensorelement im Substrat angeordnet und derart mit dem ersten Hall-Sensorelement verschaltet ist, dass beim Betrieb des Hall-Sensors mit einer Spinning-Current-Technik in jeder Spinning-Current-Phase die gleiche Kombination von Steuerstromverteilungen im Hall-Sensor erhalten wird. DOLLAR A Der vorliegende vertikale Hall-Sensor ermöglicht beim Betrieb mit einer Spinning-Current-Technik eine deutliche Reduzierung des Offsets ohne die Notwendigkeit einer Gewichtung der einzelnen Spinning-Current-Phasen.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen
vertikalen Hall-Sensor, bei dem sich ein erstes
elektrisch leitfähiges Gebiet zur Bildung eines ersten
Hall-Sensorelementes senkrecht zur Oberfläche eines
Substrates in das Substrat erstreckt und mehrere
Anschlussbereiche entlang einer Seitenfläche an der
Oberfläche des Substrates aufweist, wie bspw. aus der
EP 954085 A1 bekannt.
In vielen technischen Bereichen ist es erforder
lich, die Stellung von Schaltern oder Stellgliedern
berührungslos und damit verschleißfrei zu erfassen. Der
Einsatz und die räumliche Erfassung von Magnetfeldern
bietet in diesem Bereich Vorteile gegenüber einer
optischen Erfassung, da auf Magnetfeldern basierende
Techniken im Gegensatz zu optischen Verfahren
wesentlich unempfindlicher gegenüber Verschmutzungen
sind.
Für die räumliche Erfassung von Magnetfeldern
werden Magnetfeld-Sensoren wie bspw. Hall-Sensoren
eingesetzt. Derartige Sensoren lassen sich selbst
verständlich für andere Anwendungsbereiche, bspw. in
einem elektronischen Kompass ohne mechanische
Komponenten, verwenden.
Integrierte Magnetfeld-Sensoren auf Halbleiter-
Basis, die den Hall-Effekt nutzen, sind in der
Literatur und der Sensor-Industrie hinreichend bekannt.
Ein Hall-Sensor besteht in der Regel aus einem
elektrisch leitfähigen, plattenförmigen Gebiet, das
über vier Kontaktelektroden mit einer externen
Ansteuerschaltung verbunden ist. Von den vier Kontakt
elektroden eines Hall-Sensors werden zwei als
Steuerstrom-Kontaktelektroden zur Erzeugung eines
Stromflusses durch das elektrisch leitfähige Gebiet und
zwei als Mess-Kontaktelektroden zur Erfassung der Hall-
Spannung genutzt, die bei einem anliegenden Magnetfeld
senkrecht zur Richtung des Stromflusses in dem
elektrisch leitfähigen Gebiet entsteht.
Bei in CMOS-Technik realisierten Hall-Sensoren
besteht das elektrisch leitfähige Gebiet in der Regel
aus einem n-dotierten aktiven Halbleiterbereich auf
bzw. in einem p-dotierten Halbleitersubstrat.
Bei CMOS-Prozessen zur Herstellung von Halbleiter
strukturen treten produktionsbedingt häufig Inhomogeni
täten oder Störungen in dem Halbleitermaterial des
aktiven Bereichs auf. Diese Inhomogenitäten lassen sich
auch mit aufwendigen Herstellungsverfahren nicht
vollständig vermeiden. Aufgrund der Inhomogenitäten und
anderer materialbedingter Effekte tritt bei bekannten
Hall-Sensoren ein unerwünschter Offset des Sensor
signals auf. Dieser Offset führt zum Auftreten eines
Sensorsignals auch dann, wenn kein Magnetfeld an dem
elektrisch leitfähigen bzw. aktiven Gebiet anliegt.
Aus dem Stand der Technik ist es im Zusammenhang
mit dem Einsatz von lateralen Hall-Sensoren bekannt,
den Offset des Sensorsignals durch Einsatz des sog.
Spinning-Current-Verfahrens zu verringern bzw.
vollständig zu unterdrücken (vgl. z. B. das Buch "Rotary
Switch and Current Monitor by Hall-Based Microsystems"
der Autoren Ralph Steiner Vanha, Verlag: Physical
Electronics Laboratory, Swiss Federal Institute of
Technology (ETH) Zürich, 1999, Seiten 39-53). Das
Spinning-Current-Verfahren besteht darin, die Mess
richtung am Hall-Sensor ständig mit einer bestimmten
Taktfrequenz um bspw. 90° zyklisch weiter zu drehen und
über alle Messsignale einer vollen Drehung um 360° zu
summieren. Bei einem lateralen Hall-Sensor mit vier
Kontaktelektroden, von denen sich jeweils zwei
gegenüber liegen, wird daher jede der Kontaktelektroden
je nach Spinning-Current-Phase sowohl als Steuerstrom-
Kontaktelektrode als auch als Mess-Kontaktelektrode zur
Abnahme des Hall-Signals genutzt. So fließt in einer
Phase bzw. einem Zyklus der Steuerstrom von einer zu
der gegenüber liegenden Kontaktelektrode, wobei die
Hall-Spannung an den quer dazu liegenden Kontakt
elektroden abgegriffen wird. Beim nächsten Zyklus wird
dann die Messrichtung um 90° weiter gedreht, so dass
die Kontaktelektroden, die im vorangehenden Zyklus zur
Abnahme der Hall-Spannung eingesetzt wurden, nunmehr
zur Einspeisung des Steuerstroms dienen. Durch die
Summation über alle vier Zyklen bzw. Phasen heben sich
die Offset-Spannungen annähernd gegenseitig auf, so
dass nur die tatsächlich magnetfeldabhängigen Anteile
des Signals übrig bleiben. Voraussetzung hierfür ist
jedoch eine möglichst symmetrische Anordnung der
Kontaktelektroden, wie dies bei lateralen Hall-Sensoren
möglich ist. Laterale Hall-Sensoren, bei denen sich der
elektrisch leitfähige Bereich parallel zur Oberfläche
eines Halbleitersubstrates erstreckt, eignen sich
allerdings nur zur Messung von Magnetfeldkomponenten,
die senkrecht zu dieser Oberfläche gerichtet sind.
Zur räumlichen Erfassung eines Magnetfeldes werden
jedoch auch Sensoren benötigt, die für Feld-Komponenten
in den beiden Raumrichtungen parallel zur Substrat-
Oberfläche empfindlich sind. Für die Realisierung
dieser so genannten vertikalen Hall-Sensoren sind
Lösungen bekannt, die den Einsatz von Standard-
Halbleitertechnologien zu deren Herstellung ermög
lichen. Ein Beispiel ist der von Popovic und anderen
vorgeschlagene vertikale Hall-Sensor, wie er bspw. aus
der Fig. 1 der EP 0954085 A1 bekannt ist. Diese Druck
schrift zeigt weiterhin Hall-Sensoren, die sich aus
drei oder mehr in gleichmäßigem Winkelabstand zuein
ander angeordneten Armabschnitten zusammen setzen. Die
mit derartigen Hall-Sensoren erzeugbaren Hall-Span
nungen können verstärkt und direkt als Leistungssignal
für einen Elektromotor Verwendung finden.
Bei dem vertikalen Hall-Sensor der Fig. 1 der EP 09540085 A1,
der durch konforme Abbildung aus bekannten
Geometrien lateraler Hall-Sensoren erhalten wird,
erstreckt sich ein elektrisch leitfähiges Gebiet
annähernd senkrecht zur Oberfläche eines Substrates in
dieses hinein, wobei sämtliche Anschlussbereiche
entlang einer Seitenfläche des elektrisch leitfähigen
Gebietes an der Oberfläche des Substrates liegen. Fig.
1 der vorliegenden Patentanmeldung zeigt schematisch
den Aufbau dieses vertikalen Hall-Sensors.
Bei einem derartigen vertikalen, integrierten
Hall-Sensor ist allerdings ein symmetrischer Aufbau
nicht mehr möglich, da nur die Oberfläche des
Substrates, in der Regel eines Halbleiter-Chips, für
die Anschlussbereiche bzw. Kontaktelektroden zur
Verfügung steht. Beim Betrieb des Hall-Sensors mit der
Spinning-Current-Technik unterscheiden sich die
Steuerstromverteilungen in dem elektrisch leitfähigen
Gebiet für die einzelnen Spinning-Current-Phasen
deutlich, so dass sehr unterschiedliche Empfindlich
keiten des Hall-Sensors in den einzelnen Phasen
auftreten. Der resultierende Offset der einzelnen
Phasen lässt sich daher nicht so gut kompensieren wie
bei einem lateralen Hall-Sensor.
Zur Verbesserung der Offset-Kompensation ist es
bekannt, die in den einzelnen Spinning-Current-Phasen
erfassten Hall-Spannungen durch eine geeignete
vorzeichenrichtige und gewichtete Summierung oder
Subtraktion auszuwerten, um auf diese Weise den in den
einzelnen Phasen enthaltenen Offset weiter zu
reduzieren. Diese Zusatzauswertung ist jedoch aufwendig
und erfordert für jeden einzelnen Hall-Sensor einen
Kalibrier-Zyklus, da die erforderliche Gewichtung von
Sensorelement zu Sensorelement schwankt und deshalb
erst durch Messung bestimmt werden muss.
Ausgehend von diesem Stand der Technik besteht die
Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, einen
vertikalen Hall-Sensor anzugeben, der bei einem
Spinning-Current-Betrieb einen deutlich reduzierten
Offset ohne Gewichtung der einzelnen Spinning-Current-
Phasen aufweist.
Die Aufgabe wird mit dem vertikalen Hall-Sensor
gemäß Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausge
staltungen des Hall-Sensors sind Gegenstand der Unter
ansprüche.
Der vorgeschlagene vertikale Hall-Sensor, bei dem
sich ein erstes elektrisch leitfähiges Gebiet zur
Bildung eines ersten Hall-Sensorelementes senkrecht zur
Oberfläche eines Substrates in das Substrat erstreckt
und mehrere Anschlussbereiche entlang einer
Seitenfläche an der Oberfläche des Substrates aufweist,
zeichnet sich dadurch aus, dass zumindest ein zweites,
gleichartiges Hall-Sensorelement parallel zum ersten
Hall-Sensorelement im Substrat angeordnet und derart
mit dem ersten Hall-Sensorelement verschaltet ist, dass
beim Betrieb des Hall-Sensors mit einer Spinning-
Current-Technik in jeder Spinning-Current-Phase die
gleiche Kombination von Steuerstromverteilungen im
Hall-Sensor erhalten wird.
Durch diese Anordnung zumindest eines weiteren
Hall-Sensorelementes parallel zum ersten Hall-Sensor
element und die geeignete Verschaltung der beiden
Elemente wird eine deutliche Verbesserung der Symmetrie
des Hall-Sensors und der einzelnen Spinning-Current-
Phasen erreicht. Durch die Erhöhung der Symmetrie wird
der Unterschied in der Hall-Empfindlichkeit der
einzelnen Spinning-Current-Phasen deutlich reduziert
oder eliminiert, so dass eine anschließende Gewichtung
der einzelnen Messwerte für eine Verringerung des
Offset-Signals nicht mehr erforderlich ist.
Der vorliegende Hall-Sensor lässt sich insbeson
dere sehr gut mit Hall-Sensorelementen wie die in der
Beschreibungseinleitung angeführten von Popovic und
Baltes einsetzen, bei denen an der Oberfläche des
Substrates fünf Anschlussbereiche in einer Reihe
angeordnet sind. Die beiden äußersten Anschlussbereiche
sind dabei elektrisch leitend miteinander verbunden.
Die auf diese Weise gebildeten vier getrennten
Anschlüsse werden mit den in gleicher Weise gebildeten
vier Anschlüssen des zweiten Hall-Sensorelementes
verschaltet. Die Verschaltung erfolgt durch Verbinden
eines Anschlusses des ersten Hall-Sensorelementes mit
dem jeweils in der Reihe vorangehenden oder nach
folgenden des zweiten Hall-Sensorelementes. Die
weiteren Anschlüsse werden in gleicher Weise bzw.
Richtung wie der erste Anschluss miteinander verbunden.
Durch dieses zyklische Vertauschen bei der Verbindung
der Anschlüsse der beiden Hall-Sensorelemente wird ein
elektrisch symmetrischer Hall-Sensor gebildet. Das
Ergebnis ist eine Parallelschaltung von in diesem Fall
zwei Hall-Sensorelementen, die elektrisch um 90°
zueinander gedreht sind. Selbstverständlich muss bei
der Verschaltung darauf geachtet werden, dass die bei
der Messung zu erfassende Hall-Spannung durch die
Verschaltung nicht kompensiert wird.
Vorzugsweise werden bei einem vertikalen Hall-
Sensor mit vier Anschlüssen - entsprechend vier
möglichen Spinning-Current-Phasen - insgesamt vier
zueinander parallele Hall-Sensorelemente eingesetzt,
die entsprechend verschaltet werden, um in jeder
Spinning-Current-Phase die gleiche Kombination der
Steuerstromverteilungen und der Steuerstromrichtungen
zu erhalten. Bei einer derartigen Kombination von vier
Hall-Sensorelementen mit jeweils vier Anschlüssen zu
einem vertikalen Hall-Sensor sind alle Spinning-
Current-Phasen - abgesehen von Fertigungstoleranzen der
Einzel-Elemente - elektrisch identisch, da alle
Anschlussbereiche bzw. Kontakte der vier Hall-
Sensorelemente zu insgesamt vier elektrisch identischen
Anschlüssen zusammengefasst sind.
Durch diese Kombination von vier Hall-Sensor
elementen wird sichergestellt, dass in jeder Spinning-
Current-Phase jedes Hall-Sensorelement mit einer
anderen Phase betrieben wird und sich jeder an den
zusammengefassten Anschlüssen abgegriffene Messwert
elektrisch aus allen vier Spinning-Current-Phasen
gleichzeitig zusammen setzt. Dies entspricht der
maximal möglichen elektrischen Symmetrie des Hall-
Sensors, so dass alle vier Spinning-Current-Phasen im
Gegensatz zum bekannten Hall-Sensor mit nur einem Hall-
Element gleichwertig gewichtet werden können. Eine
Skalierung oder Kalibrierung der einzelnen Phasen ist
dabei nicht mehr erforderlich. Durch diese Symmetri
sierung wird der Unterschied in der Hall-Empfindlich
keit der Spinning-Current-Phasen vollständig
eliminiert, so dass eine Gewichtung der Messwerte zur
Offset-Korrektur nicht mehr erforderlich ist.
Auch wenn die vorliegende Erfindung in der
vorangegangenen Beschreibung anhand von Hall-Sensor
elementen mit fünf Anschlussbereichen und vier
Anschlüssen erläutert wurde, bei denen insgesamt vier
Phasen des Spinning-Current möglich sind, so ist der
vorliegende vertikale Hall-Sensor selbstverständlich
auch mit Hall-Sensorelementen realisierbar, die mehr
als vier Anschlüsse aufweisen. Verallgemeinert gilt
hierbei, dass bei Einsatz von Hall-Sensorelementen, die
sich mit n Spinning-Current-Phasen betreiben lassen,
zumindest eine Anzahl von n/2 derartiger Hall-Sensor
elemente parallel nebeneinander angeordnet und
entsprechend miteinander verschaltet sein müssen, um
für jede Spinning-Current-Phase die gleiche Kombination
von Steuerstromverteilungen im Gesamtelement, d. h. dem
Hall-Sensor, zu erreichen. Vorzugsweise werden hierzu
jedoch n Hall-Sensorelemente eingesetzt, so dass in
jeder Spinning-Current-Phase nicht nur die gleichen
Steuerstromverteilungen sondern auch die gleichen
Steuerstromrichtungen im Hall-Sensor vorliegen.
Der vorgeschlagene vertikale Hall-Sensor wird
vorzugsweise in CMOS-Technologie realisiert, wobei die
elektrisch leitfähigen Gebiete als n-dotierte Halb
leiterbereiche in einem p-dotierten Halbleiterchip
ausgebildet sein können.
Der vorliegende vertikale Hall-Sensor wird
nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen in
Verbindung mit den Zeichnungen nochmals kurz erläutert.
Hierbei zeigen:
Fig. 1 ein Beispiel für einen vertikalen Hall-
Sensor des Standes der Technik sowie der
zugehörigen Steuerstromverteilungen in
zwei Spinning-Current-Phasen;
Fig. 2 ein erstes Beispiel für den Aufbau des
vorliegenden vertikalen Hall-Sensors in
Draufsicht; und
Fig. 3 ein zweites Beispiel für den Aufbau des
vorliegenden vertikalen Hall-Sensors in
Draufsicht.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel für den Aufbau eines
bekannten vertikalen Hall-Sensors, wie er von Popovic
und Baltes vorgeschlagen wurde. In Fig. 1a ist hierbei
im linken Teil eine Seitenansicht des Hall-Sensors
parallel zur Oberfläche des Halbleiter-Chips, in dem
der Sensor integriert ist, dargestellt. Die Figur zeigt
das elektrisch leitfähige Gebiet 2, das sich senkrecht
zur Oberfläche des Chips 1 in diesen Chip erstreckt.
Das elektrisch leitfähige Gebiet 2 ist plattenförmig
ausgebildet, so dass seine Länge und Tiefe, die im
linken Teil der Fig. 1a zu erkennen sind, deutlich
größer als seine im rechten Teil der Figur erkennbare
Breite sind. Dies entspricht der typischen Ausge
staltung des elektrisch leitfähigen Gebietes eines
Hall-Sensorelementes. Selbstverständlich kann die
Breite des elektrisch leitfähigen Gebietes eines Hall-
Sensors für dessen Funktion auch größer als die Länge
und Tiefe ausfallen.
In der Figur sind weiterhin die elektrischen
Anschlussbereiche 3 entlang der Seitenfläche des
elektrisch leitfähigen Gebietes 2 an der Oberfläche des
Chips 1 zu erkennen. Die beiden äußeren
Anschlussbereiche sind elektrisch leitend miteinander
verbunden und bilden einen gemeinsamen äußeren
Anschluss D. Die weiteren Anschlussbereiche bilden
entsprechend ihrer Reihenfolge die elektrischen
Anschlüsse A, B und C. Der gesamte Hall-Sensor, der
sich nur aus einem einzelnen Hall-Sensorelement
zusammen setzt, ist im rechten Teil der Fig. 1a
nochmals in Draufsicht, d. h. senkrecht auf die Chip-
Oberfläche, zu erkennen. In dieser Darstellung sind
insbesondere die entlang der Seitenfläche des
elektrisch leitfähigen Gebietes 2 ausgebildeten
Anschlussbereiche 3 zu erkennen, die insgesamt zu den
vier Anschlüssen A-D des Hall-Sensors zusammengefasst
sind.
Beim Betrieb dieses bekannten vertikalen Hall-
Sensors mit einer Spinning-Current-Technik wird in
einer ersten Spinning-Current-Phase durch Anlegen einer
Steuerspannung zwischen den Anschlüssen D und B ein
Steuerstrom IS erzeugt, der in dem elektrisch leit
fähigen Gebiet 2 eine Steuerstromverteilung
entsprechend der schematischen Darstellung der Fig. 1a
ergibt. Hierbei fließt jeweils ein Steuerstrom der
Größe IS/2 vom Anschluss B zu den beiden Anschluss
bereichen des Anschlusses D. Bei Vorliegen eines
magnetischen Feldes B parallel zur Chip-Oberfläche, wie
dies ebenfalls in der Fig. 1a schematisch dargestellt
ist, entsteht eine Hall-Spannung UH zwischen den
Anschlüssen C und A, die mit dem Pfeil angedeutet ist.
Durch Abgreifen der beiden Anschlüsse A und C kann die
Hall-Spannung UH gemessen und daraus die Größe des
Magnetfeldes B berechnet werden.
In der nächsten Spinning-Current-Phase wird der
Steuerstrom zwischen den beiden Anschlüssen A und C
angelegt, wobei ein Steuerstrom IS zwischen diesen
beiden Anschlüssen durch das elektrisch leitfähige
Gebiet 2 fließt, wie dies im linken Teil der Fig. 1b
angedeutet ist. Die Fig. 1b zeigt die gleiche
Anordnung in Seitenansicht (links) und Draufsicht
(rechts) wie die Fig. 1a, jedoch beim Betrieb mit
einer anderen Spinning-Current-Phase. Die unter
schiedliche Steuerstromverteilung im elektrisch
leitfähigen Gebiet 2 in den beiden unterschiedlichen
Spinning-Current-Phasen ist aus den Fig. 1a und 1b
deutlich zu erkennen. Die beiden verbleibenden
Spinning-Current-Phasen ergeben sich analog aus den
beiden ersten Phasen durch Umkehrung der Strom- und
Spannungs-Richtungen.
Durch diese unterschiedliche Verteilung des
Steuerstroms kommt es zu unterschiedlichen Sensor-
Empfindlichkeiten in den einzelnen Phasen und der
resultierende Offset der Phasen lässt sich nicht mehr
gut kompensieren.
Zur Verbesserung der Kompensation des Offsets
eines derartigen vertikalen Hall-Sensors wird
erfindungsgemäß ein Hall-Sensor vorgeschlagen, der
zumindest ein zweites Hall-Sensorelement 5 parallel zum
ersten Hall-Sensorelement 4 aufweist. Beide Hall-
Elemente 4, 5 sind dabei zu einem symmetrisierten
Element verschaltet. In der Fig. 2 ist in Draufsicht
eine derartige Verschaltung zu erkennen, die zu einer
deutlichen Reduzierung des gemessenen Offsets führt.
Die Fig. 2 zeigt in Draufsicht zwei Seitenflächen
elektrisch leitfähiger Gebiete 2, die sich senkrecht in
ein Halbleiter-Substrat 1, insbesondere einen Halb
leiter-Chip, erstrecken. Entlang dieser Seitenflächen
sind bei jedem der Hall-Sensorelemente 4, 5 fünf
Anschlussbereiche 3 ausgebildet, von denen jeweils die
äußersten elektrisch leitfähig miteinander verbunden
sind. Das erste Hall-Sensorelement 4 entspricht hierbei
im Aufbau exakt dem Hall-Sensorelement der Fig. 1 und
weist entsprechend die vier Anschlüsse A-D auf. Das
zweite Hall-Sensorelement 5 ist identisch aufgebaut und
derart mit dem ersten Hall-Sensorelement 4 verschaltet,
dass in jeder Spinning-Current-Phase immer die
Kombination der beiden in den Fig. 1a und 1d darge
stellten Steuerstromverteilungen in den beiden Hall-
Sensorelementen 4 und 5 auftritt. Dies wird durch
zyklisches Vertauschen der Anschlüsse in diesem
Beispiel in folgender Weise erreicht. Anschluss A des
Hall-Sensorelementes 4 wird mit Anschluss D des Hall-
Sensorelementes 5 verbunden. Anschluss B des Hall-
Sensorelementes 4 wird mit Anschluss A des Hall-
Sensorelementes 5 verbunden. Anschluss C des Hall-
Sensorelementes 4 wird mit Anschluss B des Hall-
Sensorelementes 5 verbunden und Anschluss D des Hall-
Sensorelementes 4 wird mit Anschluss C des Hall-
Sensorelementes 5 verbunden. Das Ergebnis ist eine
Parallelschaltung zweier Hall-Sensorelemente 4, 5, die
elektrisch um 90° zueinander gedreht sind.
Das gleiche Ergebnis wird mit einer Verschaltung
erreicht, bei dem die Anschlüsse A, B, C und D des
Hall-Sensorelementes 4 mit den Anschlüssen B, C, D bzw.
A des Hall-Sensorelementes 5 verschaltet werden. Eine
andere Verschaltung ist in diesem Falle nicht möglich,
da dann zwar ebenfalls eine Symmetrisierung erreicht
werden kann, sich die in den beiden Hall-Sensorelemen
ten erhaltenen Hall-Spannungen jedoch gegenseitig
kompensieren würden, so dass insgesamt keine mag
netische Empfindlichkeit des Hall-Sensors mehr fest
stellbar wäre.
Fig. 3 zeigt schließlich ein weiteres Beispiel
für die Ausgestaltung des vorliegenden vertikalen Hall-
Sensors, bei dem die Symmetrie noch weiter verbessert
ist. In diesem Beispiel werden vier Hall-Sensorelemente
4, 5, 6 und 7 in einer Weise miteinander verschaltet,
wie sie aus der Fig. 3 und der nachfolgenden Tabelle
ersichtlich ist. Bei dieser Kombination sind alle
Spinning-Current-Phasen sowohl hinsichtlich der
Steuerstromverteilungen als auch hinsichtlich der
Steuerstromrichtungen elektrisch identisch.
Durch diese Verschaltung von vier Einzel-Hall-
Sensorelementen zu einem symmetrischen Hall-Sensor wird
sichergestellt, dass in jedem Fall bzw. in jeder Phase
jeder der vier möglichen Strom-Pfade des Spinning-
Current-Betriebes in je einem Einzel-Hall-Sensorelement
gebildet wird. Das bedeutet, dass sich die vier Phasen
nicht mehr unterscheiden lassen, sofern sich die
Einzel-Hall-Sensorelemente in ihren elektrischen und
magnetischen Eigenschaften nicht zu stark unter
scheiden.
1
Substrat bzw. Halbleiterchip
2
elektrisch leitfähiges Gebiet
3
Anschlussbereiche
4
erstes Hall-Sensorelement
5
zweites Hall-Sensorelement
6
drittes Hall-Sensorelement
7
viertes Hall-Sensorelement
A-D Anschlüsse der Hall-Elemente
A-D Anschlüsse der Hall-Elemente
Claims (5)
1. Vertikaler Hall-Sensor, bei dem sich ein erstes
elektrisch leitfähiges Gebiet (2) zur Bildung
eines ersten Hall-Sensorelementes (4) senkrecht
zur Oberfläche eines Substrates (1) in das
Substrat (1) erstreckt und mehrere Anschluss
bereiche (3) entlang einer Seitenfläche an der
Oberfläche des Substrates (1) aufweist,
dadurch gekennzeichnet,
dass zumindest ein zweites gleichartiges Hall-
Sensorelement (5) parallel zum ersten Hall-
Sensorelement (4) im Substrat (1) angeordnet und
derart mit dem ersten Hall-Sensorelement (4)
verschaltet ist, dass beim Betrieb des Hall-
Sensors mit einer Spinning-Current-Technik in
jeder Spinning-Current-Phase die gleiche
Kombination von Steuerstromverteilungen im Hall-
Sensor erhalten wird.
2. Vertikaler Hall-Sensor nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Verschaltung des zweiten (5) mit dem
ersten Hall-Sensorelement (4) derart ausgeführt
ist, dass jeder Anschlussbereich (3) des ersten
Hall-Sensorelementes (4) mit einem in der
Reihenfolge vorangehenden oder nachfolgenden
Anschlussbereich (3) des zweiten Hall-
Sensorelementes (5) verbunden ist.
3. Vertikaler Hall-Sensor nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass ein drittes (6) und ein viertes gleichartiges
Hall-Sensorelement (7) parallel zum ersten Hall-
Sensorelement (4) im Substrat (1) angeordnet und
derart mit dem ersten Hall-Sensorelement (4)
verschaltet sind, dass beim Betrieb des Hall-
Sensors mit einer Spinning-Current-Technik in
jeder Spinning-Current-Phase die gleiche
Kombination von Steuerstromverteilungen und
Steuerstromrichtungen im Hall-Sensor erhalten
wird.
4. Vertikaler Hall-Sensor nach einem der Ansprüche 1
bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass insgesamt n/2 oder n Hall-Sensorelemente (4,
5, 6, 7) für einen Betrieb des Hall-Sensors mit n
Spinning-Current-Phasen parallel zueinander
vorgesehen und miteinander verschaltet sind.
5. Vertikaler Hall-Sensor nach einem der Ansprüche 1
bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
dass das Substrat (1) ein Halbleitersubstrat ist
und die elektrisch leitfähigen Gebiete (2) durch
dotierte Bereiche in dem Halbleitersubstrat (1)
gebildet sind.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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EP02779161A EP1438755B1 (de) | 2001-10-16 | 2002-10-15 | Vertikaler hall-sensor |
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DE10150955C1 true DE10150955C1 (de) | 2003-06-12 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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AT (1) | ATE288133T1 (de) |
DE (1) | DE10150955C1 (de) |
WO (1) | WO2003036733A2 (de) |
Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006037226B4 (de) * | 2006-08-09 | 2008-05-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Im Messbetrieb kalibrierbarer magnetischer 3D-Punktsensor |
DE202008005860U1 (de) | 2008-04-28 | 2008-07-03 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Wäschebehandlungsgerät |
DE102007041230B3 (de) * | 2007-08-31 | 2009-04-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kalibrierbarer mehrdimensionaler magnetischer Punktsensor sowie entsprechendes Verfahren und Computerprogramm dafür |
EP2192417A3 (de) * | 2008-11-28 | 2010-11-17 | Melexis Tessenderlo NV | Vertikaler Hallsensor |
DE102011101604A1 (de) | 2010-06-02 | 2011-12-08 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Magnetfeldsensor |
DE102006061883B4 (de) * | 2006-01-13 | 2012-07-12 | Denso Corporation | Magnetsensor und Verfahren zur Magnetfelderfassung |
DE102011011247A1 (de) | 2011-02-15 | 2012-08-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Sensoranordnung und Verfahren zur Messung von Magnetfeldern |
EP2546670A2 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-16 | Micronas GmbH | Hallsensor |
EP2546669A2 (de) | 2011-07-14 | 2013-01-16 | Micronas GmbH | Magnetfeldsensor und Verfahren zur Bestimmung der Offsetspannung eines Magnetfeldsensors |
CN102890250A (zh) * | 2011-07-21 | 2013-01-23 | 英飞凌科技股份有限公司 | 具有高电气对称性的立式霍尔传感器 |
DE102011115566A1 (de) * | 2011-10-10 | 2013-04-11 | Austriamicrosystems Ag | Hall-Sensor |
DE102009015965B4 (de) * | 2008-04-11 | 2013-10-31 | Infineon Technologies Ag | Hall-Effekt-Bauelement, Betriebsverfahren hierfür und Magneterfassungsverfahren |
US8901923B2 (en) | 2011-06-03 | 2014-12-02 | Micronas Gmbh | Magnetic field sensor |
US8922207B2 (en) | 2011-11-17 | 2014-12-30 | Infineon Technologies Ag | Electronic device comprising hall effect region with three contacts |
DE102014007208B3 (de) * | 2014-05-19 | 2015-04-23 | Micronas Gmbh | Hallsensor mit mehreren Hallelementen |
CN104576918A (zh) * | 2013-10-29 | 2015-04-29 | 迈克纳斯公司 | 霍尔传感器设备 |
US9024629B2 (en) | 2011-09-16 | 2015-05-05 | Infineon Technologies Ag | Hall sensors having forced sensing nodes |
US9170307B2 (en) | 2012-09-26 | 2015-10-27 | Infineon Technologies Ag | Hall sensors and sensing methods |
DE102014010547A1 (de) | 2014-07-14 | 2016-01-14 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Hallsensor |
US9316705B2 (en) | 2014-05-09 | 2016-04-19 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall effect-device |
DE102015001064A1 (de) | 2015-01-30 | 2016-08-04 | Micronas Gmbh | Verfahren zum Aufwecken einer Magnetfeldsensorvorrichtung und eine Magnetfeldsensorvorrichtung |
US9425385B2 (en) | 2014-05-09 | 2016-08-23 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall effect device |
DE102013108050B4 (de) * | 2012-07-26 | 2018-01-04 | Infineon Technologies Ag | Hall-Sensoren und Abfühlverfahren |
WO2018172323A1 (de) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Wabco Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur positionserfassung einer schaltgabel eines schaltgetriebes |
DE102013202595B4 (de) | 2012-02-20 | 2019-03-28 | Infineon Technologies Ag | Vorrichtung mit vertikaler Hall-Vorrichtung |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE50215023D1 (de) † | 2002-09-10 | 2011-06-01 | Melexis Tessenderlo Nv | Magnetfeldsensor mit einem hallelement |
EP2234185B1 (de) | 2009-03-24 | 2012-10-10 | austriamicrosystems AG | Vertikaler Hallgenerator und Verfahren zur Herstellung eines vertikalen Hallgenerators |
US9062990B2 (en) | 2011-02-25 | 2015-06-23 | Allegro Microsystems, Llc | Circular vertical hall magnetic field sensing element and method with a plurality of continuous output signals |
US9007060B2 (en) | 2011-07-21 | 2015-04-14 | Infineon Technologies Ag | Electronic device with ring-connected hall effect regions |
US9103868B2 (en) | 2011-09-15 | 2015-08-11 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall sensors |
EP2624001B1 (de) | 2012-02-01 | 2015-01-07 | ams AG | Hallsensor und Sensoranordnung |
US9222991B2 (en) | 2012-06-22 | 2015-12-29 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall device comprising a slot in the hall effect region |
US8981504B2 (en) | 2012-06-22 | 2015-03-17 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall sensor with series-connected hall effect regions |
US9274183B2 (en) | 2012-06-22 | 2016-03-01 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall device comprising first and second contact interconnections |
US8723515B2 (en) | 2012-07-05 | 2014-05-13 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall sensor circuit comprising stress compensation circuit |
US9164155B2 (en) | 2013-01-29 | 2015-10-20 | Infineon Technologies Ag | Systems and methods for offset reduction in sensor devices and systems |
US9252354B2 (en) | 2013-01-29 | 2016-02-02 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall device with highly conductive opposite face node for electrically connecting first and second hall effect regions |
DE102013224409B4 (de) | 2013-11-28 | 2022-12-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren zur erfassung einer position eines positionsgebers |
US9547048B2 (en) | 2014-01-14 | 2017-01-17 | Allegro Micosystems, LLC | Circuit and method for reducing an offset component of a plurality of vertical hall elements arranged in a circle |
US9279864B2 (en) | 2014-05-16 | 2016-03-08 | Infineon Technologies Ag | Sensor device and sensor arrangement |
US9605983B2 (en) | 2014-06-09 | 2017-03-28 | Infineon Technologies Ag | Sensor device and sensor arrangement |
US9823168B2 (en) | 2014-06-27 | 2017-11-21 | Infineon Technologies Ag | Auto tire localization systems and methods utilizing a TPMS angular position index |
EP2963435B1 (de) * | 2014-07-01 | 2017-01-25 | Nxp B.V. | Differenzielles seitliches Magnetfeldsensorsystem mit Versatzunterdrückung und unter Umsetzung mit Silicium-auf-Isolator-Technologie |
US9651635B2 (en) | 2014-11-05 | 2017-05-16 | Infineon Technologies Ag | Bias circuit for stacked hall devices |
US9766303B2 (en) | 2014-11-18 | 2017-09-19 | Infineon Technologies Ag | Systems and arrangements of three-contact hall-effect devices and related methods |
US11016151B2 (en) | 2018-03-14 | 2021-05-25 | Ablic Inc. | Semiconductor device and method of adjusting the same |
JP7239308B2 (ja) | 2018-03-14 | 2023-03-14 | エイブリック株式会社 | 半導体装置及びその調整方法 |
JP7072416B2 (ja) | 2018-03-26 | 2022-05-20 | エイブリック株式会社 | 半導体装置 |
US10663535B2 (en) * | 2018-07-09 | 2020-05-26 | Infineon Technologies Ag | Hall sensor with interleaved and/or sliding averaged/summed spinning phases |
JP7365771B2 (ja) | 2019-01-31 | 2023-10-20 | エイブリック株式会社 | 半導体装置 |
US11802922B2 (en) | 2021-01-13 | 2023-10-31 | Allegro Microsystems, Llc | Circuit for reducing an offset component of a plurality of vertical hall elements arranged in one or more circles |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH662905A5 (de) * | 1983-12-19 | 1987-10-30 | Landis & Gyr Ag | Integrierbares hallelement. |
EP0244577A1 (de) * | 1986-04-29 | 1987-11-11 | Landis & Gyr Betriebs AG | Integrierbares Hallelement |
EP0954085A1 (de) * | 1998-04-27 | 1999-11-03 | Roulements Miniatures S.A. | Senkrechter Hallsensor und bürstenloser Elektromotor mit einem senkrechten Hallsensor |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19943128A1 (de) * | 1999-09-09 | 2001-04-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Hall-Sensoranordnung zur Offset-kompensierten Magnetfeldmessung |
-
2001
- 2001-10-16 DE DE10150955A patent/DE10150955C1/de not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-10-15 EP EP02779161A patent/EP1438755B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 WO PCT/DE2002/003901 patent/WO2003036733A2/de active IP Right Grant
- 2002-10-15 AT AT02779161T patent/ATE288133T1/de not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH662905A5 (de) * | 1983-12-19 | 1987-10-30 | Landis & Gyr Ag | Integrierbares hallelement. |
EP0244577A1 (de) * | 1986-04-29 | 1987-11-11 | Landis & Gyr Betriebs AG | Integrierbares Hallelement |
EP0954085A1 (de) * | 1998-04-27 | 1999-11-03 | Roulements Miniatures S.A. | Senkrechter Hallsensor und bürstenloser Elektromotor mit einem senkrechten Hallsensor |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
Helmuth Lemme: "Punktgenau in drei Dimensionen messen" in "Elektronik" (1999)21, S. 106-112 * |
M. Paranjape and Lj. Ristic: "Multi-Dimensional Detection of Magnetic Fields Using CMOS IntegratedSensors" in "IEEE Transactions on Magnetics" 27 (1991)6, pp. 4843-4845 * |
Ralph Steiner Yanha: "Rotary Switch and Current Monitor by Hall-Based Microsystems" (Buch), Ver- lag: "Physical Electronics Laboratory, Swiss Federal Institut of Technology (ETH)", 1999, S. 39-53 * |
Cited By (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006061883B4 (de) * | 2006-01-13 | 2012-07-12 | Denso Corporation | Magnetsensor und Verfahren zur Magnetfelderfassung |
US9024622B2 (en) | 2006-08-09 | 2015-05-05 | Fraunhofer Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Magnetic field sensor calibratable during measurement operation and method for calibrating a magnetic field sensor during measurement operation |
DE102006037226B4 (de) * | 2006-08-09 | 2008-05-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Im Messbetrieb kalibrierbarer magnetischer 3D-Punktsensor |
DE102007041230B3 (de) * | 2007-08-31 | 2009-04-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kalibrierbarer mehrdimensionaler magnetischer Punktsensor sowie entsprechendes Verfahren und Computerprogramm dafür |
CN102132167A (zh) * | 2007-08-31 | 2011-07-20 | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 | 可校准多维磁点传感器 |
US8203329B2 (en) | 2007-08-31 | 2012-06-19 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Calibratable multidimensional magnetic point sensor |
CN102132167B (zh) * | 2007-08-31 | 2013-08-28 | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 | 可校准多维磁点传感器 |
DE102009061277B3 (de) | 2008-04-11 | 2019-08-01 | Infineon Technologies Ag | Hall-Effekt-Bauelement, Betriebsverfahren hierfür und Magnetfelderfassungsverfahren |
DE102009015965B4 (de) * | 2008-04-11 | 2013-10-31 | Infineon Technologies Ag | Hall-Effekt-Bauelement, Betriebsverfahren hierfür und Magneterfassungsverfahren |
DE202008005860U1 (de) | 2008-04-28 | 2008-07-03 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Wäschebehandlungsgerät |
US8164149B2 (en) | 2008-11-28 | 2012-04-24 | Melexis Technologies Sa | Vertical hall sensor |
EP2192417A3 (de) * | 2008-11-28 | 2010-11-17 | Melexis Tessenderlo NV | Vertikaler Hallsensor |
DE102011101604B4 (de) * | 2010-06-02 | 2016-06-09 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Magnetfeldsensor |
DE102011101604A1 (de) | 2010-06-02 | 2011-12-08 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Magnetfeldsensor |
DE102011011247A1 (de) | 2011-02-15 | 2012-08-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Sensoranordnung und Verfahren zur Messung von Magnetfeldern |
US8901923B2 (en) | 2011-06-03 | 2014-12-02 | Micronas Gmbh | Magnetic field sensor |
DE102011107711A1 (de) | 2011-07-14 | 2013-01-17 | Micronas Gmbh | Magnetfeldsensor und Verfahren zur Bestimmung der Offsetspannung eines Magnetfeldsensors |
US9689931B2 (en) | 2011-07-14 | 2017-06-27 | Tdk-Micronas Gmbh | Magnetic field sensor and method for determining and correcting an offset voltage of a magnetic field sensor |
EP2546669A2 (de) | 2011-07-14 | 2013-01-16 | Micronas GmbH | Magnetfeldsensor und Verfahren zur Bestimmung der Offsetspannung eines Magnetfeldsensors |
EP2546670A2 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-16 | Micronas GmbH | Hallsensor |
US9097753B2 (en) | 2011-07-15 | 2015-08-04 | Micronas Gmbh | Hall sensor having serially connected hall elements |
CN102881818A (zh) * | 2011-07-15 | 2013-01-16 | 迈克纳斯公司 | 霍尔传感器 |
CN102881818B (zh) * | 2011-07-15 | 2014-12-17 | 迈克纳斯公司 | 霍尔传感器 |
DE102011107767A1 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-17 | Micronas Gmbh | Hallsensor |
EP2546670A3 (de) * | 2011-07-15 | 2015-10-28 | Micronas GmbH | Hallsensor |
CN102890250A (zh) * | 2011-07-21 | 2013-01-23 | 英飞凌科技股份有限公司 | 具有高电气对称性的立式霍尔传感器 |
CN102890250B (zh) * | 2011-07-21 | 2016-05-11 | 英飞凌科技股份有限公司 | 具有高电气对称性的立式霍尔传感器 |
US9024629B2 (en) | 2011-09-16 | 2015-05-05 | Infineon Technologies Ag | Hall sensors having forced sensing nodes |
US9575141B2 (en) | 2011-10-10 | 2017-02-21 | Ams Ag | Hall sensor with hall sensor elements that respectively comprise element terminals and are interconnected in a circuit lattice |
DE102011115566A1 (de) * | 2011-10-10 | 2013-04-11 | Austriamicrosystems Ag | Hall-Sensor |
US8922207B2 (en) | 2011-11-17 | 2014-12-30 | Infineon Technologies Ag | Electronic device comprising hall effect region with three contacts |
DE102012221009B4 (de) * | 2011-11-17 | 2018-04-19 | Infineon Technologies Ag | Elektronikbauelement, das Hall-Effekt-Gebiete mit drei Kontakten umfasst, und Erfassungsverfahren |
US9581660B2 (en) | 2011-11-17 | 2017-02-28 | Infineon Technologies Ag | Electronic device comprising hall effect region with three contacts |
DE102013202595B4 (de) | 2012-02-20 | 2019-03-28 | Infineon Technologies Ag | Vorrichtung mit vertikaler Hall-Vorrichtung |
DE102013108050B4 (de) * | 2012-07-26 | 2018-01-04 | Infineon Technologies Ag | Hall-Sensoren und Abfühlverfahren |
US9170307B2 (en) | 2012-09-26 | 2015-10-27 | Infineon Technologies Ag | Hall sensors and sensing methods |
DE102013018370A1 (de) | 2013-10-29 | 2015-04-30 | Micronas Gmbh | Hallsensorvorrichtung |
CN104576918A (zh) * | 2013-10-29 | 2015-04-29 | 迈克纳斯公司 | 霍尔传感器设备 |
EP2873985A1 (de) | 2013-10-29 | 2015-05-20 | Micronas GmbH | Hallsensorvorrichtung |
US9581658B2 (en) | 2013-10-29 | 2017-02-28 | Micronas Gmbh | Hall effect sensor device |
CN104576918B (zh) * | 2013-10-29 | 2017-06-23 | Tdk-迈克纳斯有限责任公司 | 霍尔传感器设备 |
US9316705B2 (en) | 2014-05-09 | 2016-04-19 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall effect-device |
US9425385B2 (en) | 2014-05-09 | 2016-08-23 | Infineon Technologies Ag | Vertical hall effect device |
DE102014007208B3 (de) * | 2014-05-19 | 2015-04-23 | Micronas Gmbh | Hallsensor mit mehreren Hallelementen |
US9851419B2 (en) | 2014-05-19 | 2017-12-26 | Tdk-Micronas Gmbh | Hall sensor |
US9709639B2 (en) | 2014-07-14 | 2017-07-18 | Tdk-Micronas Gmbh | Hall effect sensor |
DE102014010547A1 (de) | 2014-07-14 | 2016-01-14 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Hallsensor |
DE102014010547B4 (de) | 2014-07-14 | 2023-06-07 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Hallsensor |
DE102015001064A1 (de) | 2015-01-30 | 2016-08-04 | Micronas Gmbh | Verfahren zum Aufwecken einer Magnetfeldsensorvorrichtung und eine Magnetfeldsensorvorrichtung |
DE102015001064B4 (de) * | 2015-01-30 | 2021-04-08 | Tdk-Micronas Gmbh | Verfahren zum Aufwecken einer Magnetfeldsensorvorrichtung und eine Magnetfeldsensorvorrichtung |
WO2018172323A1 (de) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Wabco Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur positionserfassung einer schaltgabel eines schaltgetriebes |
US11112003B2 (en) | 2017-03-24 | 2021-09-07 | Wabco Gmbh | Device and method for sensing the position of a shift fork of a transmission |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1438755A2 (de) | 2004-07-21 |
EP1438755B1 (de) | 2005-01-26 |
WO2003036733A3 (de) | 2003-10-30 |
ATE288133T1 (de) | 2005-02-15 |
WO2003036733A2 (de) | 2003-05-01 |
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EP0784199B1 (de) | Magnetische Sensoranordnung |
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