DE10104323A1 - Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines Bauteils und Bauteil - Google Patents
Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines Bauteils und BauteilInfo
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines Bauteils durch Ätzen. DOLLAR A Um ein solches Bauteil in einfacher Weise herstellen zu können, werden durch isotropes Ätzen voneinander beabstandete Rillenabschnitte (12, 13) erzeugt. Anschließend wird zwischen den Rillenabschnitten (12 und 13) durch ein weiteres Ätzen ein Rillenstück (15) mit relativ engem Querschnitt erzeugt, das die beiden Rillenabschnitte (12, 13) miteinander unter Bildung einer Engstelle verbindet. DOLLAR A Bei einer Verfahrensvariante wird mit einer Ätzmaske mit zwei beabstandeten Ätzöffnungen solange isotrop geätzt, bis sich die gebildeten Rillenabschnitte stirnseitig unter Bildung einer Engstelle teilweise durchdringen.
Description
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum
einfachen Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in einem
scheibenförmigen Bauteil anzugeben.
Zur Lösung dieser Aufgabe dient erfindungsgemäß ein Verfahren
zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Ober
fläche eines Bauteils, bei dem auf das Bauteil eine erste
Ätzmaske mit mindestens einem Ätzfenster für einen nachge
ordneten Ätz-Bearbeitungsvorgang zum Erzeugen eines die
Engstelle bildenden Rillenstücks erzeugt wird, die erste Ätz
maske mit einer Passivierungsschicht überzogen wird, auf der
Passivierungsschicht eine zweite Ätzmaske mit zwei längli
chen, zwischen sich das Ätzfenster aufweisenden Ätzöffnungen
mit im Vergleich zum Ätzfenster größerer Breite für einen
ersten Ätz-Bearbeitungsvorgang erzeugt wird, in dem ersten
Ätz-Bearbeitungsvorgang das Bauteil im Bereich der Ätzöff
nungen der zweiten Ätzmaske zum Erzeugen von beiderseits an
das Rillenstück sich anschließenden Rillenabschnitten ätz-be
arbeitet wird und anschließend nach Entfernen der Passivie
rungsschicht in dem nachgeordneten Ätzvorgang in den Berei
chen der Ätzöffnungen und des Ätzfensters beider Ätzmasken
das Bauteil ätz-bearbeitet wird.
Es ist zwar aus der US-Patentschrift 5,013,400 ein Verfahren
zum Herstellen einer Ausnehmung in einer scheibenförmigen
Halbleiteranordnung durch isotropes Ätzen mit einer eine Ätz
öffnung aufweisenden Maske bekannt, jedoch wird dieses be
kannte Verfahren dazu verwendet, durch Ätzen eine Öffnung in
einer Oxidschicht zu erzeugen, die auf einem Halbleiter-Wafer
aufgebracht ist. Zum Ätzen ist auf die Oxidschicht eine Maske
aufgebracht, die mit einer Ätzöffnung versehen ist. Durch
diese Ätzöffnung erfolgt bei dem bekannten Verfahren zunächst
ein isotropes Ätzen, an das sich ein anisotroper Ätzvorgang
anschließt. Mit dem anisotropen Ätzvorgang wird die
Ausnehmung bis zur Oberfläche des Halbleiter-Wafers ein
gebracht. Durch anschließendes Metallisieren entstehen Kon
takte bis zum Halbleiter-Wafer, die frei von Mikrohaarrissen
sind. Das bekannte Verfahren wird also zur Kontaktierung ei
nes Halbleiter-Wafers verwendet.
Ein wesentlicher Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens be
steht darin, dass mit ihm in vergleichsweise einfacher Weise
in einer einzigen Ätz-Abfolge Rillen in der Oberfläche eines
Bauteils, z. B. in einer Scheibe aus beispielsweise Glas oder
einem Halbleiterwerkstoff erzeugt werden können, die in
Längsrichtung ein Rillenstück mit vergleichsweise kleinem
Querschnitt zur Bildung einer Engstelle aufweisen.
Bei einer vorteilhaften Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Verfahrens wird in beiden Ätz-Bearbeitungsvorgängen ein
isotropes Ätzen vorgenommen. Sowohl das Rillenstück als auch
die Rillenabschnitte weisen hier gleichstrukturierte Quer
schnitte auf.
Bei einer anderen Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfah
rens wird vorteilhafterweise nach dem isotropen Ätzen durch
die Ätzöffnungen hindurch ein anisotropes Ätzen durch das
Ätzfenster hindurchgeführt. Dabei ergibt sich ein besonders
enges Rillenstück, was für strömungstechnische Anwendungen
vorteilhaft ist.
Der Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, ein Bauteil
anzugeben, das als Grundelement für ein mikrofluidisches Bau
element geeignet und in einfacher Weise herstellbar ist. Die
Lösung dieser Aufgabe besteht erfindungsgemäß in einem Bau
teil mit zwei durch isotropes Ätzen erzeugten und im Abstand
voneinander liegenden Rillenabschnitten und mit einem im
Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Rillenstück,
das durch anisotropes Ätzen erzeugt ist und die Ril
lenabschnitte miteinander verbindet.
Ferner liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine einfa
che herstellbare Fluidplatte anzugeben. Die Lösung dieser
Aufgabe bildet erfindungsgemäß eine Fluidplatte mit einem
ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen erzeugten und
im Abstand voneinander liegenden Rillenabschnitten und mit
einem durch anisotropes Ätzen erzeugten, die beiden Rillenab
schnitte miteinander verbindenden, im Vergleich zur Breite
der Rillenabschnitte engen Rillenstück und mit einem zweiten
entsprechend hergestellten Bauteil, das fest mit dem ersten
Bauteil verbunden ist, wobei die einander gegenüberliegenden
Rillenstücke eine Drosselstelle in einem von den Rillenab
schnitten des ersten und des zweiten Bauteils gebildeten in
neren Kanal bilden.
Die erfindungsgemäße Fluidplatte ist insofern vorteilhaft,
als sie in einfacher Weise aus z. B. jeweils scheibenförmigen
Bauteilen, z. B. zwei Siliziumscheiben, mit gemäß dem erfin
dungsgemäßen Verfahren hergestellten Rillen beispielsweise
durch Bonden der beiden Bauteile hergestellt werden kann,
wobei die Rillen einen inneren Kanal aufweisen, der eine
Drosselstelle bildet, so dass dort - beispielsweise durch in
tegrierte Drucksensoren - die Druckdifferenz an der Drosselstelle
erfasst und damit Messgrößen zur Ermittlung des
Durchflusses in einfacher Weise gewonnen werden können.
Durch einen einfachen und kostengünstigen Aufbau zeichnet
sich eine weitere erfindungsgemäße Fluidplatte aus, bei der
mit einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er
zeugten und im Abstand voneinander liegenden Rillenabschnit
ten und mit einem durch anisotropes Ätzen erzeugten, die bei
den Rillenabschnitte miteinander verbindenden, im Vergleich
zur Breite der Rillenabschnitte engen Rillenstück, mit einer
Abdeckplatte, die fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist,
wobei das Rillenstück eine Drosselstelle in einem von den
Rillenabschnitten des ersten Bauteils gebildeten inneren Ka
nal bilden.
Eine weitere Lösung der eingangs angegebenen Aufgabe wird in
einem Verfahren gesehen, bei dem erfindungsgemäß zum Herstel
len einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines
Bauteils eine Maske mit zwei länglichen, im Abstand vonein
ander angeordneten Ätzöffnungen auf das Bauteil aufgebracht
wird und das Bauteil unter Bildung von zwei Rillenabschnitten
isotrop solange geätzt wird, bis sich die einander zuge
wandten Stirnflächen der Rillenabschnitte unter Bildung einer
im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbin
dungsstelle zwischen den Rollenabschnitten teilweise durch
dringen.
Zur Lösung der weiteren Aufgabe, ein scheibenförmiges Bauteil
anzugeben, das als Grundelement für ein mikrofluidisches
Bauelement geeignet und in einfacher Weise herstellbar ist,
dient erfindungsgemäß ein Bauteil mit zwei durch isotropes
Ätzen erzeugten Rillenabschnitten, die sich an ihren einander
zugewandten Stirnflächen unter Bildung einer im Vergleich zur
Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen
den Rillenabschnitten teilweise durchdringen.
Um eine einfach herstellbare Fluidplatte zu gewinnen, weist
diese erfindungsgemäß ein erstes Bauteil mit zwei durch
isotropes Ätzen erzeugten Rillenabschnitten, die sich an ih
ren einander zugewandten Stirnflächen unter Bildung einer im
Vergleich zur Breite der Rillenabschnitt engen Verbindungs
stelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen,
und ein zweites entsprechend hergestelltes Bauteil auf, das
fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei die einander
gegenüberliegenden Verbindungsstellen eine Drosselstelle in
einem von den Rillenabschnitten des ersten und des zweiten
Bauteils gebildeten inneren Kanal bilden. Vorteilhafterweise
kann das zweite Bauteil durch eine Abdeckplatte ersetzt
werden.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung ist in
Fig. 1 eine Draufsicht auf einen Ausschnitt aus einem nach
einer Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens ätz-barbei
teten scheibenförmigen Bauteil, in
Fig. 2 eine perspektivische Sicht auf dasselbe Bauteil, in
Fig. 3 anhand von Einzeldarstellungen a bis f (Schnitt III-
III gemäß Fig. 1) der Ablauf der einen Variante des erfin
dungsgemäßen Verfahrens zur Erzielung des in den Fig. 1
und 2 dargestellten Bauteils, in
Fig. 4 eine Draufsicht auf ein weiteres nach dem erfindungs
gemäßen Verfahren bearbeitetes Bauteil, in
Fig. 5 eine perspektivische Sicht auf dasselbe Bauteil, in
Fig. 6 anhand von Einzeldarstellungen g bis k (Schnitt VI-VI
gemäß Fig. 4) der Ablauf einer weiteren Variante des erfin
dungsgemäßen Verfahrens zur Erzielung des in den Fig. 4
und 5 dargestellten Bauteils, in
Fig. 7 eine Draufsicht auf ein weiteres nach dem erfindungs
gemäßen Verfahren bearbeitetes Bauteil und in
Fig. 8 eine perspektivische Sicht auf dasselbe Bauteil ge
zeigt.
Wie die Fig. 1 und 2 zeigen, weist ein nach dem erfin
dungsgemäßen Verfahren hergestelltes Bauteil 1 eine erste
Rille 2 und eine zweite Rille 3 auf, die im dargestellten
Beispiel fluchtend ineinander übergehen. Die erste Rille 2
ist verhältnismäßig breit und tief ausgeführt, während die
zweite Rille 3 schmal und relativ flach ausgebildet ist.
Um ein in dieser Weise an seiner Oberfläche ätz-bearbeitetes
Bauteil 1 zu erzeugen, wird - wie die Darstellung a der Fig.
3 zeigt - auf das Bauteil 1 zunächst eine erste Ätzmaske 4
aufgebracht, die ein Ätzfenster 5 an der Stelle aufweist, wo
später die zweite Rille 3 erzeugt werden soll. Auf die erste
Ätzmaske 4 ist eine Passivierungsschicht 6 aufgebracht, die
ebenso wie die erste Ätzmaske 4 im Falle eines Bauteils aus
Silizium aus Si3N4 bestehen kann; die Passivierungsschicht 6
überzieht sowohl die erste Ätzmaske 4 als auch das Ätzfenster
5 dieser Ätzmaske. Schließlich ist auf die Passivie
rungsschicht 6 eine zweite Ätzmaske 7 aufgebracht, die bei
spielsweise aus einem Lack bestehen kann. Diese zweite Ätz
maske 7 hat eine Ätzöffnung 8 an der Stelle, wo später in der
Oberfläche des Bauteils 1 die erste Rille 2 mit vergleichs
weise großen Abmessungen gebildet werden soll. Ist das an
seiner Oberfläche durch Ätzen zu bearbeitende Bauteil 1 so
weit mit Ätzmasken 4 und 7 und Passivierungsschicht 6 verse
hen, wie es die Darstellung a der Fig. 3 zeigt, dann wird -
wie es die Darstellung b der Fig. 3 wiedergibt - in einem
ersten Ätz-Schritt die zweite Ätzmaske 7 und die unterhalb
der Ätzöffnung 8 dieser Ätzmaske liegenden Bereiche der Passivierungsschicht
6 und der ersten Ätzmaske 4 abgetragen, so
dass das Bauteil 1 im Bereich unterhalb der Ätzöffnung 8 für
das Ätzmedium, z. B. eine Ätzflüssigkeit oder ein Plasma des
nächsten Ätzschrittes zugänglich ist.
Danach erfolgt - wie die Darstellung c zeigt - ein isotropes
Ätzen, wobei die erste Rille 2 teilweise gebildet wird.
Figur d lässt erkennen, dass danach die Passivierungsschicht
6 abgetragen wird, so dass nunmehr das Ätzfenster 5 der ers
ten Ätzmaske 4 frei zum Angriff für ein Ätzmedium liegt.
Durch ein weiteres anschließendes Ätzen wird - wie die Dar
stellung e der Fig. 3 wiedergibt - in dem Bauteil 1 die
zweite Rille 3 (teilweise) gebildet und dabei gleichzeitig
die erste Rille 2 vergrößert.
Wie die Figur f zeigt, wird das isotrope Ätzen solange fort
gesetzt, bis die beiden Rillen 2 und 3 ineinander übergehen
und ein Kanal aus zwei Rillen 2 und 3 mit unterschiedlichen
Abmessungen und einer Engstelle 9 gebildet ist.
Werden zwei in dieser Weise hergestellte Bauteile 1, mit ih
ren bearbeiteten Oberflächen einander zugewandt, miteinander
beispielsweise durch Bonden verbunden, dann entsteht ein
Bauelement, das einen inneren Kanal aufweist, in dem durch
die zweite Rille 3 eine Engstelle gebildet ist, mit der bei
spielsweise durch entsprechende Sensoren die durch die Strö
mung aufgebaute Druckdifferenz erfasst werden kann, woraus
auf den Durchfluss durch den Kanal rückgeschlossen werden
kann.
Wie die Fig. 4 und 5 erkennen lassen, ist ein Bauteil 11
in Form z. B. einer Siliziumscheibe mit einem Rillenabschnitt
12 und einem weiteren Rillenabschnitt 13 versehen, die im
dargestellten Beispiel fluchtend in Richtung einer Achse 14
im Abstand voneinander angeordnet sind. Die Rillenabschnitte
12 und 13 sind über ein Rillenstück 15 miteinander verbunden,
das eine Engstelle bildet. Die Rillenabschnitte 12 und 13 und
das Rillenstück 15 sind in einer Weise erzeugt, wie es in
Fig. 6 gezeigt ist.
Um ein gemäß den Fig. 4 und 5 gestaltetes Bauteil 11 zu
erzeugen, wird - wie die Darstellung g der Fig. 6 zeigt -
auf das Bauteil 11 zunächst eine erste Ätzmaske 16 aufge
bracht, die ein Ätzfenster 17 an der Stelle aufweist, wo spä
ter das Rillenstück 15 erzeugt werden soll. Auf die erste
Ätzmaske 16 ist eine Passivierungsschicht 18 aufgebracht, die
ebenso wie die erste Ätzmaske 16 im Falle eines Bauteils aus
Silizium aus Si3N4 bestehen kann; die Passivierungsschicht 18
überzieht sowohl die erste Ätzmaske 16 als auch das Ätz
fenster 17 dieser Ätzmaske. Schließlich ist auf die Passi
vierungsschicht 18 eine zweite Ätzmaske 19 aufgebracht, die
beispielsweise aus einem Lack bestehen kann. Diese zweite
Ätzmaske 19 hat zwei Ätzöffnungen 20 und 21 an den Stellen,
wo später in dem Bauteil 11 die Rillenabschnitte 12 und 13
mit vergleichsweise großen Abmessungen gebildet werden sol
len. Ist das an seiner Oberfläche durch Ätzen zu bearbeitende
Bauteil 11 soweit mit Ätzmasken 16 und 19 und Passivierungs
schicht 18 versehen, wie es die Darstellung g der Fig. 6
zeigt, dann wird - wie es die Darstellung h der Fig. 6 wie
dergibt - in einem ersten Ätz-Schritt die zweite Ätzmaske 19
und die unterhalb der Ätzöffnung 20 und 21 dieser Ätzmaske
liegenden Bereiche der Passivierungsschicht 18 und der ersten
Ätzmaske 16 abgetragen, so dass das Bauteil 11 im Bereich un
terhalb der Ätzöffnung 20 und 21 für das Ätzmedium des
nächsten Ätzschrittes zugänglich ist.
Danach erfolgt - wie die Darstellung i zeigt - ein isotropes
Ätzen, wobei die Rillenabschnitte 12 und 13 teilweise gebil
det werden.
Die Darstellung j lässt erkennen, dass danach die Passivie
rungsschicht 18 abgetragen wird, so dass nunmehr das Ätz
fenster 17 der ersten Ätzmaske 16 frei zum Angriff für ein
Ätzmedium liegt. Durch ein weiteres anschließendes anisotro
pes Ätzen werden - wie die Darstellung k der Fig. 6 wieder
gibt - in dem Bauteil 11 das Rillenstück 15 (teilweise) ge
bildet, und es werden dabei gleichzeitig die Rillenschnitte
12 und 13 vergrößert.
Die Darstellung k zeigt auch, dass das Ätzen solange fort
gesetzt ist, bis die beiden Rillenabschnitte 12 und 13 mit
dem Rillenstück 15 verbunden sind, wodurch ein Kanal mit un
terschiedlichen Abmessungen mit einer Engstelle gebildet ist.
Werden zwei in dieser Weise hergestellte Bauteile 11, mit ih
ren bearbeiteten Oberflächen einander zugewandt, miteinander
beispielsweise durch Bonden verbunden, dann entsteht ein
Bauelement, das einen inneren Kanal aufweist, in dem durch
das Rillenstück 15 eine Engstelle gebildet ist, mit der bei
spielsweise durch entsprechende Sensoren die durch die Strö
mung aufgebaute Druckdifferenz erfasst werden kann, woraus
auf den Durchfluss durch den Kanal rückgeschlossen werden
kann.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach den Fig. 7 und 8 sind in
ein scheibenförmiges Bauteil 31 mittels einer einzigen Maske
mit zwei voneinander beabstandeten, fluchtenden Ätzfenstern
(nicht gezeigt) durch isotropes Ätzen zwei Rillenabschnitte
32 und 33 erzeugt; dabei ist das isotrope Ätzen so ausge
führt, dass die Stirnflächen 34 und 35 der Rillenabschnitte
unter Bildung einer Engstelle 36 einander teilweise durch
dringen.
Fügt man zwei solchermaßen hergestellte Bauteile 31 bei
spielsweise durch Bonden zusammen, dann ergibt sich eine Flu
idplatte mit einer Drosselstelle im Bereich der einander ge
genüberliegenden Engstellen des Bauteils 31.
Claims (10)
1. Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle
in der Oberfläche eines Bauteils (11), bei dem
auf das Bauteil (11) eine erste Ätzmaske (16) mit min destens einem Ätzfenster (17) für einen nachgeordneten Ätz-Bearbeitungsvorgang zum Erzeugen eines die Engstelle bildenden Rillenstücks (15) erzeugt wird,
die erste Ätzmaske (16) mit einer Passivierungsschicht (18) überzogen wird,
auf der Passivierungsschicht (18) eine zweite Ätzmaske (19) mit zwei länglichen, zwischen sich das Ätzfenster (17) aufweisenden Ätzöffnungen (20, 21) mit im Vergleich zum Ätzfenster (17) größerer Breite für einen ersten Ätz- Bearbeitungsvorgang erzeugt wird,
in dem ersten Ätz-Bearbeitungsvorgang das Bauteil (11) im Bereich der Ätzöffnungen (20, 21) der zweiten Ätzmaske (19) zum Erzeugen von beiderseits an das Rillenstück sich anschließenden Rillenabschnitten (12, 13) ätz-bearbeitet wird und
anschließend nach Entfernen der Passivierungsschicht (18) in dem nachgeordneten Ätzvorgang in den Bereichen der Ätz öffnungen (20, 21) und des Ätzfensters (17) beider Ätzmas ken (16, 19) das Bauteil (11) ätz-bearbeitet wird.
auf das Bauteil (11) eine erste Ätzmaske (16) mit min destens einem Ätzfenster (17) für einen nachgeordneten Ätz-Bearbeitungsvorgang zum Erzeugen eines die Engstelle bildenden Rillenstücks (15) erzeugt wird,
die erste Ätzmaske (16) mit einer Passivierungsschicht (18) überzogen wird,
auf der Passivierungsschicht (18) eine zweite Ätzmaske (19) mit zwei länglichen, zwischen sich das Ätzfenster (17) aufweisenden Ätzöffnungen (20, 21) mit im Vergleich zum Ätzfenster (17) größerer Breite für einen ersten Ätz- Bearbeitungsvorgang erzeugt wird,
in dem ersten Ätz-Bearbeitungsvorgang das Bauteil (11) im Bereich der Ätzöffnungen (20, 21) der zweiten Ätzmaske (19) zum Erzeugen von beiderseits an das Rillenstück sich anschließenden Rillenabschnitten (12, 13) ätz-bearbeitet wird und
anschließend nach Entfernen der Passivierungsschicht (18) in dem nachgeordneten Ätzvorgang in den Bereichen der Ätz öffnungen (20, 21) und des Ätzfensters (17) beider Ätzmas ken (16, 19) das Bauteil (11) ätz-bearbeitet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
in beiden Ätz-Bearbeitungsvorgängen ein isotropes Ätzen
vorgenommen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
in dem ersten Ätz-Bearbeitungsvorgang ein isotropes und
dem zweiten Ätz-Bearbeitungsvorgang ein anisotropes Ätzen
vorgenommen wird.
4. Bauteil mit
zwei durch isotropes Ätzen erzeugten und im Abstand von einander liegenden Rillenabschnitten (12, 13) und mit
einem im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte (12, 13) engen Rillenstück (15), das durch anisotropes Ätzen erzeugt ist und die Rillenabschnitte (12, 13) miteinander verbindet.
zwei durch isotropes Ätzen erzeugten und im Abstand von einander liegenden Rillenabschnitten (12, 13) und mit
einem im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte (12, 13) engen Rillenstück (15), das durch anisotropes Ätzen erzeugt ist und die Rillenabschnitte (12, 13) miteinander verbindet.
5. Fluidplatte mit
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten und im Abstand voneinander liegenden Rillenab schnitten und mit einem durch anisotropes Ätzen erzeugten, die beiden Rillenabschnitte miteinander verbindenden, im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Rillen stück und
mit einem zweiten entsprechend hergestellten Bauteil, das fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei die Ril lenstücke eine Drosselstelle in einem von den Rillenab schnitten des ersten und des zweiten Bauteil gebildeten inneren Kanal bilden.
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten und im Abstand voneinander liegenden Rillenab schnitten und mit einem durch anisotropes Ätzen erzeugten, die beiden Rillenabschnitte miteinander verbindenden, im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Rillen stück und
mit einem zweiten entsprechend hergestellten Bauteil, das fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei die Ril lenstücke eine Drosselstelle in einem von den Rillenab schnitten des ersten und des zweiten Bauteil gebildeten inneren Kanal bilden.
6. Fluidplatte mit
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten und im Abstand voneinander liegenden Rillenab schnitten und mit einem durch anisotropes Ätzen erzeugten, die beiden Rillenabschnitte miteinander verbindenden, im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Rillen stück,
mit einer Abdeckplatte, die fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei
das Rillenstück eine Drosselstelle in einem von den Ril lenabschnitten des ersten Bauteils gebildeten inneren Ka nal bildet.
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten und im Abstand voneinander liegenden Rillenab schnitten und mit einem durch anisotropes Ätzen erzeugten, die beiden Rillenabschnitte miteinander verbindenden, im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Rillen stück,
mit einer Abdeckplatte, die fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei
das Rillenstück eine Drosselstelle in einem von den Ril lenabschnitten des ersten Bauteils gebildeten inneren Ka nal bildet.
7. Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle
in der Oberfläche eines Bauteils, bei dem
eine Maske mit zwei länglichen, im Abstand voneinander angeordneten Ätzöffnungen auf das Bauteil aufgebracht wird und
das Bauteil unter Bildung von zwei Rillenabschnitten isotrop solange geätzt wird, bis sich die einander zuge wandten Stirnflächen der Rillenabschnitte unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen.
eine Maske mit zwei länglichen, im Abstand voneinander angeordneten Ätzöffnungen auf das Bauteil aufgebracht wird und
das Bauteil unter Bildung von zwei Rillenabschnitten isotrop solange geätzt wird, bis sich die einander zuge wandten Stirnflächen der Rillenabschnitte unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen.
8. Bauteil mit
zwei durch isotropes Ätzen erzeugten Rillenabschnitten
(32, 33), die sich an ihren einander zugewandten Stirn
flächen unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der
Rillenabschnitte (32, 33) engen Verbindungsstelle (36)
zwischen den Rillenabschnitten (32, 33) teilweise durch
dringen.
9. Fluidplatte mit
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten Rillenabschnitten, die sich an ihren einander zu gewandten Stirnflächen unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen, und
mit einem zweiten entsprechend hergestellten Bauteil, das fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei die ein ander gegenüberliegenden Verbindungsstellen eine Drossel stelle in einem von den Rillenabschnitten des ersten und des zweiten Bauteils gebildeten inneren Kanal bilden.
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten Rillenabschnitten, die sich an ihren einander zu gewandten Stirnflächen unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen, und
mit einem zweiten entsprechend hergestellten Bauteil, das fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist, wobei die ein ander gegenüberliegenden Verbindungsstellen eine Drossel stelle in einem von den Rillenabschnitten des ersten und des zweiten Bauteils gebildeten inneren Kanal bilden.
10. Fluidplatte mit
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten Rillenabschnitten, die sich an ihren einander zu gewandten Stirnflächen unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen, und
mit einer Abdeckplatte, die fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist.
einem ersten Bauteil mit zwei durch isotropes Ätzen er zeugten Rillenabschnitten, die sich an ihren einander zu gewandten Stirnflächen unter Bildung einer im Vergleich zur Breite der Rillenabschnitte engen Verbindungsstelle zwischen den Rillenabschnitten teilweise durchdringen, und
mit einer Abdeckplatte, die fest mit dem ersten Bauteil verbunden ist.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001104323 DE10104323A1 (de) | 2001-01-24 | 2001-01-24 | Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines Bauteils und Bauteil |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001104323 DE10104323A1 (de) | 2001-01-24 | 2001-01-24 | Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines Bauteils und Bauteil |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10104323A1 true DE10104323A1 (de) | 2002-08-01 |
Family
ID=7672348
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2001104323 Withdrawn DE10104323A1 (de) | 2001-01-24 | 2001-01-24 | Verfahren zum Herstellen einer Rille mit einer Engstelle in der Oberfläche eines Bauteils und Bauteil |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10104323A1 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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