DE10062453A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von StrahlenbündelnInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 21
- 238000003491 array Methods 0.000 description 9
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
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- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
- G02B19/0023—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors) at least one surface having optical power
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- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
- G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
- G02B19/0057—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
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- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
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- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
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- G02B6/425—Optical features
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- H—ELECTRICITY
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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Abstract
Zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen (D1 bis D5) ausgehen, wird folgendermaßen ausgegangen: Zunächst werden durch ein erstes, allen Einzellichtquellen (D1 bis D5) gemeinsam zugeordnetes abbildendes optisches Element (5) die Einzellichtquellen (D1 bis D5) in virtuelle Zwischenbilder (Z1 bis Z5) abgebildet. Die den Einzellichtquellen (D1 bis D5) zugeordneten Strahlenbündel werden vor Erreichen der Zwischenbildstellen (Z1 bis Z5) durch ein facettiertes optisches Element (6) abgefangen und so unterschiedlich abgelenkt, daß sie sich in mindestens einem Abbildungsfleck (A) superponieren, in dem sich die Strahlungsintensitäten mehrerer Einzellichtquellen (D1 bis D5) überlagern.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer
Mehrzahl von Einzellichtquellen, insbesondere Laserdioden,
ausgehen, in mindestens einen Abbildungsfleck.
Derartige Verfahren und Vorrichtungen finden ihren Einsatz
dort, wo das Licht mehrerer Einzellichtquellen z. B. zur
Leistungssteigerung in einem relativ kleinen räumlichen
Arbeitsbereich konzentriert werden soll. Derartige Anwen
dungen liegen in der Materialbearbeitung, z. B. beim Laser
schweißen, -schneiden oder -bohren sowie bei der Oberflä
chenbehandlung. Ein weiteres Einsatzgebiet liegt im Bereich
der Telekommunikation, wenn in einem durch eine optische
Faser realisierten Datenübertragungskanal eine hohe Licht
leistung zur Informationsübertragung über weite Strecken
ohne zwischengeschaltete Verstärker erfolgen soll. Dort
ist eine kleine numerische Apertur der einkoppelnden
Optik erforderlich.
Bei bekannten derartigen Verfahren und Vorrichtungen einge
setzte Einzel-Lichtquellen sind Laserdioden-Arrays, die
auch als "Barren" bezeichnet werden. Ein derartiges Laser
dioden-Array weist eine Vielzahl von in einer linearen
Reihe angeordneten einzelnen Laserdioden auf. Ein Hoch
leistungs-Laserdioden-Array hat eine Ausgangslichtleistung
von etwa 50 W. Typische Emissionsflächen derartiger Laser
dioden-Arrays haben eine Längsseite (lange Achse) von
etwa 10 mm und eine Schmalseite (kurze Achse) von weniger
als einem Mikrometer. Dabei ist die Strahldivergenz des
von den Laserdioden-Arrays emittierten Lichtes in den
Ebenen parallel zur kurzen Achse der Emissionsfläche um
typischerweise einen Faktor 3 größer als in den dazu senk
rechten Richtungen.
Es ist bekannt, derartige Laserdioden-Arrays aufeinander
in sogenannte "Stacks" zu stapeln. Die Emissionsbündel
der einzelnen Emissionsflächen der Laserdioden-Arrays
innerhalb des Stacks werden überlagert, um die Lichtlei
stung des gesamten Stacks zu nutzen. Hierzu ist es be
kannt, jedem Einzel-Emitter innerhalb der im Stack ge
stapelten Laserdioden-Arrays eine Mikrolinse zuzuordnen,
die das Emissionsbündel eines Einzel-Emitters auf das
Einkoppelende einer diesem zugeordneten optischen. Faser
ermöglicht. Auf diese Weise ist einem Laserdioden-Array
oder auch einem Stack eine Vielzahl von Fasern zugeordnet,
die in einem Faserbündel geführt werden können. Das Aus
koppelende des Faserbündels kann dann zur Erzeugung eines
Arbeits-Laserstrahlbündels abgebildet werden. Mit dieser
Anordnung sind zwei Nachteile verbunden: Zum einen geht
Licht verloren, weil die Optik nicht vollständig ausgeleuch
tet werden kann. Zum anderen muß, um einen kleinen Brenn
punkt zu erhalten, die Brennweite der Linsen klein gehalten
werden, was zu einer mit Einkoppelverlusten verbundenen
großen numerischen Apertur führt.
Die Handhabung eines derartigen Mikrolinsen-Arrays ist
relativ kompliziert, da die Mikrolinsen nahe an die Einzel-
Emitter herangeführt werden müssen und die Justage entspre
chend kritisch ist. Zusätzlich ist bei Einsatz von Mikro
linsen in Verbindung mit Hochleistungs-Laserdioden-Arrays
die Herstellung und Materialauswahl sehr kritisch, da
kleinste Absorptionen bei der Emissionswellenlänge der
Laserdioden zu einer nicht tolerablen Aufheizung der Mikro
linsen führen.
Daneben ist es bekannt, die Emissionsbündel von Laserdio
den-Arrays mit unterschiedlichen Emissionswellenlängen
über dichroitische Einkoppelspiegel zu überlagern. Dabei
ergibt sich der Nachteil, daß nur Laserdiodenstrahlen
unterschiedlicher Wellenlänge auf diese Weise überlagerbar
sind.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein
Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs genannten
Art derart weiterzubilden, daß eine effiziente Überlage
rung der Einzellichtquellen mit möglichst geringen Verlus
ten und geringem Justieraufwand möglich ist.
Diese Aufgabe wird, was das erfindungsgemäße Verfahren
angeht, dadurch gelöst, daß
von einem ersten allen Einzellichtquellen gemeinsam zugeordneten abbildenden optischen Element virtuelle Zwischenbilder der Einzellichtquellen erzeugt werden und daß durch ein zweites facettiertes optisches Element die von den Einzellichtquellen ausgehenden Strahlenbündel so unterschiedlich abgelenkt werden, daß sie sich in mindestens einem Abbildungsfleck superponieren.
von einem ersten allen Einzellichtquellen gemeinsam zugeordneten abbildenden optischen Element virtuelle Zwischenbilder der Einzellichtquellen erzeugt werden und daß durch ein zweites facettiertes optisches Element die von den Einzellichtquellen ausgehenden Strahlenbündel so unterschiedlich abgelenkt werden, daß sie sich in mindestens einem Abbildungsfleck superponieren.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird also ein erstes
optisches Element eingesetzt, mit dem die Einzellichtquellen
"normal" abgebildet werden können. Dieses erste, allen
Einzellichtquellen gemeinsam zugeordnete optische Element
würde für sich alleine Zwischenbilder erzeugen, die an
unterschiedlichen Stellen liegen. Um nun zumindest einen
Teil dieser Zwischenbilder übereinander zu bringen, wird
jedes einzelne Strahlenbündel von einer zugeordneten
Facette des zweiten optischen Elements erfaßt und so
abgelenkt, daß die Positionen der jeweiligen Bilder der
Einzellichtquellen in einem zugehörigen Abbildungsfleck
zusammenfallen.
Dabei brauchen nicht alle Abbildungsflecke zusammenfallen.
Vielmehr kann das facettierte optische Element auch
so ausgebildet sein, daß mehrere Abbildungsflecke mit
einem gewünschten Muster in einer gemeinsamen Ebene
oder in Abstand voneinander auf der optischen Achse
des Systems entstehen.
Das facettierte optische Element kann sich an jeder
beliebigen Stelle des Strahlenganges hinter dem ersten
abbildenden optischen Element befinden, an welcher die
Einzelstrahlbündel voneinander getrennt sind, sich also
nicht überlappen. Insbesondere braucht also dieses facet
tierte Element nicht unmittelbar hinter den Einzellicht
quellen angeordnet zu sein, wie dies beim Stande der
Technik der Fall war. Ebensowenig müssen die einzelnen
Facetten, jede für sich, justiert werden. Sich können
bereits werksseitig eine solche Ausrichtung erhalten,
daß die angestrebte Ablenkung der Strahlenbündel erzielt
wird. Justagearbeiten sind daher praktisch nicht mehr
erforderlich; auch ist die Positionierung des facettierten
optischen Elementes im Strahlengang nicht sehr kritisch
und einfach durchzuführen.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich sehr
schlanke Strahlenbündel erhalten, die sich gut in eine
Faser eines Lichtleiters einkoppeln lassen.
Eine vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Verfahrens zeichnet sich dadurch aus, daß von den Einzel
lichtquellen zunächst vergrößerte Zwischenbilder erzeugt
werden. Diese "Vorvergrößerung" der Einzellichtquellen
vor der Ablenkung der Strahlenbündel ermöglicht die
Verwendung größerer facettierter optischer Elemente, die
leichter herzustellen und leichter richtig in den Strah
lengang eingesetzt werden können.
Die oben genannte Aufgabe wird, was die Vorrichtung angeht,
dadurch gelöst, daß diese umfaßt:
- a) mindestens ein erstes, allen Einzellichtquellen gemein sam zugeordnetes abbildendes optisches Element, das virtuelle Zwischenbilder der Einzellichtquellen erzeugt;
- b) mindestens ein zweites optisches Element, das Facetten aufweist, die den von den Einzellichtquellen ausgehen den Strahlenbündeln zugeordnet und so gerichtet sind, daß die verschiedenen Strahlenbündel unterschiedlich abgelenkt und in mindestens einem Abbildungsfleck super poniert werden.
Die Vorteile dieser erfindungsgemäßen Vorrichtung stimmen
sinngemäß mit den oben erwähnten Vorteilen des erfindungs
gemäßen Verfahrens überein.
Die Wirkung der Facetten kann auf die reine Strahlablenkung
beschränkt sein. Die Facetten können aber auch konvex
oder konkav gekrümmt sein und so eine eigene abbildende
Wirkung auf die ihnen zugeordneten Strahlenbündel haben.
Zweckmäßigerweise sind die vom ersten optischen Element
erzeugten Zwischenbilder vergrößert. Auf die Vorteile
dieser "Vorvergrößerung" wurde ebenfalls bereits oben
hingewiesen.
Ganz besonders bevorzugt wird eine Ausgestaltung der erfin
dungsgemäßen Vorrichtung, bei welcher
- a) das erste und das zweite optische Element ringförmig ausgebildet und koaxial zu einer gemeinsamen Bezugs achse angeordnet sind;
- b) die Einzellichtquellen auf mindestens einem die Bezugs achse umgebenden Ring in mindestens einer Meridional ebene angeordnet sind;
- c) den Einzellichtquellen unmittelbar mindestens ein drittes abbildendes optisches Element nachgeschaltet ist, welches in Sagittalrichtung die Abbildungseigen schaften einer Zylinderlinse aufweist und die einzelnen Strahlenbündel in sagittaler Richtung auf der Bezugs achse abbildet.
Diese Ausführungsform eignet sich ganz besonders gut für
die Überlagerung von Strahlenbündeln, die von einer Viel
zahl von Laserdioden-Arrays (Barren) ausgehen. Die Anord
nung ist mit Ausnahme derjenigen der Barren selbst und
der diesen nachgeschalteten dritten optischen Elemente
rotationssymmetrisch. In allen Meridionalebenen, die sich
in der Bezugsachse schneiden, können Barren so angeordnet
werden, daß deren einzelne Laserdioden in der Meridional
ebene liegen. Eine Grenze für die Anzahl von Barren, die
in dieser Weise zusammengefaßt werden können, ist nur
durch den vorhandenen Platz und die Abmessungen der Barren
gesetzt. Aufgrund der Ringform des ersten und des zweiten
optischen Elementes können die Abbildungseigenschaften
in meridionaler und in sagittaler Richtung unabhängig
voneinander betrachtet werden. Wenn also die Zylinderlin
seneigenschaften aufweisenden dritten abbildenden optischen
Elemente die Einzellaserdioden des zugehörigen Barrens
in sagittaler Richtung auf der Bezugsachse abbilden, so
ändert sich hieran durch Einfügung ringförmiger zusätzlichere
Abbildungselement nichts. In allen Meridionalebenen
wird daher durch die Facettierung des ersten abbildenden
optischen Elementes erreicht, daß die von den in der
entsprechenden Meridionalebene liegenden Einzellaserdioden
der jeweiligen Barren ausgehenden Strahlen alle auf der
Bezugsachse superponiert werden. Hier läßt sich eine
extrem hohe Leistungsdichte erreichen.
Das erste und das zweite optische Element sollten reflek
tive optische Elemente, also Spiegel sein.
Das dritte abbildende optische Element hingegen, welches
die Eigenschaften einer Zylinderlinse aufweist und die
Abbildung in sagittaler Richtung besorgt, ist zweckmäßiger
weise ein refraktives optisches Element.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend
anhand der Zeichnung näher erläutert; die einzige Figur
zeigt im Meridionalschnitt den Strahlengang einer Vorrich
tung zur Fokussierung der von mehreren Barren ausgehenden
Strahlenbündel.
Die nachfolgend beschriebene Vorrichtung ist im wesent
lichen ringförmig zu einer Bezugsachse ausgebildet,
die in der Zeichnung mit dem Bezugszeichen 1 versehen
ist. Auf einer ringförmigen, gekühlten Halterung, die in
der Zeichnung nicht dargestellt ist, ist eine Mehrzahl
von Barren 2 montiert; zwei dieser Barren 2 sind in der
Figur erkennbar. Jeder dieser Barren enthält 2 seinerseits
eine Mehrzahl einzelner Laserdioden, im dargestellten
Fall fünf Laserdioden D1, D2, D3, D4, D5, von denen
jeweils ein Strahlenbündel ausgeht. Die einzelnen Laser
dioden D1 bis D5 der dargestellten Barren 2 liegen in der
von der Zeichenebene gebildeten Meridionalebene des
Systems. Auch in anderen, gegenüber der Zeichenebene
verdrehten Meridionalebenen der Bezugsachse 1 können
entsprechende Barren 2 angeordnet sein.
Die von den Laserdioden D1 bis D5 ausgehenden Strahlen
bündel durchsetzen zunächst jeweils zwei Zylinderlinsen
3, 4, welche diese Strahlenbündel in sagittaler Richtung so
beeinflussen, daß diese nach dem Durchlaufen der weiteren,
nachfolgend zu beschreibenden optischen Elemente alle
auf der Bezugsachse 1 abgebildet werden. Da alle diese
optischen Elemente ringförmig sind, braucht der Verlauf
der einzelnen Strahlenbündel in sagittaler Richtung nicht
erläutert zu werden; letztendlich wird unabhängig von
der Art dieser ringförmigen optischen Elemente immer
in sagittaler Richtung auf der Bezugsachse 1 abgebildet.
Es bleibt daher, den Verlauf der einzelnen Strahlenbündel
in meridionaler Richtung zu erläutern; dieser Strahlenver
lauf ist in der einzigen Figur dargestellt.
Die von den Laserdioden D1 bis D5 ausgesandten Strahlen
bündel bleiben in meridionaler Richtung von den beiden
Zylinderlinsen 3, 4 im wesentlichen unbeeinflußt und
treffen auf einen ersten Ringspiegel 5, welcher von den
Laserdioden D1 bis D5 an den Stellen Z1 bis Z5 vergrößerte
Zwischenbilder erzeugt.
Innerhalb des Strahlengangs und noch vor Erreichen der
Zwischenbildsstellen Z1 bis Z5 ist ein zweiter Ringspiegel
6 vorgesehen, der zum ersten Ringspiegel 5 und zu der
Halterung der Barren 2 koaxial ist. Der Ringspiegel 6
befindet sich an einer Stelle, an welcher die von den
Laserdioden D1 bis D5 ausgehenden Strahlenbündel voneinan
der getrennt sind.
Der Ringspiegel 6 besitzt für jedes von den Laserdioden
D1 bis D5 ausgehende Strahlenbündel eine ringförmige
Facette F1 bis F5. Jede dieser Facetten F1 bis F5 ist
eine Konusfläche, im dargestellten Meridionalschnitt also
geradlinig, wobei die Konuswinkel - bezogen auf die
Bezugsachse 1 - unterschiedlich sind; dies hat zur Folge,
daß alle Facetten F2 bis F5 gegeneinander verkippt sind.
Die Wirkung der Facetten F1 bis F5 ist so, daß die vom
ersten Ringspiegel 5 herkommenden Strahlenbündel, die zu
nächst divergieren, konvergent auf einen einzigen Abbil
dungsfleck A reflektiert werden, der auf der Bezugsachse 1
liegt. Dieser Abbildungsfleck A entsteht also durch
Superposition aller von den Laserdioden D1 bis D5 ausge
hender Strahlenbündel, die auf der die Bezugsachse 1
umgebenden ringförmigen Halterung angeordnet sind. So
gelingt es, in dem Abbildungsfleck A eine hohe Leistungs
dichte zu erzielen, die dann für die Laserbearbeitung eines
Werkstücks eingesetzt werden kann.
Claims (7)
1. Verfahren zur Überlagerung von Strahlenbündeln, die
von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen, insbeson
dere Laserdioden, ausgehen, in mindestens einem Abbildungs
fleck,
dadurch gekennzeichnet, daß
von einem ersten, allen Einzellichtquellen gemeinsm
zugeordneten abbildenden optischen Element (5) virtu
elle Zwischenbilder (Z1 bis Z5) der Einzellichtquellen
(D1 bis D5) erzeugt werden und daß durch ein zweites
facettiertes optisches Element (6) die von den Einzel
lichtquellen (D1 bis D5) ausgehenden Strahlenbündel so
unterschiedlich abgelenkt werden, daß sie sich in mindes
tens einem Abbildungsfleck (A) superponieren.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß von den Einzellichtquellen (D1 bis D5) vergrößerte
Zwischenbilder (Z1 bis Z5) erzeugt werden.
3. Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln,
die von einer Mehrzahl von Einzellichtquellen insbe
sondere Laserdioden, ausgehen, in mindestens einem Arbeits
fleck,
dadurch gekennzeichnet, daß sie umfaßt:
- a) mindestens ein erstes, allen Einzellichtquellen gemeinsam zugeordnetes abbildendes optisches Element (5), das virtuelle Zwischenbilder (Z1 bis Z5) der Einzellichtquellen (D1 bis D5) erzeugt;
- b) mindestens ein zweites optisches Element (6), das Facetten (F1 bis F5) aufweist, die den von Einzellicht quellen (D2 bis D5) ausgehenden Strahlenbündeln zugeordnet und so gerichtet sind, daß die verschiedenen Strahlenbündel unterschiedlich abgelenkt und in mindestens einem Abbildungsfleck (A) superponiert werden.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die von dem ersten optischen Element (5) erzeugten
Zwischenbilder (Z1 bis Z5) vergrößert sind.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß
- a) das erste (5) und das zweite (6) optische Element ringförmig ausgebildet und koaxial zu einer gemeinsamen Bezugsachse (1) angeordnet sind;
- b) die Einzellichtquellen (D1 bis D5) auf mindestens einem die Bezugsachse (1) umgebenden Ring in mindes tens einer Meridionalebene angeordnet sind;
- c) den Einzellichtquellen (D1 bis D5) unmittelbar mindes tens ein drittes abbildendes optisches Element (3, 4) nachgeschaltet ist, welches in Sagittalrichtung die Abbildungseigenschaften einer Zylinderlinse aufweist und die einzelnen Strahlenbündel in sagittaler Richtung auf der Bezugsachse (1) abbildet.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß das erste (5) und das zweite (6)
optische Element reflektive optische Elemente sind.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das dritte abbildende optische
Element (3, 4) ein refraktives optisches Element ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10062453A DE10062453B4 (de) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10062453A DE10062453B4 (de) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10062453A1 true DE10062453A1 (de) | 2002-07-04 |
DE10062453B4 DE10062453B4 (de) | 2007-07-19 |
Family
ID=7667223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10062453A Expired - Fee Related DE10062453B4 (de) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10062453B4 (de) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE10062453B4 (de) | 2007-07-19 |
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