DE10049012A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Silan enthaltenden Gasen und Flüssigkeiten - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Silan enthaltenden Gasen und FlüssigkeitenInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine entsprechende Vorrichtung zur Verringerung bzw. Entfernung des Gehalts an Silan aus Gasen oder Flüssigkeiten, insbesondere aus Abgasströmen, durch Kontaktieren mit flüssigen Chlorsilanen, insbesondere Siliciumtetrachlorid, und Umsetzung in Gegenwart eines Katalysators zur Herabsetzung des Gehalts an Silan und gegebenenfalls Chlorsilan und Dichlorsilan, bei gleichzeitiger Erhöhung des Gehalts an Trichlorsilan und anschließender Isolierung und Abtrennung des Trichlorsilans. Eine zuverlässige Verringerung des Gehalts an Silan bzw. dessen vollständige Entfernung unter wirtschaftlich günstigen Bedingungen bei einer möglichen Wiederverwertbarkeit des entfernten Silans wird dadurch erreicht, dass als Katalysator ein oder mehrere basische, hochsiedende, im Siliciumtetrachlorid gelöste Katalysatoren vom Trialkylamin- oder Aryldialkylamin-Typ verwendet werden.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Verringerung bzw.
Entfernung des Gehalts an Silan aus Gasen oder Flüssigkeiten, insbesondere aus
Abgasströmen, durch Kontaktieren mit flüssigen Chlorsilanen, insbesondere Sili
ciumtetrachlorid, und Umsetzen in Gegenwart eines Katalysators zur Herabsetzung
des Gehalts an Silan und gegebenenfalls Chlorsilan und Dichlorsilan, bei gleichzei
tiger Erhöhung des Gehalts an Trichlorsilan und anschließender Isolierung und
Abtrennung des Trichlorsilans.
Die Umsetzungen verlaufen nach den Brutto-Gleichungen
SiCl4 + SiH4 → 2SiH2Cl2
3SiCl4 + SiH4 → 4SiHCl3
SiCl4 + 3SiH4 → 4SiH3Cl
Silane, die Si-Homologen der Alkane, sind im Gegensatz zu den Kohlenwasser
stoffen sehr instabil, da sie sich bei Berührung mit Sauerstoff von selbst entzünden,
mit heftigem Knall explodieren und zu Siliciumdioxid und Wasser verbrennen. Silan
enthaltende Abgasströme, wie sie bei der Herstellung und bei der Umsetzung von
Silan anfallen können sind insofern ein besonderes Problem, als die Selbstentzünd
lichkeit des Silans auch noch bei hohen Verdünnungen vorhanden ist und damit das
Risiko der spontanen Entflammung und gegebenenfalls der Entzündung begleitender
Gase mit sich bringt.
Stand der Technik zur Beseitigung derartiger Gasströme sind zum einen die Abgas
verbrennung und zum anderen die Hydrolyse, insbesondere die alkalische Hydrolyse,
bei der die Silane durch Wasser unter Bildung von Kieselsäure und Wasserstoff zer
setzt werden.
Beide Verführen sind mit erheblichen Nachteilen hinsichtlich der technischen Aus
führung behaftet. Bei beiden Verfahren werden die im Silan enthaltenden Bestand
teile Silicium und hydridischer Wasserstoff nicht genutzt, sondern enden als Abfälle
(Siliciumdioxid-Staub bzw. verdünnte Silikat-Lösung).
Bei der Abgasverbrennung muss der gesamte Gasstrom einschließlich der das Silan
begleitenden Stoffe auf Verbrennungstemperatur erhitzt und abschließend wieder
abgekühlt, der erzeugte Siliciumdioxid-Staub vor Entlassung des Gasstroms in die
Umwelt aufwendig abgetrennt, die Erhitzung des Abgasstroms und die Sauerstoff
zufuhr zu demselben unabhängig vom Silangehalt aufrechterhalten und schließlich
die Entsorgung der Folgeprodukte aus Begleitern des Silans im Abgasstrom gewähr
leistet werden.
Begleitstoffe des Silans in Abgasströmen sind insbesondere: Edelgase, insbesondere
Helium und Argon, Stickstoff, Hydrochlorsilane und Chlorsilane, also Monochlor
silan, Dichlorsilan, Trichlorsilan, Siliciumtetrachlorid, Wasserstoff, Chlorwasserstoff
und Kohlenwasserstoffe, Polysilane sowie die für Dotierungen verwendeten Gase
Phosphin, Boran, Arsin oder dergleichen und Siliciumstaub.
Bei der Hydrolyse des Abgasstroms ist die geringe Geschwindigkeit der Reaktion
des Silans mit der Folge großer Dimensionen der Apparate störend, des weiteren die
Entstehung von Wasserstoff als brennbares Gas, das mit Luft explosive Gemische
ergibt.
Aus der JP-A-63151611 ist ein Verfahren zur Umsetzung von Monosilan mit halo
genierten Silanen in Gegenwart katalytischer Mengen von Nitrilen, Pyrrolidonen,
Polypyrrolen und Tetrakylharnstoffen bekannt. Die genannten Katalysatoren sind
jedoch nicht besonders aktiv und bewirken demnach keine hohe Umsetzungs
geschwindigkeit.
Ein zweckmäßiges Verfahren zur Behandlung von Silan enthaltenden Abgasströmen
ist in der EP-A2 0 334 664 beschrieben. Dabei wird ein Abgas mit niedrig siedenden
Silanen mit zusätzlichem Siliciumtetrachlorid gemischt, so dass in der Mischung
weniger als 1 mol Wasserstoff an Si gebunden pro mol gesamtes Silicium vorliegt.
Diese Mischung wird dann durch ein festes Beil von Disproportionierungskatalysator
hindurchgeleitet, um die Disproportionierung wasserstoffhaltiger Silane und chlor
haltiger Silane zu einem Stoffstrom zu bewirken, der im Gehalt an Silan, Chlorsilan
und Dichlorsilan herabgesetzt und im Gehalt and Trichlorsilan erhöht ist. Schließlich
wird das erzeugte Trichlorsilan isoliert und abgetrennt.
Ein Nachteil dieses bekannten Verfahrens besteht darin, dass die Konproportionie
rungsreaktion in Gegenwart fester Katalysatoren deutlich langsamer verläuft als in
Gegenwart homogener Katalysatoren, so dass sowohl große Mengen an festem
Katalysator wie auch dafür entsprechend große Reaktionsräume für die jeweils
umzusetzende Menge Silan benötigt werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine entspre
chende Vorrichtung zur Verringerung bzw. Entfernung des Gehalts an Silan aus
Gasen oder Flüssigkeiten anzugeben, bei denen eine zuverlässige Verringerung des
Gehalts an Silan bzw. dessen vollständige Entfernung unter wirtschaftlich günstigen
Bedingungen möglich ist und mit einer möglichen Wiederverwertbarkeit des ent
fernten Silans.
Diese Aufgabe wird hinsichtlich des Verfahrens dadurch gelöst, dass als Katalysator
ein oder mehrere basische, hochsiedende, im Siliciumtetrachlorid gelöste Katalysa
toren vom Trialkylamin- oder Aryldialkylamin-Typ verwendet werden.
Eine zweckmäßige Vorrichtung löst die Aufgabe durch eine mit Reaktionskörpern
bestückte Kolonne, wobei die Silane in ein verwertbares Gemisch von Hydrochlor
silanen umgewandelt werden.
Silan enthaltende Flüssigkeiten können direkt mit Siliciumtetrachlorid in Gegenwart
eines basischen Katalysators umgesetzt werden oder aber aus der Silan enthaltenden
Flüssigkeit kann durch Verdampfen das Silan ausgetrieben und in ein Silan enthal
tendes Gas umgewandelt werden, welches dann mit Siliciumtetrachlorid und
basischem Katalysator umgesetzt wird.
Während Inertgas-Anteile unverändert durch das Reaktionsmedium hindurchtreten,
werden beim erfindungsgemäßen Verfahren neben dem Silan auch die erwähnten
Hydrochlorsilane und auch Polysilane in diesem Reaktionsmedium, das Chlorsilane,
insbesondere Siliciumtetrachlorid, und basischem Katalysator als wesentliche Kom
ponenten enthält, in wertvolle Hydrochlorsilane umgewandelt.
Siliciumstaub und auch die höher siedenden Polysilane werden durch das Reak
tionsmedium aus dem Gasstrom ausgewaschen und gegebenenfalls umgewandelt.
Bei der Umsetzung erfolgt die Umwandlung in Trichlorsilan, weil Trichlorsilan von
den Hydrochlorsilanen am wenigstens entzündlich und am Einfachsten zu kondensie
ren ist. In weiterer Ausgestaltung der Erfindung wird daher bevorzugt mit einem Sili
ciumtetrachlorid-Überschuss gearbeitet.
Geeignete basische Katalysatoren sind tertiäre aliphatische oder gemischt alipha
tisch-aromatische Amine, jedoch sind auch fünf- oder sechsgliedrige aromatische
Heterozyklen mit wenigstens einem Stickstoffatom im Ring einsetzbar. Beispiele
hierfür sind Triethylamin, Tributylamin, Phenyldimenthylamin, Phenyldiethylamin,
Dimethylbenzylamin, Diphenylmethylamin, Pyridin, Methylpyrol, Polyvinylcarbazol
oder Chinolin.
Der Anteil der basischen Katalysatoren an den Komponenten des Reaktionsmediums
beträgt zwischen 0,1 und 90 Massen-%, vorzugsweise zwischen 5 und 50 Massen-%.
Die Umsetzung von Silan enthaltenden Gasen und Flüssigkeiten mit Chlorsilanen,
insbesondere Siliciumtetrachlorid, wird in weiterer Ausgestaltung der Erfindung bei
Temperaturen von -50°C bis 250°C, vorzugsweise von ca. 20°C bis ca. 150°C,
besonders bevorzugt bei Temperaturen zwischen 35°C und 55°C durchgeführt. Der
letztgenannte Temperaturbereich ist deshalb besonders bevorzugt, da die Arbeitstem
peratur unterhalb des Siedepunktes von Siliciumtetrachlorid liegt. Der Siedepunkt
von Siliciumtetrachlorid beträgt 56,7°C, so dass die Umsetzung bevorzugt in einer
Kolonne im Gegenstromverfahren erfolgen kann. Da dann die Arbeitstemperatur im
bevorzugten Bereich unterhalb des Siedepunktes von Siliciumtetrachlorid liegt,
können die erzeugten Hydrochlorsilane die Reaktionsmischung gasförmig am Kopf
der Kolonne verlassen und anschließend kondensiert und gegebenenfalls gereinigt
werden.
Durch den Einsatz höhersiedender flüssiger basischer Katalysatoren ist sowohl beim
kontinuierlichen als auch beim diskontinuierlichen Betrieb eine Betriebstemperatur
in der Nähe des Siedepunkts von Siliciumtetrachlorid sinnvoll einsetzbar, weil
dadurch die ständige Entfernung der Reaktionsprodukte über die Gasphase möglich
wird.
Gemäß einer weiteren Lehre der Erfindung erfolgt die Umsetzung bei Drücken
zwischen 0,1 und 50 bar, vorzugsweise bei Drücken von 1 bis 30 bar.
Die Umsetzung kann durch Eintragen der Silan enthaltenden Flüssigkeit oder des
Silan enthaltenden Gases in die Siliciumtetrachlorid und basischen Katalysator
enthaltende Reaktionsmischung erfolgen, wobei für eine kontinuierliche Reaktions
führung entsprechend dem Verbrauch Siliciumtetrachlorid nachgeführt werden muss,
während die Reaktionsprodukte Hydrochlorsilane fortlaufend der Reaktionsmischung
entnommen werden, entweder als gasförmige Produkte, oder flüssig, gelöst in der
Reaktionsmischung. Wird/werden der oder die Katalysator/en mit den Produkten der
Reaktionsmischung entnommen, so muss parallel mit dem Siliciumtetrachlorid auch
der Katalysator entsprechend seiner Entnahme dem Reaktionsgemisch ständig zuge
führt werden. Dazu sieht eine weitere zweckmäßige Ausgestaltung der Erfindung
vor, dass für eine kontinuierliche Reaktionsführung eine Gegenstromführung von
Silan enthaltendem Gas und flüssigem Siliciumtetrachlorid besonders geeignet ist,
wobei der basische Katalysator das Siliciumtetrachlorid begleitet und darin gelöst ist.
Eine bevorzugte Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
ist eine mit Reaktionskörpern bestückte Kolonne, wobei die Reaktionskörper als
Böden, Füllkörper, Packungen oder dergleichen ausgeführt sein können.
Der bei der Behandlung Silan enthaltender Abgase das Reaktionsmedium verlas
sende Gasstrom ist nunmehr arm an Silan oder frei von Silan, enthält dafür aber ent
sprechend den Partialdrücken gasförmig die gebildeten Hydrochlorsilane, welche fast
ausschließlich aus Trichlorsilanen bestehen, und Siliciumtetrachlorid, bei Verwen
dung verdampfbarer Amine als Katalysatoren darüber hinaus einen Anteil des
Amins. Diese Stoffe sind alle leichter zu kondensieren als Silan und können daher
durch Abkühlen oder durch Adsorption, beispielsweise an Aktivkohle/Aktivkoks
oder Kieselgel, und nachfolgende Desorption wiedergewonnen und gewünschtenfalls
zurückgeführt werden.
Die Hydrochlorsilane Monochlorsilan, Dichlorsilan, insbesondere aber Trichlorsilan,
werden üblicherweise vom Siliciumtetrachlorid destillativ abgetrennt und als solche
verwertet, können aber auch gemeinsam mit dem Siliciumtetrachlorid weiterverar
beitet werden, beispielsweise durch Verbrennung zu pyrogener Kieselsäure.
Claims (15)
1. Verfahren zur Verringerung bzw. Entfernung des Gehalts an Silan aus Gasen
oder Flüssigkeiten, insbesondere aus Abgasströmen, durch Kontaktieren mit
flüssigen Chlorsilanen, insbesondere Siliciumtetrachlorid, und Umsetzen in
Gegenwart eines Katalysators zur Herabsetzung des Gehalts an Silan und
gegebenenfalls Chlorsilan und Dichlorsilan, bei gleichzeitiger Erhöhung des
Gehalts an Trichlorsilan und anschließender Isolierung und Abtrennung des
Trichlorsilans, dadurch gekennzeichnet, dass als Katalysator ein oder mehrere
basische, hochsiedende, im Siliciumtetrachlorid gelöste Katalysatoren vom
Trialkylamin- oder Aryldialkylamin-Typ verwendet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Katalysatoren
tertiäre aliphatische Amine verwendet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Katalysatoren
gemischt aliphatisch-aromatische Amine verwendet werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Katalysatoren
fünf- oder sechsgliedrige aromatische Heterocyclen mit wenigstens einem
Stickstoffatom im Ring verwendet werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass
das Reaktionsmedium einen Überschuss an Siliciumtetrachlorid enthält.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass
der Anteil der basischen Katalysatoren an den Komponenten des Reaktions
mediums zwischen 0,1 und 90 Massen-% beträgt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil der
basischen Katalysatoren an den Komponenten des Reaktionsmediums zwi
schen 5 und 50 Massen-% beträgt.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung in
einem Temperaturbereich von -50 bis 250°C erfolgt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung in
einem Temperaturbereich von 20 bis 150°C erfolgt.
10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung in
einem Temperaturbereich von 35 bis 55°C erfolgt.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass
die Umsetzung bei Drücken von 0,1 bis 50 bar erfolgt.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung
bei Drücken von 1 bis 30 bar erfolgt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass
die Umsetzung im Gegenstrom erfolgt.
14. Verfahren nach Anspruch 13, gekennzeichnet durch eine Gegenstromführung
von Silan enthaltendem Gas und flüssigem Siliciumtetrachlorid.
15. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1
bis 15, gekennzeichnet durch eine mit Reaktionskörpern bestückte Kolonne.
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Cited By (2)
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DE102005011095A1 (de) * | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Schäffer, Lars | Verfahren und Einrichtungen zur Entsorgung von Siliziumwasserstoff-Überschüssen |
CN111013362A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-17 | 武汉新硅科技潜江有限公司 | 一种氯硅烷生产中尾气处理系统 |
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2000
- 2000-10-04 DE DE2000149012 patent/DE10049012B4/de not_active Expired - Fee Related
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