DD291398A5 - Piezoresistiver drucksensor - Google Patents
Piezoresistiver drucksensor Download PDFInfo
- Publication number
- DD291398A5 DD291398A5 DD89336736A DD33673689A DD291398A5 DD 291398 A5 DD291398 A5 DD 291398A5 DD 89336736 A DD89336736 A DD 89336736A DD 33673689 A DD33673689 A DD 33673689A DD 291398 A5 DD291398 A5 DD 291398A5
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- pressure
- piezoresistive
- deformation
- pressure sensor
- resistant frame
- Prior art date
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 5
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft einen piezoresistiven Drucksensor aus Halbleitermaterial, der zur Vergroeszerung des Einsatzdruckmeszbereiches eine hoehere Anzahl aufloesbarer Schritte des Nenndruckbereiches besitzen soll. Das wird dadurch erreicht, dasz der Drucksensor zwei Druckmembranen fuer unterschiedliche Nenndruecke besitzt, wobei die Druckmembran fuer den kleinen Nenndruck einen verformungssteifen Rahmen enthaelt, dieser Rahmen im Inneren eine zweite, ebene Druckmembran fuer einen groszeren Nenndruckwert, der dem Nenndruckbereich des Sensors entspricht, enthaelt und die Auslenkung des verformungssteifen Rahmens bei Druecken, die gleich oder groeszer dem Nenndruckwert der Druckmembran fuer den kleineren Druckbereich sind, durch einen mit dem Drucksensorchip verbundenen Gegenkoerper begrenzt wird. Beide Druckmembranen enthalten jeweils eine piezoresistive Widerstandsstruktur, die im jeweiligen Nenndruckbereich ein druckabhaengiges elektrisches Ausgangssignal, im allgemeinen eine Ausgangsspannung, liefern. Fig. 1{Druckwandler; Sensor, piezoresistiv; Silizium; Verformungskoerper; Gestaltung; innere Membran; verformungssteifer Rahmen; aeuszere Ringmembran; Meszbereichsumschaltung}
Description
Hierzu 3 Seiten Zeichnungen
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Messung von statischen und dynamischen Drücken in Gasen und Fluiden.
Druckwandler auf Halbleiterbasis realisieren vorzugsweise ein piezoresistives oder kapazitives Meßprinzip (S. K. CLARK, K.D.WISE: Pressure sensitivity in anisotropically etched thin —diaphragm pressure sensors. IEEE Transactions on Electron Divices ED —26 [1979] 12, S. 1887—1895). Dabei stellt derzeitig noch das piezoresistive Verfahren das dominierende Meßprinzip für Drucksensoren der z. B. Automatisierungstechnik und der biomedizinischen Meßtechnik dar. Bei diesem Meßprinzip werden die infolge der druckbedingten Auslenkung in der Druckmembran hervorgerufenen mechanischen Spannungen bzw. Dehnungen in elektrische Ausgangssignale umgesetzt. Die Druckmembran ist dazu durch lokales Abdünnen eines Halbleitersubstrates, vorzugsweise aus Silizium, erzeugt, so daß sie monolithischer Bestandteil des Drucksensorchips ist (DE'1.621.532, DE 1.953.665, US 3.649.395, EP 0.004.872, EP 0.009.677 u.a.). Übliche Ausführungen von Drucksensoren mit ebenen Druckmembranen weisen Verformungskörper auf, die Rechteck- (z.B. DD 137.166), Quadrat- (z.B. DE 3.538.453, US 4.400.681), Kreis- (z. B. DD 133.714, DE 2.856.708, US 4.439.752) oder eine andere Form (z. B. DD 150.376, DE 3.345.988) besitzen.
Für kleine Nenndruckbereiche wächst für alle Plattenformen der Linearitätsfehler stark an. Das führt dazu, daß bei maximal zulässigem Linearitätsfehler die Empfindlichkeit piezoresistiver Drucksensoren unterhalb einer bestimmten Grenze mit kleiner
werdendem Nenndruck abnimmt (J BINDER u.a . Silicon pressure sensors for the 2 kPa to 40 MPa range Siemens Forschungs und Entwicklungsberichte 13 [1984] 6, S. 294-302) und sich dadurch die endwertbezogenen Fehlerkennwerte proportional zur Empfindlichkeitsverringerung vergrößern. Fur kleine Nenndruckbereiche werden deshalb Drucksensoren besonderer Geometrie des Verformungskorpers verwendet
ι) Drucksensorchips mit biegesteifem Zentrum, deren mechanischer Verformungskorper damit vorrangig eine Quadrat-(US 4 236 137, JP 58-221 135, SU 1 303 857) oder Kreisringmembran (US 3 341 794, US 4 236 137, DE 2 549 001, DE 3 047 619, SU 1 408 263) darstellt,
ti) Drucksensorchips mit zwei biegesteifen Inseln, bei denen der Spalt zwischen beiden Inseln bzw den Inseln und dem Einspannrand als Biegefedern wirken (US 4 065 970, SU 1 404 852),
in) Drucksensorchips mit monolithisch an die Druckmembran gekoppelter Biegefeder (DD 262 307, US 4 570 498, SU 1 210 076)
Die Empfindlichkeit piezoresistiver Drucksensoren wird fur alle Typen bei vergleichsweise großen Druckbereichen durch die Nichtlinearitat des piezoresistiven Effekts begrenzt
Die Genauigkeit piezoresistiver Drucksensoren wird durch die Empfindlichkeit des Wandlers und seiner Eigenstorungen bestimmt Gegenwartig werden die Eigenstorungen piezoresistiver Aufnehmer vorrangig durch Instabilitäten des elektrischen Wandlers innerhalb der Meßkette mechanischer Wandler (Druckplatte) - mechanoelektrischer Wandler (Piezowiderstand) elektrischer Wandler (Wheatstone Brücke) hervorgerufen (F -M SCHMIDT Entwurf und Herstellungstechnologie integrierter Miniaturdrucksensoren mit elektrisch stabilen piezoresistiven Bruckenstrukturen Dissertation A TU Dresden 1988) Eigenstorungen lassensich durch geeignete Maßnahmen verringern (z B DE 3 118 366),jedoch nichtganzlich ausschließen Sie beschranken damit den Druckanwendungsbereich des Aufnehmers, da infolge seines endlichen Wertes und (fur alle Druckmembrangeometrien) nach oben begrenzter Empfindlichkeit der Meßbereich auch nur mit einer endlichen Zahl von Schritten aufgelost werden kann Üblicherweise müssen deshalb fur verschiedene praktische Meßaufgaben jeweils unterschiedliche Drucksensoren verwendet werden, die fur jeweils einen speziellen Nenndruckbereich konzipiert wurden
Das Ziel der Erfindung besteht in der Vergrößerung des Einsatzdruckmeßbereiches piezoresistiver Drucksensoren
Darstellung des Wesens der Erfindung
Aufgabe der Erfindung ist es, einen piezoresistiven Drucksensor zu schaffen der eine höhere Anzahl auflösbarer Schritte des Nenndruckbereiches besitzt
Die Aufgabe wird erfmdungsgemaß dadurch gelost, daß ein piezoresistiver Drucksensor zwei Druckmembranen fur unterschiedliche Nenndrucke besitzt, wobei die Druckmembran fur den kleinen Nenndruck einen verformungssteifen Rahmen enthalt, dieser Rahmen im Inneren eine zweite, ebene Druckmembran fur einen größeren Nenndruckwert der dem Nenndruckbereich des Drucksensors entspricht, enthalt, und die Auslenkung des verformungssteifen Rahmens bei Drucken die gleich oder großer dem Nenndruckwert der Druckmembran fur den kleineren Druckbereich sind durch einen mit dem Drucksensorchip verbundenen Gegenkorper begrenzt wird
Beide Druckmembranen enthalten jeweils eine piezoresistive Widerstandsstruktur, die im jeweiligen Nenndruckbereich ein druckabhangiges elektrisches Ausgangssignal, im allgemeinen eine Ausgangsspannung, liefern Fur große Drucke im Bereich zwischen dem kleinen und dem großen Nenndruck sind sowohl die äußere als auch die innere Druckmembran ausgelenkt Die innere Druckmembran liefert ein druckproportionales Ausgangssignal Das kleinste meßbare Ausgangssignal dieser piezoresistiven Struktur wird dabei durch die maximale Anzahl auflösbarer Schritte im Nenndruckbereich bestimmt Fur kleine Drucke unterhalb dieser Auflosungsgrenze ist mit dieser Druckmembran keine Meßwertgewinnung möglich Durch die infolge des Gegenkorpers begrenzte Auslenkung des verformungssteifen Rahmens kann die äußere Druckmembran fur den kleinen Druckbereich nicht druckproportional ausgelenkt werden so daß oberhalb des kleinen Nenndruckes eine Überlastung der äußeren Druckmembranen vermieden wird Fur kleine Drucke unterhalb des kleinen Nenndruckes fur die äußere Druckmembran erfolgt eine druckproport ion ale Auslenkung auch der äußeren Druckmembran Da diese Druckmembran eine höhere Empfindlichkeit gegenüber der inneren Druckmembran aufweist, ist in diesen Druckbereichen mit der piezoresistiven Struktur der äußeren Membran eine Meßwertgewinnung möglich Bei annähernd gleicher Anzahl auflösbarer Schritte bei der Membran wird durch die höhere Empfindlichkeit der äußeren Membran eine weitere Verringerung der Auflosungsgrenze erzielt, so daß der komplette Drucksensor bestehend aus äußerer und innerer Druckmembran, eine insgesamt höhere Anzahl auflösbarer Schritte als ein Drucksensor mit nur einer Membran besitzt
Die Auslenkungsbegrenzung des verformungssteifen Rahrrens kann durch bekannte Möglichkeiten der mikromechanischen Formgebung (lokales Abdunnen des Gegenkorpers im Bereich des Rahmens oder Abdunnen des Rahmens selbst) bzw der Fugetechnik des Einspannrandes des Siliziumchips mit dem Gegenkorper (Erzeugung eines Abstandes zwischen verformungssteifem Rahmen und Gegenkorper über die Schichtdicke eines Verbindungsmediums) realisiert werden Der damit erzeugte Abstand zwischen dem verbindungssteifen Medium und dem Gegenkorper muß dabei gleich der Auslenkung ζ (pN)) des Rahmens bei dem kleineren der beiden Nenndrucke sein
Ausführungsbeispiel
Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausfuhrungsbeispiel naher erläutert werden Dabei zeigen
Fig 1 einen Querschnitt eines erfmdungsgemaß ausgelegten Drucksensors,
Fig 2 bis 4 die Funktionsweise des erfmdungsgemaß ausgelegten Drucksensors nach Rg 1,
Fig 5 konstruktive Möglichkeiten der Realisierung des erfmdungsgemaß ausgelegten Drucksensors nach Fig 1,
Fig 6 die Draufsicht einer Möglichkeit der Anordnung piezoresistiver Strukturen im erfmdungsgemaß ausgelegten
Drucksensor nach Fig 1 und Fig 7 die elektrische Schaltung der piezoresistiven Strukturen nach Fig 5
Gemäß Fig 1 ist der Drucksensor aus einem Drucksensorchip 1 und einem Gegenkorper 2 aufgebaut Der Drucksensorchip 1 besteht dabei üblicherweise aus einem Halbleitermaterial, vorzugsweise aus Silizium Er enthalt einen Einspannrahmen 3, eine äußere Druckmembran 4, die im Innern einen verformungssteifen Rahmen 5 tragt und damit eine ringförmige bzw ringahnliche Gestalt besitzt Im inneren des verformungssteifen Rahmens 5 befindet sich eine zweite Druckmembran, die innere Druckmembran 6 Die Druckmembranen 4 und 6 sind durch lokales Abdunnen mittels üblicher mikromechanischer Herstellungstechnologien im Drucksensorchip 1 erzeugt
Die Druckmembranen 4 und 6 sowie der verformungssteife Rahmen 5 besitzen außen bzw innen vorzugsweise quadrat-, rechteck- oder kreisförmige Geometrie
Auf der Oberflache bzw im oberflachennahen Bereich der Druckmembranen 4 und 6 befinden sich piezoresistive Strukturen 7 bzw 8 die vorzugsweise piezoresistive Widerstände darstellen
Der verformungssteife Rahmen 5 ist senkrecht zur Oberflache des Sensorchips 1 bis zu einem Anschlag 9, der durch den Gegenkorper 2 gebildet wird, beweglich
Die Große und die Dicke der äußeren Druckmembran 4 sind so bemessen, daß fur einen Nenndruck pNi die zulassige Dehnung im Halbleitermaterial nicht überschritten wird Der Abstand zwischen dem verformungssteifen Rahmen 5 und dem Anschlag 9 des Gegenkorpers 2 ist dabei gleich der maximalen Auslenkung ξ (ρ = pni) des Rahmens 5 bei wirkendem Druck ρ = pN1 Die Große und Dicke der inneren Druckmembran 6 sind so bemessen, daß fur einen Nenndruck pN2 die zulassige Dehnung im Halbleitermaterial nicht überschritten wird Der Nenndruck pN2 ist dabei um den Faktor (10 200) großer als pNi Vorzugsweise sind die Dicken der Druckmembranen 4 und 6 gleich
Gemäß Fig 2 werden bei sehr kleinen Drucken ρ < pN1 die beiden Druckmembranen 4 und 6 und damit der verformungssteife Rahmen 5 proportional zum Druck ausgelenkt Durch die größere mechanische Nachgiebigkeit der äußeren Druckmembran 4 gegenüber dem Druck ergeben sich in den piezoresistiven Strukturen 7 wesentlich größere mechanische Spannungen bzw Dehnungen als in den piezoresistiven Strukturen 8 der inneren Druckmembran so daß in den piezoresistiven Strukturen ein großes elektrisches, druckproportionales Ausgangssignal entsteht
Bei Erreichen des kleineren Nenndruckes pN1 wird die Auslenkung des verformungssteifen Rahmens 5 durch den Anschlag 9 begrenzt (Fig 3) Bei Erhöhung des Druckes über den Wert pNi hinaus erfolgt damit nur eine unwesentliche weitere Änderung des mechanischen Verformungszustandes der Druckmembran 4 so daß damit eine Zerstörung dieser Membran durch Überlastung ausgeschlossen ist
Gemäß Fig 4 wird bei großen Drucken oberhalb des kleinen Nenndruckes pN1 bis zum großen Nenndruck pN2, der den Nenndruck pN des Gesamtsensors darstellt, in der inneren Druckmembran 6 ein weiterhin druckproportionales mechanisches Spannungs bzw Dehnungsfeld erzeugt, das zu einer druckproportionalen Ausgangsspannung der piezoresistiven Struktur 8 fuhrt
Mögliche Realisierungsformen der Ausschlagsbegrenzung des verformungssteifen Rahmens 4 sind in Fig 5 dargestellt
- Mit Hilfe üblicher mikromechanischer Bearbeitungsverfahren lokal abgedunnte Bereiche 10 des Gegenkorpers 2 Der abgedunnte Bereich 10 entspricht mindestens dem Gebiet des verformungssteifen Rahmens 5, kann aber auch zusätzlich die Gebiete der Druckmembranen 4 und 5 beinhalten Die Tiefe des abgedunnten Bereiches ist gleich dem Wert ξ (pN1) der Auslenkung des Rahmens 7 bei wirkendem kleinen Nenndruck pN, (Fig 5a)
- Mit Hilfe üblicher mikromechanischer Fugeverfahren ist zwischen Sensorchip 1 und Gegenkorper 2 ein Verbindungsmedium 11, beispielsweise Glaslot, eingebracht Die Schichtdicke des Verbindungsmediums 11 besitzt dabei wiederum die Dicke ξ (Pn1) (Fig 5 b)
- Mit Hilfe üblicher mikromechanischer Bearbeitungsverfahren ist der verformungssteife Rahmen 5 um die Dicke ξ (p„i) abgedunnt (Fig 5c)
Diese Möglichkeiten können kombiniert Verwendung finden, insofern der Abstand zwiscchen dem Gegenkorper 2 und dem verformungssteifen Rahmen 5 im Bereich des Anschlages 9 dem Wert ξ (рмі) entspricht Die piezoresistiven Strukturen 7 und 8 auf den beiden Druckmembranen sind bekannterweise so angeordnet, daß sie im Bereich der größten mechanischen Spanungen liegen Das sind die Gebiete am Außen- oder Innenrand der äußeren Druckmembran 4 und die Gebiete am Außenrand bzw in der Mitte der inneren Druckmembran 6 Fig 6 zeigt eine Möglichkeit, bei der die piezoresistiven Strukturen aus jeweils 4 piezoresistiven Widerstanden 7a d und 8a d, bestehen, die entsprechend Fig 7 zu Wheatstone-Vol!brücken zusammengeschaltet sind Die Widerstände 7 a bzw 7dbzw 7csowie8abzw 8dund8bbzw 8c zeigen bei Druckeinwirkung entgegengerichtete Widerstandsanderungen Fur die Piezowiderstande 7 und 8 sind die Gebiete der größten Spannungen am Aüßenrand der Druckmembranen 4 und 6 genutzt
Fig 7 zeigt die Zusammenschaltung der Piezowiderstande 7 und 8 Die daraus gebildeten Wheatstone-Brucken werden mit einer Konstantspannung U0 oder einen Konstantstrom I0 gespeist Die Ausgangsspannungen U3 in Abhängigkeit des Druckwertes bzw des Anwendungsdruckbereiches durch einen mechanischen oder elektrischen Schalter 12 die Ausgangsspannung der piezoresistiven Brücke 7 oder der piezoresistiven Brücke 8 In der Stellung A des Schalters 12 ergibt sich U„ als Ausgangsspannung der piezoresistiven Struktur 7 auf der äußeren Druckmembran 4 fur Druckwerte ρ < pN, In der Stellung B des Schalters 12 ergibt sich Ua als Ausgangsspannung der piezoresistiven Struktur 8 auf der inneren Druckmembran 5 fur Druckwerte pN1 <p< pN2
-4- 298
Eine geeignete Ausführungsform weist unter Bezugnahme auf Fig. 6 folgende Parameter auf:
- pN, = 1 kPa pN2 = 100kPa
- Breite der äußeren Außenabmessungen der inneren Druckmembran 600 μηι Druckplatte 700 pm
- Außenabmessungen des verformungssteifen Rahmens = 6 mm
- Dicke der äußeren und inneren Druckmembran ΙΟμιτι Annahme: Auflösung infolge Eigenstörungen
Δρ,.2= 10~4·ρΝ1:2 (A 10" Schritte)
- kleinster auflösbarer Meßwert
Δρ, = 0,1 Pa Δρ2 = 10Pa
Damit ergibt sich für den Gesamtsensor:
Pn = Pn2 = 10OkPa Δρ = Δρ, = 0,1 Pa
ΔΡ
Darausfolgt eine Auflösung = 10~6
Pn
Spaltbreite zwischen Rahmen 5 und Gegenkörper ξΝ, = 2 μνη
Die Umschaltung der Meßbereiche mittels des Schalters 12 kann auf sehr einfache Weise dadurch gesteuert werden, daß die untere dem Anschlag 9 zugewandte Fläche des Rahmens 5 und ein bestimmtes Gebiet des Anschlages 9 mit einer geeigneten leitenden Schicht beschichtet werden und somit bei Anlegen des Einspannrahmens 5 an den Anschlag 9 des Gegenkörpers ein Steuersignal für die Umschaltung des Schalters 12 erzeugt wird.
Claims (6)
1. Piezoresistiver Drucksensor aus Halbleitermaterial, bestehend aus einem Sensorchip und einem mit dem Sensorchip verbundenen Gegenkörper, wobei der Sensorchip elastisch verformbare Bereiche in Form lokal im Sensorchip abgedünnter Bereiche und piezoresistive Strukturen enthält und die Verbindung mit dem Gegenkörper am Einspannrahmen erfolgt, dadurch gekennzeichnet, daß ein verformbarer Bereich als innere Druckmembran (6) monolithisch von einem verformungssteifen Rahmen (5) getragen wird, daß sich der verformungssteife Rahmen (5) monolithisch im Inneren eines zweiten verformbaren Bereiches, der die äußere Druckmembran (4) bildet, befindet, daß die äußere Druckmembran (4) monolithisch vom Einspannrahmen (3) des Drucksensorchips (1) getragen wird, daß die äußere und innere Druckmembran (4, 6) dem Meßdruck ausgesetzt sind, daß der Abstand zwischen dem verformungssteifen Rahmen (5) und dem ihm entsprechenden Teil des Gegenkörpers (2) die Auslenkung des verformungssteifen Rahmens biszu einem Druck zuläßt, derum den Faktor(10...200) kleiner istalsder Meßbereich des Drucksensors und der verformungssteife Rahmen bei größeren Drücken als diesem Druck am Gegenkörper (2) anschlägt, daß sich auf der äußeren und der inneren Druckmembran (4, 6) jeweils eine piezoresistive Struktur (7,8) befindet, und daß die Ausgangsspannung des Drucksensors für Drücke, bei denen der verformungssteife Rahmen (5) nicht am Gegenkörper (2) angeschlagen ist, die Ausgangsspannung der piezoresistiven Struktur (7) der äußeren Druckmembran (4) und für Drücke, bei denen der verformungssteife Rahmen (5) am Gegenkörper (2) angeschlagen ist, die Ausgangsspannung der piezoresistiven Struktur (8) der inneren Druckmembran (6) ist.
2. Piezoresistiver Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die piezoresistiven Strukturen (8,7) auf der inneren und äußeren Druckmembran piezoresistive Brückenstrukturen sind.
3. Piezoresistiver Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenkörper (2) im Bereich des verformungssteifen Rahmens (5) lokal abgedünnt ist.
4. Piezoresistiver Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der verformungssteife Rahmen (5) dünner ist als der Einspannrahmen (3) des Drucksensorchips (1).
5. Piezoresistiver Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen dem Einspannrahmen (3) des Drucksensors und dem Gegenkörper (2) ein Verbindungsmedium mit einer Dicke befindet, die gleich dem Abstand des Anschlages zwischen dem verformungssteifen Rahmen und dem Gegenkörper ist.
6. Piezoresistiver Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß innere und äußere Kanten der inneren Druckmembran, des verformungssteifen Rahmens, der äußeren Druckmembran und des Einspannrahmens quadrat-, rechteck- oder kreisförmig sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD89336736A DD291398A5 (de) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | Piezoresistiver drucksensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD89336736A DD291398A5 (de) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | Piezoresistiver drucksensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD291398A5 true DD291398A5 (de) | 1991-06-27 |
Family
ID=5615649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD89336736A DD291398A5 (de) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | Piezoresistiver drucksensor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD291398A5 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4125398A1 (de) * | 1991-07-31 | 1993-02-04 | Fraunhofer Ges Forschung | Drucksensor und kraftsensor |
DE19644830C1 (de) * | 1996-10-29 | 1998-02-19 | Daimler Benz Ag | Membran-Drucksensorchip |
DE102006062222A1 (de) * | 2006-12-22 | 2008-06-26 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Differenzdrucksensor mit Kompensation des statischen Drucks |
-
1989
- 1989-12-29 DD DD89336736A patent/DD291398A5/de not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4125398A1 (de) * | 1991-07-31 | 1993-02-04 | Fraunhofer Ges Forschung | Drucksensor und kraftsensor |
DE19644830C1 (de) * | 1996-10-29 | 1998-02-19 | Daimler Benz Ag | Membran-Drucksensorchip |
DE102006062222A1 (de) * | 2006-12-22 | 2008-06-26 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Differenzdrucksensor mit Kompensation des statischen Drucks |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2132547B1 (de) | Drucksensor | |
DE69210041T2 (de) | Entwurf von piezoresistivem drucksensor aus silizium | |
DE68913177T2 (de) | Kapazitiver Drucksensor und Verfahren zum Minimieren der parasitären Kapazität eines kapazitiven Drucksensors. | |
DE69423004T2 (de) | Abgeschirmter kapazitiver geber | |
DE2503781C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl später voneinander zu trennender Druckmeßwandler in Halbleiterbauweise | |
EP0394305B1 (de) | Vorrichtung zur messung von beschleunigungen | |
DE2429894A1 (de) | Polykristalliner monolithischer druckfuehler und verfahren zu dessen herstellung | |
DE69012748T2 (de) | Wandler mit einer membran und eine vielzahl von fühlelementen. | |
EP0494143B1 (de) | Vorrichtung zur messung mechanischer kräfte und kraftwirkungen | |
CH684131A5 (de) | Verfahren zur Herstellung von Beschleunigungssensoren und Beschleunigungssensor. | |
DE3627127C2 (de) | ||
DE69714204T2 (de) | Druckmessgerät | |
DE69003763T2 (de) | Membran-Deformationsmessvorrichtung. | |
DE3784009T2 (de) | Brueckenschaltungsjustierverfahren fuer halbleiterdruckwandler. | |
DE102012205878A1 (de) | Mikromechanischer Drucksensor | |
DE10224790B4 (de) | Beschleunigungssensor und Verfahren zum Herstellen eines Beschleunigungssensors | |
DE10132269B4 (de) | Drucksensor | |
DE3824695C2 (de) | ||
DE102017109971A1 (de) | Drucksensor | |
DD291398A5 (de) | Piezoresistiver drucksensor | |
DD285831A5 (de) | Drucksensor fuer kleine druecke | |
WO2016016026A1 (de) | Drucksensor und verfahren zum herstellen eines drucksensors | |
DE19730991C1 (de) | Differenzdrucksensor | |
DE102013113171A1 (de) | Piezoresistive Silizium-Differenzdruckmesszelle und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE10062637A1 (de) | Differenzdrucksensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RPI | Change in the person, name or address of the patentee (searches according to art. 11 and 12 extension act) | ||
ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee | ||
RPI | Change in the person, name or address of the patentee (searches according to art. 11 and 12 extension act) | ||
WVSA | Restitution into prior status due to demand | ||
ASS | Change of applicant or owner |
Owner name: CARL ZEISS JENA BETRIEB ENTWICKLUNG WISS.-TECHN. A Effective date: 19950829 Owner name: TU DRESDEN, DIREKTORAT FORSCHUNG, DRESDEN Effective date: 19950829 Owner name: ENDRESS + HAUSER GMBH + CO., MAULBURG Effective date: 19950829 |
|
IF04 | In force in the year 2004 |
Expiry date: 20091230 |