DD282511A5 - Anordnung zur formpruefung von oberflaechen beliebigen reflexionsgrades - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Formpruefung fuer Oberflaechen beliebigen Reflexionsgrades. Erfindungsgemaesz werden dabei in einem Fizeau-Interferometer die Foki eines Referenz- und Prueflingsstrahlenbuendels auf je eine Spiegelflaeche einer mittig angeordneten Dachkante gelegt, so dasz ein Prueflings- und ein Referenzstrahlengang entstehen und im Referenzstrahlengang ueber einen mit einem Rechner gekoppelten Piezosteller verbundenen Dachkantreflektor die optische Weglaenge definiert variiert werden kann und anschlieszend die Vereinigung des Referenz- und des Prueflingsstrahlenbuendels an einer Strahlteilerschicht mit ungleichem Teilungsverhaeltnis erfolgt. Dadurch besteht in wenigstens einem der beiden entstehenden Interferenzstrahlenbuendel ein hoher Kontrast und es wird jeweils nur dieses Interferenzstrahlenbuendel ausgewertet. Hierdurch wird es moeglich, Metallflaechen, aber auch entspiegelte Glasoberflaechen, ohne den Wechsel einer Referenzflaeche zu untersuchen.{Interferometer; Oberflaechenpruefung; Ultrapraezisionstechnik; Zweistrahl-Interferometer; Piezosteller; Strahlteilerschicht; Bildaufnahmekamera; ungleiches Teilerverhaeltnis}

Description

Hierzu 1 Seite Zeichnung

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Formprüfung für Oberflächen beliebigen Reflexionsgrades in Form eines Zweistrahl-Interferometers zur Messung der Gestalt insbesondere technischer Oberflächen, z. B. uitrapräzisionsbearbeiteter Oberflächen, aber auch Oberflächen mit sehr geringem Reflexionsgrad, wie z. B. entspiegelter Glasoberflächen, nach dem Interferenzprinzip.

Charakteristik dos bekannten Standes der Technik

Es sind ομ iische Anordnungen bekannt, bei denen mit Hilfe eines Fizeau-Interferometers die Abweichung einer Prüflingsoberfläche von der Ebenheit bestimmt wird. Um eine reine Zweistrahl-Interferenzverteilung für die Anwendung des vorteilhaften Phase-Sampling-Verfahrenszu erhalten, ist nach FJD-PS 219565 bekannt, zwischen den Prüflingsobei'lache und der Teilerplatte de:; Fizeau-Interferometers einen Luftkeil einzi.jvDtieren und dem Fizeau-Interferometer ein Keplersches Teleskop folgen zu 'assen, in dessen Fokusebene eine Spaltblende die störenden Mehrcachreflexionen ausblendet, so daß nur

nur ein Referenz-Strahlenbündel und ein einmal an der Prüflingsoberfläche reflektiertes Strahlenbündel das Teleskop passieren können. In der am Ausgang des Teleskops zur Prüflingsoberfläche konjugierten Ebene befindet sich e. τ senkrecht zu seinen Gitterlinien verschiebbares Transmissionsgitter als Phasenpeiler.

Nachteilig zum einen ist bei dieser Anordnung jedoch, daß cie mittels Teleskop und Spaltblönde vor t'em Gitter erfolgende Raumfrequenz-Filterung unverzichtbar ist, damit zwischen den mehrfachreflektierten Strahlenbündeln und den Strahlenbündeln in den Beugungsordnungen des Gitters in einer dem Gitter nachgeordneten Fokuset ene keine Vermischung der Bündel auftritt und so eine Zweistrahl-Interferenz gegeben ist. Dies bedeutet, daß stei.' zwei Fokussierungen benötigt werden, die mindestens zwei Teleskope bis zur Abbildung auf einem Bildempfänger erforderlich machen.

Andererseits ist experimentell nachweisbar, daß es bei diesem Fizeau-Interferometer mit nachgeschaltetem Gitte: nicht möglich ist, für Prüflinge mit stark unterschiedlichen Reflexionsgraden wie z. B. einerseits Aluminium- und andererseits entspiegelte Glasflächen gleichermaßen gut sichtbare und damit kontrastreiche Interferenzen zu erhalten. Dies ist darin begründet, daß die Lichtii »enb.töt in den verschiedenen Beugungsordnungen des Gitters, z. B. in der nullten und eisten für ein gegebenes L'niengit er nicht optimal an den Reflexionsgrad des Prüflings angepaßt ist. Das Herstellen von Gütern mit jeweils angepaßten In ensitäts /erhältnis zwischen nullter und erster Beugungsordnung ist technologisch sehr schwierig, so daß eine Anpassung an Prüflinge mit unterschiedlichem Reflexionsvermögen aufwendig ist.

Bei der Prüfung von Oberflächen mit einem Twyman-Green-Interferometer entsteht immer die benötigte Zweistrahl-Interferenzverteilung und auch die Amplitudenanpassung in den interferie inden Strahlenbündeln aufgrund unterschiedlicher Reflexionsgrade der Prüflinge ist vergleichsweise einfacl realisierbar. Jedoch stellen die Twyman-Green-Interferometer bekannterweise steis sehr hohe Anforderungen an die Optik im Prüflingsstrahlengang, da Prüfling i· und Referenzstrahlengang völlig voneinander getrennt sind (siehe Merkel u. a. in Feingerätete jhnik 37 [1988] 8, S. 344). Diese Tatsache erklärt die Empfindlichkeit gegenüber dem Einfluß von Vibrationen. Wegen des großen optischen Gangunterschiedes in den beiden Strahlengängen muß ein frequenzstabilisierter Laser verwendet werden (Prospekt Fa. Wyko-Corporation/USA, 1986, Digital-Interferometer-Systems). Bei den nach US-PS 4201437 und US-PS 4594003 bekannten Fizeau-Interferometern sind die für Twymann-Green-Interferometer aufgeführten Nachteile überwunden, jedoch sind keine Maßnahmen getroffen, um störende Mehrfachreflexionen zu unterbinden. Diese beeinflussen die für die Phase-Sampling-Technik erforderliche Zweistrahl-Verteilung besonders bei metallischen Prüflingen sehr wesentlich und provozieren Meßfehler, die z.T. nicht erkannt werden können und auch numerisch nicht zu eliminieren sind.

Das Stellen der Phase mit piezoelektrischen Pnasenstellern, z. B. im Mark IV-lnterferometer der Fa. Zygo Corp./USA (Prospekt SB-0132,1986-1186-5 M) direkt im Fizeau-Interferometer erfordert eine besonders hohe Präzision, wenn für die großen optischen Elemente mit ζ B. 100 mm Durchmesser mehrere Piezosteller, z. B. drei, verwendet werden müssen. Außerdem muß bei diesem Interferometer zur Anpassung an das Reflexionsvermögen des Prüflings die Referenzfläche ausgetauscht werden, so daß z. B. eine 90% aufweisende Referenzfläche bei Metall eingesetzt wird und eine 4%-Referenzfläche bei Glas.

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, einen kostengünstigen mechanisch-optischen Aufbau und eine Vergröße ung der Applikationsbreite bei der Formprüfung technischer Oberflächen zu erreichen.

Darlegun j des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, über die Gewährleistung eines stets hohen Interferenz-Kontrastes für Zweistrahl-Interferenzen weitestgehend unabhängig vom Reflexionsgrad des Prüflings die Meßgenauigkeit zu erhöhen. Erfindungsgemäß wird dies mit einer Meßanordnung erreicht, die eine Laserlichtquelle und ein divergentes Strahlenbündel im Eingangsstrahlraum und ein Fizeau-Interferometer, bestehend aus einer Referenz- und einer Prüflingsfläche, mit einem Objektiv und vorzugsweise mit einem weiteren Prüflings-Adapterobjektiv, welches die Referenzfläche enthält und einer schräggestellten Strahlteilcrschicht und einem fokussieren Referenz- und Piüflingsstrahlenbündel mit zueinander geneigten Strahlenbündelachsen im Ausgangsstrahlraum und getrennten Referenz- und Prüflingsstrahlenbündelräumen aufweist, wobei erfindungsgemäß der schräggestellten Strahlteilerschicht seine erste und eine zweite Spiegelfläche nachgestellt und diese als Dachkantanordnung ausgebildet sind, und diese Dachkante der schräggestellten Teilerschicht zugewandt und mittig zwischen dem Referenz- und dem Prüflingsstrahlenbündelfokus positioniert ist. Dabei ist auf der ersten Spiegelfläche das Prüilingsstrahlenbündel und auf der zweiten das Referenzstrahlenbündel fokussiert. Dadurch ist eine Trennung des Referenz- und des Prüflingsstrahlenbündels voneinander möglich.

Jeder dieser beiden Spiegelflächen ist nun jeweils ein weiteres Spiegelflächenpaar, jeweils einen Dachkantreflektor mit außenliegender Dachkante bildend, zugeordnet. Dabei sind ein oder beide Dachkantreflektoren in sich starr angeordnet, wobei einer mit einem Piezosteller verbunden ist. So kann die Phase im Interferometer belieb^:g gestellt werden. Zwischen den beiden Spiegelflächenpaaren ist ein weiterer Dachkantenreflektor, bestehend aus einem Umlenkspiegel und einer Strahlteilerschicht, angeordnet. So werden das Referenz- und das Prüflingsstrahlenbündel wieder vtreinigt und zur Interferenz gebracht. Es entstehen zwe^: Interferenzstrahlenbündel A und B.

Der Strahltei'irsrhicht ist auf beiden Seiten jeweils ein weiterer Umlenkspiegel nachgeordnet, um die beiden Inteiferenzf *r»iilenbündelpaare über zwei Umlenkspiegel auf je eine bewegliche Abschattblende zu richten, um durch diese die Interferenzstrahlenbündel wechselweise zu sperren. Den beiden Umlenkspiegeln ist eine zweite Strahlteilerschicht zwischengeordnet welcher auf einer Seite ein Kollimatorobjektiv und eine Bildaufnahmekamera folgen, die mit einem Rechner gekoppelt ist, der wiederum mit der Ansteuerbaugruppe des Piezostellers verbunden ist. Über die Strahlteilerschicht, entweder durch Transmission oder Reflexion, wird das entsprechende Strahlenbündel durch das Kollimatorobjektiv in die 3ildaufn3hmekamera geleitet. Der Piezosteller ermöglicht die benötigte rechnergesteuert'; Phasenstellung.

Zweckmäßigerweise sind die beiden, einen Dachkantreflektor bildenden, Spiegelflächen auf eine gefügte Prismenbaugruppe aufgebracht, in welche die Dachkante, bestehend aus dem Umlenkspiegel und der Strahlteilerschicht, eingebracht ist, und ist die zweite Strahlteilerschicht in einem Doppel-Rhomboidprisma in der gleichen Ebene wie die erste Strahlteilerschicht angeordnet. Damit werden eine hohe Stabilität der optischen Anordnung und gleichzeitig ein Minimum an optischem Weg erreicht. Vorzugsweise besitzt die Referenzfläche einen Reflexionsgrad kleiner als 10% und weisen die beiden Strahlteilerschichten einen Reflexionsgrad kleiner als 30% oder größer als 70% auf. Diese unsymmetrische Strahlteilung wird benutzt, um eine Intensitätsanpassung des verwendeten Interferenzstrahlenbündels durch Reflexion oder Transmission zu erreichen. Weiterhin ist es günstig, wenn die beiden Abschattblenden wechselseitig vor den Umklenkspiegeln im Eingriff sind, um nun genau ein Interferenzstrahlenbündel auf die Bildaufnahmekamera zu lenken. Dabei sind durch Mehrfachreflexion entstandene fokussierte Strahlenbündel durch eine Abschattblende nahe ihrem Fokus gesperrt, wobei die Abschattblende neben dem Fokus des Prüflingsstrahlenbündels angeordnet ist. Dadurch wird die für das Phase-Sampling-Verfahren benötigte Zweistrahl-Interferenz gewährleistet.

Ausführungsbeispiel

Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Die nachstehende Figur zeigt die erfindungsgemäße Anordnung in schematischer Darstellung für eine Formprüfung von Planfliichen.

Das von einem Laser 1 ausgehende monochromatische Strahlenbündel wird durch ein Objektiv 2 fokussiert, passiert in seinem Fokus ein Pinhole 3 und wird als divergentes Strahlenbündel durch eine schräggestellte Strahlteilerschicht 4 auf ein Objektiv 5 gerichtet, von diesem kollimiert und trifft auf eine fest eingebaute, unter dem Winkel α, z.B. α = 0,1°, zur optischen Achse geneigte Referenzfläche 6, wobei ein geringer Teil der Strahlung, hier z. B. 4%, von dieser reflektiert und zum Referenzstrahlenbündel wiro. Der übrige Anteil trifft auf eine Prüflingsfläche 7, welche ein Reflexionsvermögen zwischen 100% und 0,2% aufweisen kann und in diesem Fall 85% besitzt, wird von dieser als Prüflingsstrahlenbündel reflektiert und passiert die Referenzfläche 6 zum übergroßen Teil (96%).

Das Referenz- und das Prüflingsstrahlen jündel werden durch das Objektiv 5 zu einem fokussieiten Prüflingsstrahlenbündel 8 und Referenzstrahlenbündp! 9, welche :e schräggestellte Strahlteilerschicht 4 durchsetzen. Die durch Mehrfachreflexion entstehenden Strahlenbündel werden nahe ihren Foki t-'vrch eine Abschattblende 10 gesperrt. Nahe ihren Foki treffen das Referenz- und das Prüflingsstrahlenbündel (8; 9) auf die eine Dachkante bildenden Spiegelflächen 11 und 12, wobei diese Dachkante sich etwa mittig zwischen den Foki befindet und die Kante einer Prismenbaugruppe 13 darstellt.

Das Fvüflingsstrahlenbündel 8 durchsetzt nun einen Dachkantreflektor 14, bestehend aus Spiegelflächen 15 und 16, tritt wieder in die Prismenbaugruppe 13 ein und gelangt auf eine Strahlteilerschicht 17.

Das Referenzstrahlenbündel 9 wird von der Spiegelflälche 12 in einen Dachkantreflektor 18 geführt, der aus Spiegelflächen 19 und 20 gebildet ist, wobei dieser Dachkantreflektor 18 von einem Piezosteller 21 in Richtung der einfallenden Bündelachse, von einem Rechner 22 gesteuert, in diskreten Schritten oder kontinuierlich bewegt werden kann. Das von diesem Dachkantreflektor 18 reflektierte Referenzstrahlenbündel 9 tritt wieder in die Prismenbaugruppe 13 ein, wird an einem Umlenkspiegel 23 reflektiert und trifft auf die Strahlteilerschicht 17, wo es mit dem Prüflingsstrahlenbündei 8 wieder vereint wird. Die optischen Wege für das Referenz- und das Prüflingsstrahlenbündei sind dabei aneinander angeglichen. Die Strahlteilerschicht 17 weist einen Reflexionsgrad von 20% auf.

Ps entstehen an den beiden Ausgängen der Prismenbaugruppen nun je ein Interferenzstrahlenbündel A und B, wobei das

iterferenzstrahlenbündel A das an der Strahlteilerschicht 17 reflektierte Prüflingsstrahlenbündel und das die Strahlteilerschicht 17 durchsetzende Referenzstrahlenbündel bilden. Dadurch entsteht eine reine Zweistrahl-Interferenz. Für einen Reflexionsgrad des Prüflings gleich oder oberhalb von 4% ist im Interferenzstrahlenbündel A stets ein guter Interferenzkontrast von besser als 70% zu beobachten, während das Interferenzstrahlenbündel B für hochreflektierende Prüflingsflächen einen geringeren Kontrast als70% aufweist. Für Prüflingsflächen mit Reflexionsgraden im Bereich von 0,2% bis 4% ist dagegen im Interferenzstrahlenbündel B stets ein Mindestkontrast von 70% gewährleistet, wobei das Kontrastmaximum nahe 100% bei einem Reflexionsgrad von etwa 1 % erreicht wird.

Um nun jeweils ein Interferenzstrahlenbündel A oder B wahlweise beobachten bzw. auswarten zu können, sind zwei bewegliche Abschattblenden 24 und 25 so angebracht, daß diese abwechselnd das Interferenzstrahlenbündel A oder B sperren bzw. p;..,sieren lassen.

Um die unterschiedliche Intensität der Interferenzstrahlenbündel für die Erfassung durch eine digitale Bildaufnahmekamera 26 auszugleichen, werden die Iriterferenzstrahlenbündel A und B nach dem Passieren der Abschattenden 24 oder 25 über Umlenkspiegel 27 und 28 auf eine zweite Strahlteilerschicht 29 gebracht, die ebenfall, wie die Strahiteilerschicht 17 ein von 50% zu 50% deutlich verschiedenes Strahlteilungsverhältnis aufweist, z. B. 15-20% Reflexionsgrad und 80-85% Transmissionsgrad. Am Ausgang C, den das Interferenzstrahlenbündel A durch Reflexion der Strahlenteilerschicht 29 als Interferenzstrahlenbündel AR erreicht, befindet sich ein Abbildungsstrahlengang mit einem Objektiv 30 und der Bildaufnahmekamera 26.

Für metallische Prüflinge mit einem hohen Reflexionsvermögen besitzt das Interferenzstrahlenbündel A nicht nur einen hohen Interferenzkontrast sondern auch eine deutlich höhere Intensität gegenüber dem Interferenzstrahlenbündel B bei schwach reflektierenden Prüflingsflächen 7. Nach der Reflexion des Interferenzstrahlenbündels A an der Strahlteilerschicht 29 wird dessen Intensität als Interferenzstrahlenbündel AR auf etwa 15-20% reduziert, währenddes Interferenzstrahlenbündel B nach Transmission der Strahlteilerschicht zum Interferenzstrahlenbündel BT wird, mit einer nur schwachen Reduzierung der Intensität auf 80-85%. Dadurch kann nun eine metallische Prüflingsfläche 7 mit näherungsweise gleichem Kontrast und gleicher Intensität im Interferenzbild ausgewertet werden wie eine 4% Glasfläche, indem, wie in der Figur dargestellt, die Abschattblende 25 das Interferenzstrahlenbündel B sperrt und das Interfeienzstrahlenbündel AR benutzt wird.

Im Fall einer Glasfläche bzw. einer schwach reflektierenden Prüflingsfläche 7 wird dann durch dip Abschattblende 24 das Interferenzstrahlenbündel A gesperrt und die Auswertung erfolgt über das Interferenzstrahlenbündel BT.

Die Steuerung der Abschattblenden 24 und 25 kann manuell oder über den Rechner 22 motorisch erfolgen, wobei durch die Rechnerauswertung des Interferenzsignals die Abschattblende 24 oder 25 in Abschattposition gewählt wii d. Mit dem Piezosteller 21 kann die Phase rechnergesteuert im Interferenzstrahlenbündel A oder B definiert verändert werden, z. B. stetig oder in Schritten. Dabei hat die absolute Phasenlage im Interferenzstrahlenbündel keinen Einfluß.

Bei einem schrittweisen Betrieb erfolgt die Verstellung des Piezostellers 21 z. B. näherungsweise in Schritten von λ/8, um eine mittlere Phasonverteilung von etwa 90" im Interferenzstrahlenbündel zwischen dem Referenz- und dem Prüflingsstrahlenbündel zu erreichen. Andere Zustellwerte als λ/8 sind möglich, wenn ein geeigneter Phase-Sampling-Algorithmus, z. B. der nach Carro, verwendet wird. Durch die Phasenverstellung im nichtkollimierten Strahlenbündel gibt es keine Konstanz der gestellten Phase über dem Strahlenbündelquerschnitt, was durch die Anwendung des Algorithmus nach Carro aber einflußlos wird.

Bei einer stetigen Zustellung muß der entsprechende Stellweg des Piezostellers 21 in der Bildintegrationszeit der digitalen Bildaufnahmekamera 26 realisiert werden. Im Rechner 22 erfolgt die Berechnung der Abweichung der Prüflingsfläche 7 von der Sollform, die in geeigneter Form auf dem Monitor des Rechners 22 dargestellt werden kann. Eine Kalibrierung der optischen Anordnung mit »ine N^rmalfläche ist hierbei sehr von Vorteil.

Die Anwendung des Phase-Sampling-Verfahrens ist in dieser Anordnung ohne Fehlereinflüsse durch Mehrfachreflexionen möglich, da die mehrfach reflektierten Strahlenbündel durch die Abschattblende 10 gesperrt sind.

Claims (6)

1. Anordnung zur Formprüfung für Oberflächen beliebigen Reflexionsgrades mit einer Laserlichtquelle und einem divergenten Strahlenbündel im Eingangsstrahlraum und einem Fizeau-Interferometer, bestehend aus einer Referenz- und einer Prüflingsfläche, mit einem Objektiv und einer schräggestellten Strahlfilerschicht, einem fokussieren Referenz- und einem Prüflingsstrahlenbündel mit zueinander geneigten Strahlenbündelachsan im Ausgangsstrahlraum und getrennten Referenz- und Prüflingsstrahlenbündelräumen, dadurch gekennzeichnet, daß der schräggestellten Strahlteilerschicht (4) eine erste und eine zweite Spiegelfläche (11; 12) nachgestellt sind, wobei diese als Dachkantanordnung ausgebildet sinu, und dicie Dachkante der schräggestellten Strahlteilerschicht (4) zugev\bndt und miU'g zwischen t τι Referenz- und dem Prüflingsstrahlenbündelfokus positioniert ist, wobei auf der ersten Spieijelfäche (11) das Prüflingsstrahlenbündel (8) und auf der zweiten das Referenzstrahlenbündel (9) fokussiert ist und jeder dieser beiden Spiegelflächen (11; 12) jeweils ein weiteres Spiegelfüchenpaar (15,16; 19, 20), jeweils einen Dachkantreflektor (14,18) mit außenliegerder Dachkante bildend, zugeordnet ist, wobei beide Dachkantreflektoren (14,18) in sich starr angeordnet sind und einer dieser mit einem Piezosteller (21) verbunden ist, und sich zwischen den beiden Dachkantroflektoren (14,18) ein weiterer Dachkantreflektor, bestehend aus einem Umlenkspiegel (23) und einer Strahlteilerschicht (17), befindet und der Strahlteilerschicht [,7) auf beiden Seiten jeweils ein weiterer Umlenkspiegel (27,28) nachgeordnet ist und jedem dieser beiden Umlenkspiegel (27,28) eine bewegliche Abschattblende (24,25) zugeordnet ist und den beiden Umlenkspiegeln (27, 28) eine zweite Strahlteilerschicht (29) zwischengeordnet ist, welcher auf einer Seite ein Objektiv (30) und eine Bildaufnahmekamera (26) foigen, die mit einem Rechner (22) gekoppelt ist, dor wiederum mit der Ansteuerbaugruppe des Piezostellers (21) verbunden ist.

2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten beiden, einen Dachkantreflektor bildenden, Spiegelflächen (15,16) auf eine gefügte Prismenbaugruppe aufgebracht sind, in welche die Dachkante, bestehend aus dem Umlenkspiegel (23) und der Strahlenteilerschicht (17), eingebracht ist, und daß die zweite Strahlteilerschicht (29) in eine-r; Doppel-Rhomboidprisma in dergleichen Ebene wie die erste Strahlteilerschicht (17) angeordnet ist.

3. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegelflächenpaare "!5,16; 19, 20) so positioniert sind, daß auf die Eintrittsfläc'ien der Prismenbaugruppe senkrechter Strahleinfall besteht.

4. Anordnung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß di "> Referenzfläche (6) einen Reflexionsgrad kleiner als 10% besitzt und die beiden Strahlteilerschichten (17,29) einen Reflexionsgrad kleiner als 30% oder größer als 70% aufweisen.

5. Anordnung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Abschattblenden (24; 25) wechselseitig vor den Umlenkspiegeln (27,28) im Eingriff sind.

6. Anordnung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Mehrfachreflexion entstandenen fokussierten Strahlenbündel durch eine Abschattblende (10) nahe ihrem Fokus gesperrt sind, wobei d:o Abschattblende (10) neben dem Fokus des Prüflingsstrahlenbündels (8) angeordnet ist.