DD279697A1 - METHOD AND ARRANGEMENT FOR THE EQUAL CHEMICAL DEPOSITION OF A THIN METAL PAVEMENT - Google Patents
METHOD AND ARRANGEMENT FOR THE EQUAL CHEMICAL DEPOSITION OF A THIN METAL PAVEMENT Download PDFInfo
- Publication number
- DD279697A1 DD279697A1 DD32539989A DD32539989A DD279697A1 DD 279697 A1 DD279697 A1 DD 279697A1 DD 32539989 A DD32539989 A DD 32539989A DD 32539989 A DD32539989 A DD 32539989A DD 279697 A1 DD279697 A1 DD 279697A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- brass
- deposition
- copper foil
- electrolyte
- thin metal
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Anordnung zur gleichmaessigen Abscheidung eines duennen Metallbelages, insbesondere Messing, auf einer Elektrolytkupferfolie aus einem cyanidischen Elektrolyten. Die Merkmale der Erfindung bestehen darin, dass auf das Treatment einer Elektrolytkupferfolie Messing aus einem cyanidischen Elektrolyten abgeschieden wird und die Messingabscheidung zunaechst bei einer hoeheren und anschliessend bei einer niedrigeren Katodenstromdichte erfolgt. Die hoehere Katodenstromdichte wird durch Einsatz einer unloeslichen Anode erreicht. FigurThe invention relates to a method and arrangement for the uniform deposition of a thin metal coating, in particular brass, on an electrolytic copper foil of a cyanidic electrolyte. The features of the invention are that the treatment of an electrolytic copper foil brass is deposited from a cyanide electrolyte and the brass deposition takes place initially at a higher and then at a lower cathode current density. The higher cathode current density is achieved by using a non-soluble anode. figure
Description
Hierzu 1 Seite ZeichnungFor this 1 page drawing
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Anordnung zur gleichmäßigen Abscheidung eines Metallbelages, insbesondere Messing, auf einer Elektrolytkupferfolie aus einem cyanidischen Eloktrolyten.The invention relates to a method and an arrangement for the uniform deposition of a metal coating, in particular brass, on an electrolytic copper foil of a cyanide electrolytic electrolyte.
Es ist bekannt, daß auf einer durch dendritische Kupferabscheidung aufgerauhten Oberfläche eine zusätzliche Messingschicht aus einem cyanidischen Elektrolyten galvanisch aufgebracht wird. Die Messingschicht muß von gleichmäßiger Farbe und Beschaffenheit sein, damit in der weiteren Verarbeitung der Kupferfolie der auf die Messingschicht aufgebrachte Schichtpreßstoff einen gleichmäßigen festen Verbund mit der Kupferfoüe bildet.It is known that on a surface roughened by dendritic copper deposition, an additional layer of brass of a cyanide electrolyte is electrodeposited. The brass layer must be of uniform color and texture so that in the further processing of the copper foil the laminate applied to the brass layer forms a uniform, firm bond with the copper foil.
Messingschichten werden als Diffusionsbarrieren auf Kupfeifolientreatments verwendet und aus cyanidischen Bädern unter Verwendung löslicher Anoden erzeugt.Brass layers are used as diffusion barriers on cupola film applications and are produced from cyanidic baths using soluble anodes.
Für die Regulierung des Elektrolytengleichgewichts in cyanidischen Kupferbädern und zur Zerstörung von Cyanidkomplexen im Abwasser wurde bereits vorgeschlagen, unlösliche Anoden aus Graphit, Blei, Stahl oder platziertem Titan zu verwenden.For the regulation of the electrolyte balance in cyanide copper baths and for the destruction of cyanide complexes in wastewater, it has already been proposed to use insoluble anodes of graphite, lead, steel or placed titanium.
Alle cyanidischen Messingbäder haben den Nachteil, daß wegen der Differenz zwischen der katediächer, und anodischen Stromausbeute einEelektrolytüberschuß entsteht und durch aufwendige Behandlungen entgiftet werden muß.All cyanidic brass baths have the disadvantage that, because of the difference between the cathodic and anodic current yield, an excess of electrolyte arises and has to be detoxified by expensive treatments.
Außerdem wird durch die Bildung von Deckschichten die anodische Stromdichte begrenzt, so daß hohe Katodenstromdichten schwierig zu realisieren sind. Die Vermeidung dieser Nachteile durch die Anwendung höherer Temperaturen und stärkerer Elektrolytbewegung ist nur in begrenztem Umfang möglich und erfordert zusätzliche Energie. Unlösliche Anoden, wie sie für cyanidische Kupferbäder und elektrolytische Abwasserbehandlung cyanidischer Lösungen angewendet werden, s<nd teilweise löslich und verunreinigen den Elektrolyten, wie z. B. Blei, Eisen und Graphit, oder verursachen hohe Anschaffungskosten, wie z.B. Platin bzw. platinisiertesTinn.In addition, the formation of cover layers limits the anodic current density, so that high cathode current densities are difficult to realize. The avoidance of these disadvantages by the use of higher temperatures and stronger electrolyte movement is possible only to a limited extent and requires additional energy. Insoluble anodes, such as those used for cyanide copper baths and electrolytic wastewater treatment of cyanide solutions, are partially soluble and contaminate the electrolyte, e.g. Lead, iron and graphite, or cause high initial costs, such as. Platinum or platinized tin.
Der Mechanismus einer cyanidischen Messingabscheidung ist wesentlich komplizierter als der einer Kupferabscheidung, weil sich die Abscheidungsparameter und die Elektrolytzusammensetzung durch ihre unterschiedliche Beeinflussung der beiden gleichzeitig abgeschiedenen Metalle auf die Legierungszusammensetzung und damit die Eigenschaften der Messingschicht auswirken. Geringe Elektrolytverunreinigungen können beispielsweise die Kupferabscheidung inhibieren und damit ein zinkreicheres Messing zur Folge haben.The mechanism of cyanide brass deposition is much more complicated than that of copper deposition, because the deposition parameters and the electrolyte composition affect the alloy composition and thus the properties of the brass layer by their differential effect on the two simultaneously deposited metals. Low electrolyte impurities can inhibit copper deposition, for example, and thus result in a zinc-rich brass.
Die erfindungsgemäße Lösung soll es ermöglichen, die Qualität der Beschichtung von Elektrolytkupferfolienbändern mit einem Messingbelag zu verbessern und die zu entgiftenden cyanidischen Abwassermengen auf ein Minimum zu reduzieren.The solution according to the invention should make it possible to improve the quality of the coating of electrolytic copper foil strips with a brass coating and to minimize the amounts of cyanide wastewater to be detoxified.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und die dazugehörige Anordnung zur gleichmäßigen Abscheidung eines dünnen Metallbelages auf Kupferfolie zu schaffen, die es gestatten, eine Messingschicht zu erhalten, die gleichmäßige Eigenschaften hinsichtlich des Verbundes zum Schichtpreßstoff gewährleistet.The invention has for its object to provide a method and the associated arrangement for uniform deposition of a thin metal coating on copper foil, which allow to obtain a brass layer, which ensures uniform properties in terms of the composite to the laminate.
Die Merkmale der Erfindung bestehen darin, daß auf eine erste Abscheidungsphase in einem Zeitraum von 0,5...5 Sekunden uei einer Stromdichte von 8... 15A/dm2 eine zweite Abscheidungsphase in einem Zeitraum von 15...60 Sekunden und einer Stromdichte von 4... 6A/dm2 folgt und daß nur in der ersten Abscheidungsphase die unlösliche Anode zugeschaltet wird. Vorzugsweise ist die aus einem mit Edel alloyiden des Platins, Iridiums oder Rutheniums thermisch beschichteten Titankörper bestehende unlösliche Anode kurz unterhalb der Badoberfläche im Abstand von 10...30mm zur Oberfläche der Kupferfolie angeordnet.The features of the invention are that a first deposition phase in a period of 0.5 ... 5 seconds uei a current density of 8 ... 15A / dm 2, a second deposition phase in a period of 15 ... 60 seconds and a current density of 4 ... 6A / dm 2 follows and that only in the first deposition phase, the insoluble anode is switched on. Preferably, the insoluble anode consisting of a titanium body thermally coated with noble metal alloys of platinum, iridium or ruthenium, is disposed just below the bath surface at a distance of 10... 30 mm from the surface of the copper foil.
Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert.The invention will be explained in more detail using an exemplary embodiment.
Die zugehörige Zeichnung zeigt eine galvanische Zelle zur Abscheidung einer dünnen Messingschinht im Schnitt.The accompanying drawing shows a galvanic cell for the deposition of a thin brass Schinht in section.
In einer kontinuierlich arbeitenden Anlage wird auf Kupforfolie mit einer Flächenmasse von 305g/m2 auf der rauhen Seite zunächst ein dendritischer Kupferbelag und anschließend in einer galvanischen Zelle gemäß der Zeichnung eine dünne Messingschicht unter folgenden Bedingungen abgeschieden:In a continuously operating plant, a thin layer of copper is deposited on copper foil with a basis weight of 305 g / m 2 on the rough side, first a dendritic copper coating and then in a galvanic cell according to the drawing under the following conditions:
Die Folie 1 wird über die Kontaktwalze 2 katodisch geschaltet und über Umlenkwalzen 3 und eine Trommel 4 an der Granulatanode 5 vorbei durch den Abscheidebehälter 6 gezogen.The film 1 is connected cathodically via the contact roller 2 and pulled over deflection rollers 3 and a drum 4 past the granule anode 5 through the separation vessel 6.
Es werden je m2 Folie etwa 4g Messing in der Zusammensetzung 25% Zn und 75% Cu aufgebracht.Approximately 4 g of brass in the composition 25% Zn and 75% Cu are applied per m 2 of foil.
Die Messingschicht hat ein ungleichmäßiges geflecktes gelbes Aussehen und eine graugelbe Färbung.The brass layer has a uneven spotted yellow appearance and a grayish yellow color.
Eine Elektrolytkupferfolie 1 wie im Beispiel 1 wird in einem Elektrolyten dergleichen Zusammensetzung so behandelt, daß beim Durchlauf der Folie durch den Elektrolyten die Messingabscheidung zunächst etwa 1 Sekunde bei einer erhöhten Katodenstromdichte von 10A/dm2 unter Zuschaltung einer dimensionsstabilen Anode 7 erfolgt. Anschließend wird die Folie 1 an der Granulatanode 5 vorbeigeführt und über einen Zeitraum von 29 Sekunden mit 5 A/dm2 die Abscheidung fortgesetzt.An electrolytic copper foil 1 as in Example 1 is treated in an electrolyte of the same composition so that the brass deposit initially takes place for about 1 second at an increased cathode current density of 10A / dm 2 with the connection of a dimensionally stable anode 7 during the passage of the film through the electrolyte. Subsequently, the film 1 is passed past the granule anode 5 and continued for a period of 29 seconds with 5 A / dm 2, the deposition.
Die so erzeugte Messingabscheidung hat eine gleichmäßige gelbe Farbe. Bei niedriger Stromdichte wird auf der durch dendritische Kupferabscheidung aufgerauhten Oberfläche als Folge der schlechten Mikrostreufähigkeit des cyanidischen Messingelektrolyten in der Keimbildungsphase bevorzugt Zink abgeschieden, und auf diesen Zinkkeimen wird die nachfolgende Abscheidung des Messings gestört.The brass deposit thus produced has a uniform yellow color. At low current density, zinc is preferentially deposited on the surface roughened by dendritic copper deposition as a result of the poor micronability of the cyanide brass electrolyte in the nucleation phase, and these zinc nuclei interfere with subsequent deposition of the brass.
Durch die höhere Stromdichte wird auch in der Anfangsphase die Mitabscheidung des Kupfers auf der rauhen Oberfläche erzwungen und damit von Beginn an eine gleichmäßige Messingschicht erzeugt.Due to the higher current density, the co-deposition of copper on the rough surface is enforced even in the initial phase, thus producing a uniform layer of brass from the beginning.
Begünstigend wirkt sich noch die bei höheren Stromdichten bedeutend stärkere Elektrolytströmung an der Katodenoberfläche durch die intensive Wasserstoffentwicklung aus.As a further benefit, the significantly higher electrolyte flow at the cathode surface due to the intense hydrogen evolution also has an effect on higher current densities.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD32539989A DD279697A1 (en) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | METHOD AND ARRANGEMENT FOR THE EQUAL CHEMICAL DEPOSITION OF A THIN METAL PAVEMENT |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD32539989A DD279697A1 (en) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | METHOD AND ARRANGEMENT FOR THE EQUAL CHEMICAL DEPOSITION OF A THIN METAL PAVEMENT |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD279697A1 true DD279697A1 (en) | 1990-06-13 |
Family
ID=5606875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD32539989A DD279697A1 (en) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | METHOD AND ARRANGEMENT FOR THE EQUAL CHEMICAL DEPOSITION OF A THIN METAL PAVEMENT |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD279697A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103060882A (en) * | 2013-01-21 | 2013-04-24 | 福建清景铜箔有限公司 | Method and system of producing electrolytic copper foil with reverse flow of copper sulfate solution |
-
1989
- 1989-02-01 DD DD32539989A patent/DD279697A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103060882A (en) * | 2013-01-21 | 2013-04-24 | 福建清景铜箔有限公司 | Method and system of producing electrolytic copper foil with reverse flow of copper sulfate solution |
| CN103060882B (en) * | 2013-01-21 | 2015-11-04 | 福建清景铜箔有限公司 | The method and system of electrolytic copper foil are produced in a kind of copper-bath countercurrent flow |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1097261B1 (en) | Galvanic bath, method for producing structured hard chromium layers and use thereof | |
| DE670403C (en) | Process for the electrolytic production of coatings consisting essentially of tin | |
| EP0037535B1 (en) | Plating bath for depositing coatings of gold and gold alloys | |
| DE1300414B (en) | Object, preferably made of ferrous metal, with a dense, firmly adhering, shiny anti-corrosion coating made of an aluminum-manganese alloy and a method for its production | |
| DE1621321B2 (en) | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF A FASTENED CORROSION PROTECTION COATING ON ZINC-COVERED STEEL OBJECTS | |
| EP1565596B1 (en) | Production of structured hard chrome layers | |
| DE3005674A1 (en) | USE OF A LEAD ALLOY FOR ANODES IN THE ELECTROLYTIC EXTRACTION OF ZINC | |
| DE860300C (en) | Electrolyte containing copper and tin salts for the production of copper-tin alloy coatings and a method for producing these coatings | |
| DE1250712B (en) | Galvanic nickel sulfamate bath and process for depositing nickel coatings | |
| DE69907477T2 (en) | Wire electrode for spark erosion and method of manufacture | |
| EP1626098A2 (en) | Process of dissolving zinc in alkaline brines | |
| DE2753936A1 (en) | METHOD OF FORMING AN IRON FOIL AT HIGH CURRENT DENSITY | |
| DE2416218C3 (en) | Process for the production of tin-plated steel sheets | |
| DE2924143C2 (en) | Process for the electrodeposition of metal | |
| DD279697A1 (en) | METHOD AND ARRANGEMENT FOR THE EQUAL CHEMICAL DEPOSITION OF A THIN METAL PAVEMENT | |
| DE1521040B2 (en) | PROCESS FOR GALVANIC SOFT CHROMING OF METAL OBJECTS, IN PARTICULAR CAST IRON | |
| EP0619386B1 (en) | Electroplating of palladium or palladium alloys | |
| DE102019108459B4 (en) | Process for the production of a steel strip with improved adhesion of metallic hot-dip coatings | |
| DE2310638C2 (en) | Process for converting hydrophobic surfaces made of aluminum, aluminum alloys, copper or copper alloys into hydrophilic surfaces | |
| DE2922789C2 (en) | Steel coated with manganese, process for its manufacture and its use | |
| DE2105816A1 (en) | Process for removing iron contaminants from nitriding salt baths | |
| DE3316678A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR CONTINUOUSLY ELECTROLYTICALLY APPLYING A ZINC ALLOY LAYER UNDER HIGH CURRENT DENSITY | |
| DE1621111A1 (en) | Method for electroplating or galvanic coating of a metal cathode with a shiny protective chrome plating or a shiny protective chrome coating | |
| DE3132269A1 (en) | Cathode for generating hydrogen gas, and method for manufacturing it | |
| DE4218916C2 (en) | Use of a grid anode for electrolytic detoxification or regeneration of an aqueous solution containing cyanide |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |