DD277093A1 - METHOD AND DEVICE FOR REPRODUCING AMMONIA CALF COPPER SULFATE SOLUTIONS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Aufarbeitung von ammoniakalischen Kupfersulfataetzloesungen, die beim Aetzen oder Laugen von kupferhaltigem Material anfallen. Das erfindungsgemaesse Verfahren besteht darin, dass die ammoniakalische Kupfersulfatloesung mit Schwefelsaeure versetzt wird, und anschliessend im sauren Bereich eine Kupfergewinnungselektrolyse unter kontinuierlichem oder periodischem Zusatz von weiterer Aetzloesung durchgefuehrt wird. AbbildungThe invention relates to a method and a device for the treatment of ammoniacal Kupferfersulfataetzloesungen incurred in the etching or leaching of copper-containing material. The process according to the invention consists in adding sulfuric acid to the ammoniacal solution of copper sulphate and subsequently carrying out a copper-producing electrolysis in the acidic range with continuous or periodic addition of further etching solution. Illustration
Description
Hierzu 1 Seite ZeichnungFor this 1 page drawing
Die Erfindung findet Anwendung bei der Aufarbeitung ammoniakalischer Kupversulfatlösungen, die beim Ätzen von kupferbeschichteten Leiterplatten oder beim Ätzen oder Laugen von anderem t'.upferhaltigen Material anfallen.The invention finds application in the processing of ammoniacal Kupversulfatlösungen incurred in the etching of copper-coated circuit boards or in the etching or leaching of other t'.upferhaltigen material.
Für das Ätzen von Leiterplatten sind zahlreiche Ätzsysteme bekannt. Für duruhkontaktierte Mehrlagenleiterplatten werden außer ammoniakalischen Kupfersulfatlösungen häufig ammoniakalische Kupferchloridiösungen angewandt. In beiden Fällen dient der Kupfer-ll-tetramminkomplex als Oxydationsmittel. Der entstehende Kupfer-l-diamminkoinplex wird durch Luftsauerstoff wieder zur zweiwertigen Kupferverbindung oxydiert.For the etching of printed circuit boards, numerous etching systems are known. For duru-contact multilayer printed circuit boards, ammoniacal copper chloride solutions are frequently used in addition to ammoniacal copper sulphate solutions. In both cases, the copper tetrammine complex serves as an oxidizing agent. The resulting copper-l-diamminkoinplex is oxidized by atmospheric oxygen back to the divalent copper compound.
Ist der Kupfergehalt in der Ätzlösung bis auf einen bestimmten Wert angestiegen, so muß die Lösung regeneriert bzw. ein Teil aus dem Ätzprczeß ausgeschleust und die restliche Lösung durch Zusatz von Ammoniumsalz, Ammoniak und Wasser wieder auf die Kupferausgangskonzentration gebracht werden.If the copper content in the etching solution has risen to a certain value, then the solution must be regenerated or a part removed from the Ätzprczeß and the remaining solution by addition of ammonium salt, ammonia and water are brought back to the initial copper concentration.
Zur elektrolytischen Aufarbeitung ammoniakalischer Kupfersulfatlösungen sind folgende Verfahren bekannt:For the electrolytic work-up of ammoniacal copper sulfate solutions, the following processes are known:
Der Mecer-Prozeß, der auch auf ammoniakalische Chloridlösungen anwendbar ist, beinhaltet als Hauptstufen die Kupferabtrennung aus der Ätzlösung durch Flüssig-Flüssig-Extraktion und die anschließende schwefelsaure Kupfergewinnungselektrolyse. Von Nachteil ist der Aufwand für die Stufe der Flüssig-Flüssig-Extraktion, insbesondere der Bedarf und der Umgang mit in Kerosin gelöstem kupferspezifischen Extraktionen 'HeI.The Mecer process, which is also applicable to ammoniacal chloride solutions, includes as main stages the copper separation from the etching solution by liquid-liquid extraction and the subsequent sulfuric acid copper extraction electrolysis. A disadvantage is the expense for the stage of liquid-liquid extraction, in particular the need and dealing with dissolved in kerosene copper-specific extractions HeI.
Hoffmann, H., Galvanotechnik 73 (1982) 3, S.311-315Hoffmann, H., Galvanotechnik 73 (1982) 3, pp.311-315
Eine direkte Elektrolyse ammoniakalischer Kupfersulfatlösungen kann nach dem ELO-CHEM-Verfahren in speziellen Zellen mit bipolaren Elektroden durchgeführt werden. Nachteilig ist, daß die aus ammoniakalischen Lösungen abgeschiedenen katodischen Kupferniederschläge zur Dendritenbildung neigen und deshalb nach Erreichen von etwa 0,5mm Dicke und damit sehr häufig abgezogen werden müssen.Direct electrolysis of ammoniacal copper sulfate solutions can be carried out by the ELO-CHEM method in special cells with bipolar electrodes. The disadvantage is that the deposited from ammoniacal solutions cathodic copper precipitates tend to dendrite formation and therefore have to be deducted after reaching about 0.5mm thickness and thus very often.
ELO-CHEM-RECYLINGELO-CHEM-RECYLING
Firmenschrift d. ELO-CHEM Ätztechnik GmbHCompany d. ELO-CHEM Ätztechnik GmbH
Drosteweg 21, D 7758 Meorsburg;Drosteweg 21, D 7758 Meorsburg;
Galvanotechnik 75 (1984) 4, S. 539Galvanotechnik 75 (1984) 4, p 539
In einor kompliziort aufgobauten Elektrolysezelle, die oino ^ionenaustauschermembran enthält, wird Kupfer nach dem britischon FSL-Systom in pulverförmiger Form abgeschieden.In a complex electrolysis cell containing oxy-ion exchange membrane, copper is deposited in the form of powder according to British FSL-Systom.
Firmonschrift dor Fa. Sigma Enginooring AB, SchwedenFirmonschrift dor Fa. Sigma Enginooring AB, Sweden
Das Ziol dor Erfindung ist es, mit geringom technischen und ökonomischen Aufwand ammoniakalische Kupfersulfatlösung aufzuarbeiten.The Ziol dor invention is to work up with low technical and economic effort ammoniacal copper sulfate solution.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Aufarbeitung von ammoniakalischen Kupfersulfatätzlösungen bereitzustellen.The invention has for its object to provide a method and apparatus for processing of ammoniacal Kupferulfatulfatätzlösungen.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß etwa 50% der aufzuarbeitenden Ätzlösung unter Rühren mit Schwefelsäure auf einen pH-Wert von 3 bis 6 eingestellt und aus dieser Lösung mittels Gewinnui gsolektrolyse das Kupfer katodisch abgeschieden wird. Die während der Elektrolyse der CuSO4-(NH4I2SO4-LOSUrIg nach der ReaktionAccording to the invention, this object is achieved in that about 50% of the etching solution to be worked up is adjusted with stirring with sulfuric acid to a pH of 3 to 6 and from this solution by means of gueolektrolyse the copper copper is deposited cathodically. During the electrolysis of CuSO 4 - (NH 4 I 2 SO 4 LOSUrIg after the reaction
CuSO2 + H2O-* Cu + H2SO4 + 1/2O2 CuSO 2 + H 2 O- * Cu + H 2 SO 4 + 1 / 2O 2
entstehende Schwefelsäure wird durch kontinuierlichen oder periodischen Zusatz verbrauchter Ätzlcsung gebunden. Der Elektrolyseprozeß wird solange fortgesetzt, bis die Lösung nahezu kupfertrei ist.resulting sulfuric acid is bound by continuous or periodic addition of spent Ätzlcsung. The electrolysis process is continued until the solution is almost copper-free.
Am Ende liegt katodisch abgeschiedenes Kupfer und konzentrierte Ammoniumsulfate! ung vor, die zu etwa 50% zum Neuansatz frischer Ätzlösung Verwendung findet und zu etwa 50% anderweitig genutzt werden kann.At the end lies cathodically deposited copper and concentrated ammonium sulfates! About 50% of the new batch of fresh etching solution is used and about 50% can be used for other purposes.
Die chemischen Reaktionen des Verfahrens sind folgende, wobei von Kupfer-ll-tetramminsulfat als Hauptbestandteil der verbrauchten Ätzlösung ausgegangen wird.The chemical reactions of the process are as follows, starting from copper tetrammine sulfate as the main constituent of the spent etching solution.
Umsetzung der Schwefelsäure:Reaction of sulfuric acid:
[Cu(NH3I4ISO4 + 2H2SO4-^CuSO4 + 2(NH4)2SO4 Elektrolyse und Ätzlösungszugabe:[Cu (NH 3 I 4 ISO 4 + 2H 2 SO 4 - ^ CuSO 4 + 2 (NH 4 ) 2 SO 4 Electrolysis and Etch Solution Addition:
CuSO4 + 2(NH4I2SO4 + [Cu(NH3I4)SO4 + 2H2O -> 2 Cu + 4(NH4I2SO4 + O2 Summenreaktion der Aufarbeitung:CuSO 4 + 2 (NH 4 I 2 SO 4 + [Cu (NH 3 I 4 ) SO 4 + 2H 2 O -> 2 Cu + 4 (NH 4 I 2 SO 4 + O 2 Summenreaktion the workup:
2[Cu(NH3I4I SO4 + 2H2SO4 + 2H2O -> 2Cu + 4(NH4I2SO4 + O2 2 [Cu (NH 3 I 4 I SO 4 + 2H 2 SO 4 + 2H 2 O -> 2Cu + 4 (NH 4 I 2 SO 4 + O 2
Kombiniert man die Summenreaktionen des Ätzens und der Ätzlösungsaufarbeitung, so erhält man: Ätzen:Combining the sum reactions of the etching and the Ätzlösungsaufarbeitung, we obtain: Etching:
2CU + O2 + 4NH3 + 2(NH4I2SO4 -> 2[Cu(NH3I4I SO4 + 2H2O Aufarbeitung:2CU + O 2 + 4NH 3 + 2 (NH 4 I 2 SO 4 -> 2 [Cu (NH 3 I 4 I SO 4 + 2H 2 O Workup:
2[Cu(NH3I4I SO4 + 2H2SO4 + 2H2O ->2Cu + 4(NH4I2SO4 + O2 Für 2 MoIeCu:2 [Cu (NH 3 I 4 I SO 4 + 2H 2 SO 4 + 2H 2 O -> 2Cu + 4 (NH 4 I 2 SO 4 + O 2 For 2 moles of Cu:
4NH3 + 2H2SO4 -* 2(NH4I2SO4 4NH 3 + 2H 2 SO 4 - * 2 (NH 4 I 2 SO 4
Stöchiometrisch ergibt sich, daß bei der Rückgewinnung von 11 Katodenkupfer ein Überschuß von 2,08KNH4I2SO4 aus 0,54 t NH3 und 1,54t H2SO4 entsteht. Da die verbrauchte Ätzlösung zusätzlich zum Kupfertetramminkomplex eine geringe Menge freien Ammoniak enthält, 1Ct Jie tatsächlich anfallende (NH4)2SO4-Menge etwas größer.Stoichiometrically results in the recovery of 11 Katode copper an excess of 2.08KNH 4 I 2 SO 4 from 0.54 t NH 3 and 1.54t H 2 SO 4 is formed. Since the spent etching solution in addition to copper tetraamine containing a small quantity of free ammonia, 1 Ct Jie actually obtained (NH 4) 2 SO 4 quantity slightly larger.
Enthält die verbrauchte Ätzlösung einen Teil des Kupfers in einwertiger Form, vorzugsweise als Diamminkomplex, so fällt während der ersten Neutralisation und danach während der portionsweisen bzw. kontinuierlichen Ätziösungszugabe durch Disproportionierung Kupferpulver aus. Dadurch wird der entstehende Ammoniumsulfatüberschuß im Vergleich zu Lösungen mit ausschließlich zweiwertigem Kupfer vermindert. Daher ist es günstig, kupfer-l-haltige Ätzlösungen direkt, d. h. ohne vorherige Oxydation, der Ätzlösungsaufarbeitung zuzuführen. Die Elektrolyse kann auch mit einer wäßrigen Lösung des Doppelsalzes CuSO4 · (NH4I2SO4 6H2O begonnen werden. Während der Gewinnungselektrolyse einer Charge nimmt der Kupfergehalt der Lösung stetig ab. Zur Erzeugung kompakter KupferkatGdenniederschläge muß die Stromdichte in bekannter Weise mit abnehmender Kupferkonzentration vermindert werden.If the spent etching solution contains part of the copper in monovalent form, preferably as a diammine complex, copper powder precipitates during the first neutralization and then during the portionwise or continuous etch addition by disproportionation. As a result, the resulting excess of ammonium sulfate is reduced compared to solutions with exclusively divalent copper. It is therefore advantageous to supply copper-containing etching solutions directly, ie without prior oxidation, to the etching solution work-up. The electrolysis can also be started with an aqueous solution of the double salt CuSO 4 (NH 4 I 2 SO 4 6H 2 O. During the recovery electrolysis of a charge, the copper content of the solution steadily decreases decreasing copper concentration can be reduced.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird vorteilhafterweise in dem ebenfalls erfindungsgemäßen Elektrolysebehälter mit verschließbarem Bodenauslauf durchgeführt. In dem Behälter befinden sich ein Rührer, eine elektrische Heizung, eine Temperatur- und oino pH-Meßeinrichtung.The inventive method is advantageously carried out in the electrolysis tank according to the invention with a closable bottom outlet. In the container are a stirrer, an electric heater, a temperature and oino pH measuring device.
Dnr RnhAjter wird zu etwa 40% seines Fassungsvermögens mit verbrauchter timmuriiakaiischer Kupfersuifatätziösung gefüllt. Untor Rühron wird soviol 70%igo Schwefelsäure zugesetzt, bis der pH-Boreich von 3 bis 6 erreicht ist. Nach dem Einsetzen der soiikrocht angoordnoton Plattenolektroden, abwochselnd Kupforka'.oden und Bleianoden, wird bei etwa 500C und unter mäßigem Rühron mit einor Stromdichte von 100A/m2, bozogon auf dio anfangs wirksame Katoden'läche, elektrolysiert. Kontinuierlich odar periodisch wird soviel Ätzlösung nachgofüllt, daß dio durch Kupferabschoidung freiwordende Schwefelsäure gobundon wird.Dnr RnhAjter is filled to about 40% of its capacity with spent timmuri-caustic copper sulfate solution. Untor Rühron is added to 70% igo sulfuric acid until the pH is reached from 3 to 6. After the onset of sooikrocht angoordnoton plate electrodes, Kupferfernka'.oden and lead anodes, is electrolyzed at about 50 0 C and under moderate agitation with a current density of 100A / m 2 , bozogon on dioxid initially effective Katoden'läche. Continuously or periodically, so much etching solution is replenished that the sulfuric acid free-changing by copper precipitation becomes gundundone.
Gogon Endo dor Entkupforung ist infolgo dos Niveauanstieges und der dadurch bedington Vergrößerung der wirksamen Katodcnflächo boi konstantor Stromstärko die katodischo Stromdichte auf etwa 50 A/m2 gefallen. Ist eine weitgehende Kupforontfornung auf z. B. 0,2 g/l Cu orfordorlich, so wird in dor letzton Phase der Entkupferung oino katodischo Stromdichte von 10A/m2 angowandt.Gogon Endo dor Entkupforung has fallen in line with the level increase and thereby bedding increase the effective Katodcnflächeo boi konstantor amperage the katodischo current density on about 50 A / m 2 . Is an extensive Kupforontfornung on z. B. 0.2 g / l Cu orfordorlich, so in the laston phase of Entkupferung oino katodischo current density of 10A / m 2 angowandt.
Die vorteilhaften Wirkungen der erfindungsgemäßen Lösung bestehon darin, daßThe advantageous effects of the solution according to the invention consist in that
- das Kupfer aas saurer Lösung in metallischer Form abgeschieden wird- The copper acid solution is deposited in a metallic form
- die verbleibende Ammoniumsulfatlösung anteilig zum Neuansatz von Ätzlösung eingesetzt werden kann- The remaining ammonium sulfate solution can be used proportionally to the new batch of etching solution
- das restliche Ammoniumsulfat in bekannter Weise genutzt werden kann- The residual ammonium sulfate can be used in a known manner
- das Verfahren in einer einfach gestalteten Vorrichtung durchgeführt werden kann.- The process can be performed in a simple design device.
Ausführungsbeispielembodiment
Die Erfindung wird nachstehend an zwei Beispielen und einer Zeichnung näher erläutet' °The invention will be explained in more detail below with reference to two examples and a drawing
Der Elektrolysebehälter, aus dem die Elektroden entfernt wurden, wird zu etwa 40% seines Fassungsvermögens mit verbrauchter ammoniakalischer Kupfersulfatätzlösung gefüllt. Unter Rühren wird soviel etwa 70%ige Schwefelsäure zugesetzt, bis der pH-Bereich von 3 bis 6 erreicht ist. Nach dem Einsetzen der Elektroden wird bei etwa 50°C und unter mäßigem Rühren mit einer Stromdichte von 100 A/m2, bezogen auf die anfangs wirksame Katodenfläche, elektrolysiert. Kontinuierlich läßt man soviel Ätzlösung zufließen, daß die durch die Kupferabscheidung freiwerdende Schwofelsäure sofort neutralisiert und damit der genann pH-Bereich eingehalten wird. Gerben Ende der Entkupferung ist infolge des Niveauanstiegs und der Vergrößerung der wirksamen Katodenfläche die katodische Stromdichte auf etwa 50A/m2 gefallen. Zur weitgehenden Senkung des Endkupfergehaltes auf z.B. 0,2g/l Cu wird in der letzten Phase der Entkupferung eine Stromdichte von 10A/m2 angewandt.The electrolytic tank from which the electrodes have been removed is filled to about 40% of its capacity with spent ammonia copper sulfate etch solution. While stirring, about 70% sulfuric acid is added until the pH range of 3 to 6 is reached. After inserting the electrodes is electrolysed at about 50 ° C and with moderate stirring at a current density of 100 A / m 2 , based on the initially effective cathode surface. Continuously allowed to flow so much etching solution that the released by the copper deposition of sulfuric acid immediately neutralized and thus the genann pH range is maintained. Tanning At the end of the decoppering, the cathodic current density has fallen to about 50A / m 2 due to the increase in level and the increase in effective cathode area. To substantially reduce the final copper content to, for example, 0.2 g / l of Cu, a current density of 10 A / m 2 is used in the last phase of decoppering.
äeispiel 2Example 2
Der Elektrolysebehälter 1 hat einen in horizontaler Ebene rechteckigen Querschnitt. Am Boden ist ein Bodenauslaufventil 2 angebracht. Im Behälter 1 befinden sich der Rührer 3, die aushebbaren Katodenbleche 5 und die unlöslichen Anodenbleche sowie ein Temperaturmeßfühler 9 und ein pH-Wert-Meßfühler 10. Außerdem ist im Behälter 1 eine Heizeinrichtung 8 angeordnet. Über die Zulaufe 6 und 7 erfolgt die Dosierung der Schwefelsäure bzw. der verbrauchten ammoniakalischen Kupfersulfatätzlösung.The electrolysis tank 1 has a rectangular cross section in the horizontal plane. At the bottom of a bottom outlet valve 2 is attached. In the container 1 are the stirrer 3, the recoverable cathode plates 5 and the insoluble anode plates and a temperature sensor 9 and a pH sensor 10. In addition, a heating device 8 is arranged in the container 1. About the feed 6 and 7, the dosage of the sulfuric acid or the spent ammoniacal Kupferulfatulfatätzlösung takes place.
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DD32198788A DD277093A1 (en) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | METHOD AND DEVICE FOR REPRODUCING AMMONIA CALF COPPER SULFATE SOLUTIONS |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2001015554A1 (en) * | 1999-08-31 | 2001-03-08 | Remedy Research Limited | Metal-containing compositions, preparations and uses |
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1988
- 1988-11-21 DD DD32198788A patent/DD277093A1/en not_active IP Right Cessation
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