DD256199A1 - Verfahren zur kombination von unterschiedlichen schichtsystemen - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kombination von unterschiedlichen Schichtsystemen, insbesondere von dielektrischen und metallischen Schichtsystemen. Sie kann ueberall dort eingesetzt werden, wo neben einer hohen Haftfestigkeit, einer chemischen Resistenz gute optische Eigenschaften der unterschiedlichen Schichtsysteme notwendig sind, z. B. bei optischen Spiegeln. Bei dem erfindungsgemaessen Verfahren werden nach bekannten Aufdampftechnologien zwei Metallschichten bestimmter Dicke aufgedampft. Die Durchoxydation der ersten Metallschicht und die Oberflaechenoxydation der zweiten Metallschicht erfolgt unter gleichzeitiger Glimmentladung.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kombination von unterschiedlichen Schichtsystemen, insbesondere von dielektrischen und metallischen Schichtsystemen. Sie kann überall dort eingesetzt werden, wo neben einer hohen Haftfestigkeit, einer chemischen Resistenz gute optische Eigenschaften der unterschiedlichen Schichtsysteme notwendig sind, z. B. bei optischen Spiegeln. /
Es ist allgemein bekannt, daß für gezielte Reflektionen Metallspiegel oder dielektrische Spiegel entwickelt und produziert werden, in denen Metalle und Metalloxide oder Fluoride im Vakuum teilweise reaktiv oder in Gegenwart von Schutzgas, z. B.
Argon oder Stickstoff, verdampft werden.
Nachteil dieser Spiegel ist es, daß nur die genau vorgegebenen definierten Spektralbereiche des Lichts in der gesamten Fläche reflektiert bzw. nicht reflektiert werden.
Weiterhin ist es bekannt, auf einem Träger eine TiO2 und MgF2 Schicht im Wechsel aufzubringen, wobei zuerst das TiO2, also die hochbrechende Schicht, aufgebracht wird und anschließend eine Beschichtung mit einer gedeckten Al-Schicht erfolgt (OS 3005621). Der Rand des Spiegels ist chemisch nicht hinreichend geschützt, was zu einer Zerstörung der Aluminiumschicht führen kann.
Es ist weiterhin ein Verfahren zum Stabilisieren dünner Schichten vorgeschlagen worden (WP 602B/236477/6). Bei diesem Verfahren wird in einer Bedampfungsanlage eine erste Metallschicht bestimmter Dicke aufgebracht und unter Einwirkung von molekularem Sauerstoff durchoxydiert. Anschließend erfolgt das Aufdampfen einer zweiten Metallschicht bestimmter Dicke und durch Einwirkung von molekularem Sauerstoff wird von der Oberfläche dieser Metallschicht eine abschließende chemisch resistente Metalloxydschicht gebildet.
Dieses Verfahren ist zur Kombination von unterschiedlichen Schichtsystemen nicht anwendbar, da die Haftfestigkeit der zu schützenden Aluminium-Schicht zur dielektrischen Schicht, z. B. MgF2, nicht ausreichend ist.
Die Erfindung verfolgt das Ziel(mit einem geringen technischen und zeitlichen Aufwand eine gute Haftfestigkeit zwischen der . metallischen und dielektrischen Schicht zu erreichen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mit einem geringen technischen und zeitlichen Aufwand eine hohe Haftfestigkeit, eine gute Klimabeständigkeit, eine chemische Resistenz und gute optische Eigenschaften von unterschiedlichen Schichtsystemen zu erreichen.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren zur Kombination von unterschiedlichen Schichtsystemen, insbesondere von metallischen und dielektrischen Schichtsystemen, wobei auf einem Träger wenigstens zwei Schichten aus abwechselnd hoch- und niederbrechendem Material und darauf in einer Bedampfungsanlage eine erste Metallschicht bestimmter Dicke aufgebracht und unter Einwirkung von molekularem Sauerstoff durchoxydiert wird und nach mehrmaligem Spülen eine zweite Metallschicht bestimmter Dicke aufgedampft und unter Einwirkung von molekularem Sauerstoff eine Oberflächenoxydation erfolgt, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Durchoxydation der ersten Metallschicht bestimmter Dicke und die Oberflächenoxydation der zweiten Metallschicht bestimmter Dicke unter gleichzeitiger Glimmentladung erfolgt. Erfindungsgemäß ist es von Vorteil, daß die durchoxydierte erste Metallschicht ca. 6 nm und die zweite Metallschicht ca. 200 nm stark ist.
Das Wesen der Erfindung soll an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden.
Ein Träger, der mit einer abwechselnd hoch- und niederbrechenden Schicht z. B. aus CeO2 und IVIgF2, wobei CeO2 die hochbrechende Schicht sei, versehen ist, wird in eine Bedampfungsanlage eingebracht. Anschließend wird die oberste Schicht, also MgF2 nach bekannten Aufdampftechnologien mit einer ca. 6nm starken ersten Metallschicht, z. B. Aluminium, bedampft. Anschließend wird diese Aluminiumschicht unter Einwirkung von molekularem Sauerstoff und gleichzeitiger Glimmentladung durchoxydiert. Nach mehrmaligem Spülen mit beispielsweise Argon erfolgt das Aufdampfen einer zweiten Aluminiumschicht unter Ausschluß von Sauerstoff zu einer Dicke von ca. 200nm. Anschließend wird molekularer Sauerstoff in die Kammer eingeführt und bei gleichzeitiger Glimmentladung eine Oberflächenoxydation erreicht, die die zweite Aluminiumschicht vollkommen abschließt. Damit wird die optisch reflektierende zweite Aluminiumschicht allseitig, d.h. auch am Rand, vor Korrosion geschützt und die ein außerordentlich hohes Oxydationspotential besitzenden Erdmetalloxyd-Schichten können nicht mehr zerstörend auf die zweite Aluminiumschicht einwirken.
Es entsteht somit eine Kombination von unterschiedlichen, d.h. dielektrischen und metallischen Schichtsystemen, die zueinander eine hohe Haftfestigkeit, eine chemische Resistenz, gute Klimabeständigkeit und gute optische Eigenschaften besitzen.
Claims (2)
1. Verfahren zur Kombination von unterschiedlichen Schichtsystemen, insbesondere von metallischen und dielektrischen Schichtsystemen, wobei auf einem Träger wenigstens zwei Schichten aus abwechselnd hoch- und niederbrechendem Material und darauf in einer Bedampfungsanlage eine erste Metallschicht bestimmter Dicke aufgebracht und unter Einwirkung von molekularem Sauerstoff durchoxydiert wird und nach mehrmaligem Spülen eine zweite Metallschicht bestimmter Dicke aufgedampft und unter Einwirkung von molekularem Sauerstoff eine Oberflächenoxydation erfolgt, gekennzeichnet dadurch, daß die Durchoxydation der ersten Metallschicht bestimmter Dicke und die Oberflächenoxydation der zweiten Metallschicht bestimmter Dicke unter gleichzeitiger Glimmentladung erfolgt.
2. Verfahren nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß die durchoxydierte erste Metallschicht ca. 6nm und die zweite Metallschicht ca. 200nm stark ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD24129982A DD256199A1 (de) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Verfahren zur kombination von unterschiedlichen schichtsystemen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD24129982A DD256199A1 (de) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Verfahren zur kombination von unterschiedlichen schichtsystemen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD256199A1 true DD256199A1 (de) | 1988-04-27 |
Family
ID=5539710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD24129982A DD256199A1 (de) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Verfahren zur kombination von unterschiedlichen schichtsystemen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD256199A1 (de) |
-
1982
- 1982-07-01 DD DD24129982A patent/DD256199A1/de not_active IP Right Cessation
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