CZ411499A3 - Povlečený substrát s vysokou odrazivostí pro kontrolu slunečního záření, způsob jeho výroby a výrobky získané tímto způsobem - Google Patents
Povlečený substrát s vysokou odrazivostí pro kontrolu slunečního záření, způsob jeho výroby a výrobky získané tímto způsobem Download PDFInfo
- Publication number
- CZ411499A3 CZ411499A3 CZ19994114A CZ411499A CZ411499A3 CZ 411499 A3 CZ411499 A3 CZ 411499A3 CZ 19994114 A CZ19994114 A CZ 19994114A CZ 411499 A CZ411499 A CZ 411499A CZ 411499 A3 CZ411499 A3 CZ 411499A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- substrate
- transparent substrate
- coated transparent
- coating
- coating layer
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 title abstract description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title description 6
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 title description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 21
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 10
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 7
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 80
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 63
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 12
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 12
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 claims description 3
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 claims description 3
- -1 Sb (OCH 2 CH 3 ) 3 Chemical class 0.000 claims description 3
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 3
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical class [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- FFDNCLQDXZUPCF-UHFFFAOYSA-N [V].[Zn] Chemical compound [V].[Zn] FFDNCLQDXZUPCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N mofebutazone Chemical group O=C1C(CCCC)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 abstract 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 15
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 7
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 5
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000002352 steam pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/244—Doped oxides with Sb
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
Description
Povlečený substrát s vysokou odrazivosti pro kontrolu slunečního záření, způsob jeho výroby a výrobky získané tímto způsobem
Oblast vynálezu
Vynález se týká povlečeného substrátu s vysokou odrazivosti pro kontrolu slunečního záření, způsobu výroby « takového povlečeného substrátu a výrobků získaných tímto způsobem.
Dosavadní stav techniky
Transparentní panely pro kontrolu slunečního záření se staly stále žádanější pro použití jako vnější zasklení budov. Vedle toho, že poskytují estetický vzhled, mají výhodu v tom, že znamenají ochranu před slunečním zářením a proti jeho oslňujícímu účinku, což představuje pro uživatele této budovy clonu proti přehřátí a oslnění.
Tyto panely obsahují alespoň jednu tabuli průhledného substrátu, obvykle sodno-vápenatého skla, na kterém je aplikován povlak a tím se získají specifické požadované vlastnosti. Požadavky na kontrolu slunečního záření jsou takové, že panel nesmí propouštět příliš velký podíl ·,* celkového dopadajícího slunečního záření, takže zabraňuje přehřátí vnitřku budovy. Propustnost celkového dopadajícího > slunečního záření je možno vyjádřit termínem solární faktor (FS). Tento termín solární faktor použitý v popisu předmětného vynálezu znamená součet celkové energie přímo propouštěné (TE) a energie, která se absorbuje a opět vyzařuje na straně odvrácené od zdroje energie, jako podíl ·· ·· » · · · » · · · • · · · · · • · ·· ·· celkové zářivé energie dopadající na povlečený substrát.
I když architekti, hledající zasklívací panely pro použití na budovách, měli tradičně sklon dávat přednost panelům s nízkou úrovní odrazivosti, měnící se pojetí estetického vzhledu vedlo ke zvyšující se poptávce po panelech s vysokou úrovní odrazivosti při zachování nízkého solárního faktoru.
V popisu předmětného vynálezu uvažované vlastnosti povlečeného substrátu vycházejí ze standardních definic Mezinárodní komise pro osvětlení (International Commision on Illumination - Commision Internationale de l’Eclairage (CIE)).
Propustnost světla (TL) je světelný tok, propouštěný substrátem jako procentuální podíl dopadajícího světelného toku.
Odrazivost světla (RL) je světelný tok odrážený substrátem jako procentuální podíl dopadajícího světelného toku.
Selektivita povlečeného substrátu pro použití v zasklívací panelech budov je poměr propustnosti světla k solárnímu faktoru (TL/FS).
Čistota” (p) barvy substrátu se vztahuje k excitační čistotě při propouštění nebo odrazu, měřená pomocí světelného zdroje C Illuminant C. Je určena lineární stupnicí, na které definovaný zdroj bílého světla má čistotu nula a čistá barva má čistotu 100 %. Světelný zdroj Illuminat C představuje průměrné denní světlo s barevnou
teplotou 6700° K
Termín index lomu (n) je definován v publikaci CIE International Lighting Vocabulary, 1987, str. 138.
Převládající vlnová délka (lambda^g^g^) je špičková vlnová délka v rozmezí propouštěného světla nebo odraženého světla povlečeným substrátem.
Pro vytváření povlaků na skelném substrátu je známa řada technologií, včetně pyrolýzy. Pyrolýza má obecně výhodu v tom, že se pomocí tohoto postupu vytvoří tvrdé povlaky, což odstraňuje potřebu ochranné vrstvy. Povlaky vytvořené pyrolýzou mají trvanlivé vlastnosti odolnosti proti otěru a korozi. Soudí se, že je to dáno skutečností, že postup zahrnuje ukládání materiálu povlaku na substrát, který je horký. Pyrolýza je rovněž obecně levnější než alternativní postupy povlékání, jako je například rozprašování, zejména co do investic ve výrobním zařízení.
Pro modifikování optických vlastností zasklívacích panelů byla navržena velká řada materiálů pro aplikování jako povlaky. Běžně se v tomto směru používal oxid cíničitý (SnC^), často v kombinaci s dalšími materiály, jako jsou například oxidy dalších kovů.
V patentu Velké Británie č. GB 1455148 (majitelé jsou stejní jako v případě předmětného vynálezu) se popisuje způsob pyrolytického vytváření povlaku z jednoho oxidu nebo z více oxidů (například ZrC^, S^O, Sb2O-3 , TiC^, C03O4, ^'Γ2θ3’ SÍO2) na substrátu, především nastřikováním sloučenin kovů nebo křemíku, přičemž účelem je modifikování propustnosti světla a/nebo odrazivosti světla substrátem.
4 4 4 • · 4 « 1 • 4 4 4 4
4 444 4 4 4 » 4 4 »44 44 44
V patentu Velké Británie č. GB 2078213 (majitelé jsou stejní jako v případě předmětného vynálezu) se popisuje způsob pyrolytického vytváření povlaku prováděného pomocí dvou separátních postřiků, přičemž účelem je docílení vysoké rychlosti tvorby povlaku, při kterém se získají povlaky oxidu cíničitého dopovaného fluorem nebo antimonem.
V patentu Velké Británie č. GB 2200139 (majitelé jsou stejní jako v případě předmětného vynálezu) se popisuje postup vytváření pyrolytického povlaku oxidu cíničitého z prekurzoru obsahujícího alespoň dvě přísady, jako jsou například oxidační činidla, zdroje fluoru a zdroje kovu.
Později bylo zjištěno, že použití povlaku oxidu cíničitého s malým podílem oxidu antimonu poskytuje četné výhodné kombinace optických vlastností. V dalších patentových přihláškách Velké Británie č. GB 2302101 (v dalším bude označován 101) a č. 2302102 (v dalším bude označován jako 102) (majitelé jsou stejní jako v případě předmětného vynálezu) se popisují protisluneční zasklívací panely, nesoucí vrstvu pyrolytického povlaku oxidů cínu a antimonu, ve které je molární poměr Sb/Sn od 0,01 do 0,5. Povlak podle 101 se nanáší nástřikem kapaliny a má tloušťku alespoň 400 nm, propustnost světla nižší než 35 % a selektivitu alespoň 1,3. Povlak podle patentu 102 se nanáší chemickým ukládáním par (CVD) a má solární faktor pod 70 %.
Podstata vynálezu
Cílem předmětného vynálezu je poskytnout pyrolyticky vytvořený povlečený substrát, který má schopnost odstínění slunečního záření a vysokou odrazivost.
9999 ·
99 9 ·· ··
999 · 9 99 · · 9 9 9 9
9 9 999999
9 9 9
999 9999 99 99
Podle předmětného vynálezu bylo zjištěno, že tento cíl a další užitečné cíle se mohou dosáhnout přidáním určitých definovaných přísad při nanášení pyrolytického povlaku, obsahujícího cín a antimon, na substrát.
Podle prvního aspektu předmětného vynálezu je vytvořen průhledný substrát nesoucí pyrolyticky vytvořenou vrstvu povlaku obsahující oxidy cínu a antimonu v molárním poměru Sb/Sn od 0,01 do 0,5, jehož podstata spočívá v tom, že vrstva povlaku dále obsahuje přísadu tvořenou jedním z kovů vybraných ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, mangan, hořčík, nikl, vanad, zinek nebo zirkonium, nebo z více těchto kovů, přičemž tato vrstva je prostá fluoru, a takto povlečený substrát má odrazivost (RL) alespoň 10 %.
Vynález dále poskytuje způsob vytváření průhledného substrátu s povlakem zahrnující pyrolytické ukládání vrstvy povlaku obsahuj ící cín a antimon v molárním poměru Sb/Sn od 0,01 do 0,5 na substrát ze směsi reagujících látek, kde uvedená směs reagujících látek obsahuje zdroj cínu a zdroj antimonu a podstata tohoto postupu podle vynálezu spočívá v tom, že směs reagujících látek dále obsahuje přísadu, tvořenou jedním kovem vybraným ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, mangan, hořčík, nikl, vanad, zinek, nebo zirkonium nebo více těmito kovy, přičemž je prostá fluoru a takto získaný povlečený substrát má odrazivost (RL) alespoň 10 %.
Podle předmětného vynálezu bylo zjištěno, že povlak z oxidů cínu a antimonu modifikovaný přísadou, jak je výše uvedeno (dále označenou jako modifikovaný povlak oxidu cínu/antimonu), zachovává protisluneční vlastnosti povlaku ·· 99 99 ·· · · · · · · · · · • · · ····· 9 9 9 · 99 99· *·· • · · · · · ···· · ······· ·· ·· bez přísad, ale rovněž může vykazovat značně vyšší stupeň odrazivosti.
Povlečený substrát podle vynálezu se může používat jako zasklívací panel s jedinou tabulí, nebo alternativně jako vícenásobná zasklívací nebo laminovací soustava.
V případě vícenásobné zasklívací nebo laminované soustavy je výhodné, aby pouze jedna z použitých tabulí nesla povlak.
I když popis předmětného vynálezu zaměřen především na zasklívací panely budov mohou být panely podle vynálezu vhodné pro další aplikace, jako jsou například okna vozidel, zejména sluneční střechy automobilů.
Protože povlaky, vyrobené pyrolýzou mají obecně větší mechanickou odolnost než povlaky vyrobené jiným způsoby, může se umístění povlaku volit podle získaných vlastností panelu spíše než z důvodů ochrany povlečeného povrchu proti působení otěru nebo koroze.
Povlečené tabule substrátu podle vynálezu výhodně maj í nízký solární faktor okolo 70 % nebo méně, výhodněji nejvýše 65 %. V případě vícenásobného zasklení a při umístění povlaku na vnější straně, to znamená ke zdroji energie, se obecně dosáhne zlepšení slunečního faktoru proti stavu, který se docílí s povlakem odvráceným od zdroje energie.
Molární poměr Sn/Sb ve vrstvě povlaku je výhodně alespoň 0,03, nejvýhodněji alespoň 0,05. To napomáhá k zajištění vysoké úrovně absorpce. Na druhé straně je uvedený poměr výhodně nižší než 0,21 s ohledem na docílení vysoké úrovně propustnosti světla (TL). Nejvýhodnější je poměr nižší než 0,16, protože nad touto úrovní vrstva ·· 4··· • 44 44 44
444 4 4 44 4
4 4 4 4 4
4 4 444 444
4 4 4
4444444 44 44 povlaku vykazuje příliš vysokou úroveň absorpce spojenou s nízkou selektivitou.
V mnoha případech je žádoucí, aby zasklívací panel propouštěl rozumný podíl viditelného světla, aby tak umožnil jak dobré přirozené osvětlení uvnitř budovy nebo vozidla, tak i dobrou viditelnost ven. Proto je žádoucí zvýšit selektivitu povlaku, to znamená zvýšit poměr propustnosti k solárnímu faktoru. Výhodné je ovšem řešení, při kterém je selektivita co nejvyšší. Propustnost světla (TL) povlečeného substrátu podle vynálezu je běžně v rozmezí od 35 do 76 %, v závislosti na použité specifické přísadě.
Modifikovaný povlak oxidu cínu/antimonu má výhodně tloušťku od 100 do 500 nm.
Jak již bylo zmíněno výše s odkazem na publikace podle dosavadního stavu techniky, jako je například patent Velké Británie č. GB 2078213, jedním z dříve navrhovaných prvků, obsažených v povlacích oxidů cínu a antimonu byl fluor, vznikající například z reagujících činidel obsahujících cín, antimon a fluor v poměrech Sb/Sn = 0,028, F/Sn = 0,04. Podle předmětného vynálezu bylo však objeveno, že přítomnost fluoru brzdí vpravení antimonu do povlaku. Například reagující činidla obsahující antimon a cín v poměru Sb/Sn = 0,028, poskytují povlak s poměrem Sb/Sn = 0,057, zatímco stejné reagující činidlo s reagujícím činidlem obsahujícím fluor v poměru F/Sn = 0,04, poskytlo povlak s poměrem Sb/Sn = asi 0,038. Proto je v případě předmětného vynálezu přítomnost fluoru v těchto povlacích specificky vyloučena.
Aby se zajistila vysoká optická kvalita produktu musí
- 8 •4 4··4
4 •
4444 • 4 44 • 4 4 4
4 9 4 • 444 ···
4
44 být ve výhodném provedení hodnota veškerého zákalu ve výrobku nižší než 2 %. Možnost snížení zákalu pomocí podkladové vrstvy je uváděna dále v tomto popisu.
Jedna z výhodných skupin kovů pro výběr přísady zahrnuje hliník, chrom, kobalt, železo, mangan, hořčík, nikl, vanad a zinek. Použití těchto přísad umožňuje výrobu povlaků vykazujících nízkou úroveň zákalu.
Jiná výhodná skupina kovů pro výběr přísad zahrnuje hliník, chrom, kobalt, železo, hořčík a zinek. Tyto přísady mají nejpříznivější vliv na odrazivost výrobku.
Pro vytvoření povlaku s vysokou odrazivostí a nízkým zákalem se tedy přísada výhodně volí z kovů vybraných ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, hořčík a zinek, výhodněji ze skupiny zahrnující chrom, železo a hořčík. Nejvýhodnějším kovem je chrom, neboť při jeho aplikaci je možno získat produkt s vysokou odrazivostí a velmi nízkým zákalem, který má neutrální vzhled při odrazu.
Jak se popisuje a nárokuje v souběžně podané patentové přihlášce ze stejného data (stejného přihlašovatele jako u předmětného vynálezu), odrazivost povlaku se dále může zlepšit nanesením vnější odrazné vrstvy s geometrickou tloušťkou v rozmezí 30 až 150 nm a s indexem lomu v rozmezí 2,0 až 2,8.
Nanesení pyrolytického povlaku na ploché sklo se nejlépe docílí v případech, kdy je sklo čerstvě vyrobeno, například v okamžiku kdy opouští linku na výrobu plaveného skla. Tento způsob poskytuje ekonomické výhody spočívající • » • · · · • r β · · .:.. » •· ·· ·· í) · · · · · • · · · * • · ··· ··· • · · ···· · · «Λ v tom, že se odstraní nutnost opětovného ohřívání skla, nutného k provedení pyrolytická reakce, a dále se se dosáhne zlepšení kvality povlaku, protože čerstvě vyrobený povrch skla je ve stavu zrodu.
Jako zdroj cínu se výhodně volí jedna nebo dvě sloučeniny, jako je například chlorid cíničitý SnCl^ a monobutyltrichlorcín (MBTC). Jako zdroj antimonu se může volit jedna nebo více sloučenin, jako je například SbCl^, SbCl3, organické sloučeniny antimonu, jako je například Sb (OCH2CH3) 3 , CI-l ?Sb (OCH2CH3) 1,3 , Cl2SbOCHClCH3, Cl2SbOCH2CHCH3Cl a Cl2SbOCH2C(CH3)2C1. Zdrojem přísady podobně může být vhodný chlorid nebo organokovová sloučenina dotyčného kovu.
Zdroje cínu, jediného výchozího reagujících složek substrát.
antimonu a přísad se výhodně spojují do roztoku, který se zde označuje jako směs , přičemž účelem je současné nanesení na
Směs reagujících složek se na substrát může nanášet pomocí chemického ukládání z par (CVD nebo parní pyrolýza) nebo nástřikem kapaliny (kapalinová pyrolýza). Zejména v případě nanášení nástřikem kapaliny se poměry cínu, antimonu a přísad ve vytvořeném povlaku mohou výrazně lišit od poměru v roztoku reagujících složek, takže je nezbytné měnit relativní koncentrace reagujících činidel k získání vrstev s požadovanými poměry v povlaku.
Ve směsi reagujících složek je podíl cínu běžně v rozmezí 20 až 45 % hmotnostních a podíl antimonu je běžně v rozmezí 0,5 až 3,6 % hmotnostních z celkové směsi. Podíl přísady je výhodně v rozmezí 0,2 až 3,6 % hmotnostních.
• * · · · (t • * * © · « · · · • · · » · 0 φ · · · ······ * · · e ······· φ« >4»
Protože může být obtížné určit podíl přísady v povlaku, stanoví se množství přísady, které se hotovém má použít, ve stadiu vytváření směsi reagujících složek.
Pro vyrobení modifikovaného povlaku oxidu cínu/antímonu pomocí CVD, se substrát uvede do styku se směsí reagujících složek obsahující zdroj cínu, antimonu a přísady v povlékací komoře. Směs reagujících složek se běžně dodává první tryskou. Pokud směs obsahuje chloridy, které jsou kapalné při teplotě okolí, vypařuje se v ohřátém proudu bezvodého nosného plynu, jako je například dusík. Vypaření je usnadněno rozprášením těchto činidel v nosném plynu. Pro získání oxidů se chloridy přivádějí do přítomné vodní páry přiváděné druhou tryskou.
Postupy a zařízení pro vytváření takového povlaku jsou popsány například ve francouzském patentu 2348166, nebo ve francouzské patentové přihlášce 2 648 453 Al. Tyto způsoby a zařízení vedou ke vzniku zvláště silných povlaků s výhodnými optickými vlastnostmi.
Pro vytvoření povlaku způsobem nastřikování se substrát může uvést do styku se postřikem (sprej) kapiček obsahující zdroj cínu, antimonu a přísady. Tento postřik se nanáší jednou rozprašovací tryskou nebo více takovými tryskami uspořádanými tak, že vytváří spojitou dráhu, která poskytuje povlak napříč šíře pásu, který se má povléknout.
Metoda CVD poskytuje oproti nastřikovaným kapalinám výhodu v tom, že je při ní možno vyrobit povlaky s pravidelnou tloušťkou a složením, přičemž taková stejnoměrnost povlaku je důležitá v případech, kdy se produktem má pokrýt velká plocha. Nanášení postřikem • »· · · · · ♦ · · · · · · « · « · · ft • · · ·«·««· • · · » ·«··«·· · r · « (sprejem) má rovněž sklon zachovávat stopy po nastříkaných kapičkách a po dráze stříkací pistole. Navíc je pyrolýza nastřikovaných kapalin v podstatě omezena na výrobu oxidových povlaků, jako je například Sn02 a TiC^. Rovněž je obtížné vyrábět vícevrstvé povlaky pomocí nastřikování kapalin, protože každý nános povlaku vytváří značné ochlazení substrátu. Navíc je CVD hospodárnější co do použitých surovin, což vede ke snížení odpadu.
Avšak přes tyto nevýhody je způsob nastřikování přesto vhodný, neboť se aplikuje levným způsobem a používá se při něm jednoduché zařízení. Proto se tento způsob mnohdy používá, zvláště v případech vytváření silných vrstev povlaků.
Pokud je to žádoucí, může se mezi substrát a modifikovanou vrstvu povlaku oxidu cínu/antimonu umístit mezilehlá vrstva povlaku jako podklad pod modifikovanou vrstvu, přičemž účelem je úprava optických vlastností povlaku. Například se podle předmětného vynálezu zjistilo, že při pyrolytickém ukládání povlaku oxidu cínu z chloridu cínu na substrát sodno-vápenatého skla má chlorid sodný sklon vpravit se do cínového povlaku v důsledku reakce skla s materiálem prekurzoru povlaku nebo s jeho reakčními produkty, což vede k zákalu v povlaku. Přítomnost podkladu může snížit nebo odstranit zákal. Jedním z účinků podkladové vrstvy je zabránit migraci sodíkových iontů ze substrátu sodno-vápenatého skla buď difúzí nebo jiným způsobem do povlaku oxidu cínu/antimonu. Taková difúze může nastat během vytváření povlaku nebo během následného zpracování při vysoké teplotě.
Rovněž bylo podle předmětného vynálezu zjištěno, že ♦ · · v případě povlaku oxidu cinu/antimonu může zvolená vrstva podkladu dodat neutrálnější nádech v odrazu, což je všeobecně akceptováno jako dodání estetického vzhledu povlaku.
Podle jednoho z provedení podle předmětného vynálezu se může podkladová vrstva vytvořit pyrolyticky v neúplně oxidovaném stavu tak, že se v komoře pro vznik podkladu uvede do kontaktu substrát s materiálem prekurzoru podkladu v přítomnosti kyslíku v nedostatečném množství pro plnou oxidaci materiálu podkladu na substrátu. Výraz neúplně oxidovaný materiál se v popisu předmětného vynálezu používá k označení skutečného suboxidu, to je oxidu v nižším valenčním stavu vícemocného prvku (například VO2, nebo TiO), a rovněž k označení oxidového materiálu, který má ve své struktuře kyslíkové mezery: příkladem takového materiálu je SiOx, kde x je menší než 2, který může mít obecnou strukturu SÍO2, ale má určitý podíl mezer, které by v dioxidu byly vyplněny kyslíkem.
Výhodným materiálem pro podkladovou vrstvu je oxid hlinitý s malým podílem oxidu vanadu. Takovýto materiál na bázi oxidu hlinitého/vanadu je popsán v patentu Velké Británie č. GB 2248243. Výhodná geometrická tloušťka podkladové vrstvy tohoto materiálu je mezi 40 a 100 nm, například asi 80 nm.
V případě, že se skleněný substrát, nesoucí neúplně oxidovaný povlak, vystaví působení oxidační atmosféry po dostatečně dlouhou dobu, je možno očekávat, že povlak bude mít sklon k doplnění oxidace, takže jeho žádoucí vlastnosti se ztratí. Proto se takový podklad, pokud je ještě v neúplně oxidovaném stavu a pokud je substrát stále horký, překrývá • 9 • 9 ·· > .9 9 » 9 9 .
999 999 modifikovanou vrstvou povlaku z oxidu cínu/antimonu, čímž se zachová tento podklad v neúplně oxidovaném stavu. Doba, během které se skleněný substrát s čerstvým podkladem může vystavit oxidační atmosféře, jako je například vzduch, aniž by se poškodily vlastnosti podkladu, než se podklad překryje, bude záviset na teplotě skla během takového vystavení a na povaze podkladu.
Komora pro vytváření podkladu je výhodně obklopena redukující atmosférou. Tato skutečnost napomáhá bránit okolnímu kyslíku vniknout do komory a tedy umožňuje lepší kontrolu oxidačních podmínek. Kyslík potřebný pro reakci s podkladem nemusí být čistý kyslík a může se tedy dodávat z kontrolovaného zdroje vzduchu.
Zasklívací panely obsahující povlečený substrát podle vynálezu se mohou vyrábět následujícím způsobem. Každý krok pyrolytického povlékání se může provádět při teplotě alespoň 400 °C, ideálně při teplotě v rozmezí od 550 °C do 750 °C. Povlak se může vytvářet na skleněné tabuli, která se pohybuje v tunelové peci nebo na pásu skla během jeho tvorby, dokud jsou ještě horké. Povlak se může vytvářet uvnitř chladicí tunelové pece, která následuje za zařízením na vytváření skleněného pásu, nebo uvnitř plavící nádrže na horní straně skleněného pásu, zatímco tento plave na lázni roztaveného cínu.
Příklady provedení vynálezu
Vynález bude v dalším popsán podrobněji s pomocí přiložených příkladů, které jsou pouze ilustrativní, přičemž nijak neomezují rozsah tohoto vynálezu.
« · · » · 9
9 9 · 9 9 « 9 · · « «· · ····· *· · · · · · ······
9 9 9 9 9
9999 9 9999999 99 99
V těchto příkladech byl molární poměr Sb/Sn ve vrstvě povlaku stanoven metodou rentgenové analýzy, kdy se porovnává počet rentgenových impulsů dotyčných prvků. Tato metoda není sice tak přesná, jako kdyby se provedla kalibrace chemickým dávkováním, ale podobnost antimonu a cínu znamená, že mají podobnou odezvu na rentgenové paprsky. Poměr naměřeného počtu pozorovaných impulsů dotyčných prvků tedy poskytuje těsné přiblížení k jejich molárnímu poměru.
Zkratky v nadpisech doprovodných tabulek (TL, TE, atd.) maj í význam popsaný výše.
Příklady 1 až 13
Povlak se nanášel na sodno-vápenaté plavené sklo o tloušťce 6 milimetrů v povlékací stanici umístěné v poloze v plavící komoře, kde sklo mělo teplotu nad 550 °C. Roztok směsi reagujících složek obsahující monobutyltrichlorcín (MBTC), Cl-£ ySb(OCH2CH3) 1 3, prekurzor chrómu a 4 % hmotnostní stabilizátoru methylisobutylketonu C^HpCOCHg, se nastřikoval na sklo pomocí stříkací pistole s vratným pohybem, čímž bylo dosaženo vytvoření povlaku obsahujícího oxidovanou směs cínu, antimonu a chrómu. Podíly Sn, Sb a Cr v roztoku činily případně 37,35 %, 0,783 % a 0,5 % hmotnostních, tj. poměr Sb/Sn v roztoku byl 0,02. V dále uvedené tabulce 1 je uvedena tloušťka výsledného povlečeného substrátu a poměr Sb/Sn v ní spolu s odrazivost! a dalšími optickými vlastnostmi.
V dalších příkladech se postupovalo stejně jako podle příkladu 1, avšak s určitými rozdíly ve volbě přísad a jejich poměru ve směsi reagujících složek, jak je uvedeno ···»«· ♦ «· · · · · * · · · 4 ♦ · · · · · • * 9 · · · · · ♦ * 4 * <·4·4··4 • · «4 W *
4·· · ······· Μ «« v tabulce 2 níže. Poměry příslušných přísad byly uvedeny v procentech hmotnostních z celé směsi.
V této souvislosti je třeba si uvědomit, že porovnávání příslušných hodnot odrazivosti mezi různým příklady se může provádět jen pro podobné tloušťky a poměry Sb/Sn, protože tyto parametry mají velký význam pro hodnoty odrazivosti. Například dva povlaky se stejným složením budou vykazovat rozdíly v odrazivosti jako funkci jejich tloušťky.
Příklad 1 až 4 ukazují, že chrom jako přísada poskytuje povlak s nízkým zákalem a se zvýšenou odrazivosti. Zákal je někdy přítomen, ale je velmi nízký, pokud se mezi sklo a povlak uložil podklad z SÍO2 (viz příklad 4).
Příklady s Fe a příklady s Mg jako přísadami vykazují vysoké hodnoty odrazivosti.
<* *
• ΦΦΦ • · · · · φ » · · « φ φ « φ φ φ φ « φ φφφ φφφ • φ φ φφφ» φφ φφ
TABULKA 1
Příklad | Prvek přísady | Přísada / v roztoku (%) | TL (%) | RL (%) | TE (%) | FS (%) |
1 | Cr | 0,5 | 69 | 15,7 | 58 | 65 |
2 | Cr | 1 | 67 | 16,5 | 61 | 67 |
3 | Cr | 2 | 61 | 16 | 60 | 66 |
4 | Cr | 1 | 53 | 17 | 43 | 54 |
5 | Fe | 0,5 | 69 | 17 | 62 | 68 |
6 | Fe | 1 | 53 | 11 | 42 | 54 |
7 | Fe | 2,4 | 62 | 10 | 58 | 64 |
8 | Mg | 0,5 | 69 | 14 | 59 | 67 |
9 | Zn | 1 | 53 | 15 | 46 | 57 |
10 | AI | 0,9 | 55 | 14 | 48 | 58 |
11 | Co | 3,55 | 48 | 14 | 40 | 52 |
12 | Mn | 0,5 | 46 | 10 | 37 | 51 |
13 | Ni | 0,35* | 39 | 10 | 36 | 49 |
14 | V | 5 | 49 | 11 | 41 | 53 |
15 | Zr | 2 | 44 | 11 | 32 | 47 |
16 | Zr | 2 | 44 | 11 | 32 | 47 |
Porov. 1 | pouze | Sb 0,07 | 34 | 10 | 32 | 46 |
Porov. 2 | pouze | Sb 0,02 | 71 | . 12 | 57 | 65 |
Porov. 3 | pouze | Sb 0,04 | 41 | 12 | 32 | 47 |
Roztok dále obsahoval 0,1% Ti ke zlepšení stability sloučeniny niklu • · · · » · • · · ·♦>· « · · « » ♦ · V « 9 · · < « « 9 ···«···« «I · · · · * » » · » ··«·«·· · · «·
TABULKA (pokračování)
Příklad | TL/FS | TL/TE | Zákal (zákal s podkladem) | Tlouštka (nm) | [Sb]/[Sn] |
1 | 1,06 | 1,19 | 1,5 | 368 | 0,05 |
2 | 1,00 | 1,10 | 3 | 364 | 0,05 |
3 | 0.92 | 1,02 | 1 | 319 | 0.06 |
4 | 0,98 | 1,23 | 1,6 (0,26 | ) 392 | 0,12 |
5 | 1,01 | 1,11 | 1,5 | 310 | 0,17 |
6 | 0,98 | 1,26 | 1,5 | 345 | 0.17 |
7 | 0,97 | 1,07 | 6,7 | 331 | 0,21 |
8 | 1,03 | 1,17 | 3,5 | 337 | 0,09 |
9 | 0,93 | 1,15 | 1,3 | 307 | 0,09 |
10 | 0,95 | 1,15 | 1,2 | 323 | 0,22 |
11 | 0,92 | 1,20 | 6,4(1,27) | 307 | 0,24 |
12 | 0,90 | 1,24 | 1,6 | 331 | 0,17 |
13 | 0,80 | 1,08 | 0,47 | 241 | 0,20 |
14 | 0,92 | 1,20 | 0,68 | 329 | 0,24 |
15 | 1,05 | 1,32 | 6,5 | 389 | 0,06 |
16 | 0,94 | 1,38 | 20,5(12,4 | ) 573 | 0,06 |
Porov. 1 | L 0,74 | 1,06 | 0,54 | 337 | 0,21 |
Porov. Z | l 1,09 | 1,25 | 0,4 | 264 | 0,06 |
Porov. 2 | J 0,87 | 1,28 | 0,78 | 350 | 0,11 |
TL - propustnost světla RL - odrazivost světla TE - podíl propouštěné energie FS - solární faktor • 4 4 44 44
4 44 4 « 4 4 4 4 • · «44444*4 • 4 4 4
4444449 4 4 44
TABULKA 2
Příklad | Obsah kovu | Obsah Sn (% hmot.) | Obsah Sb (% hmot.) | Sb/Sn |
1 | 0,5% Cr | 37,35 | 0,747 | 0,02 |
2 | 1,0% Cr | 35,55 | 0,711 | 0,02 |
3 | 2,0% Cr | 32 | 0,640 | 0,02 |
4 | 1,0% Cr | 35,58 | 1,423 | 0,04 |
5 | 0,5% Fe | 36,23 | 2,53 | 0,07 |
6 | 1,0% Fe | 34,57 | 2,42 | 0,07 |
7 | 2,4% Fe | 31,14 | 2,18 | 0,07 |
8 | 0,5% Mg | 35,31 | 2,47 | 0,07 |
9 | 1,0% Zn | 35,69 | 2,50 | 0,07 |
10 | 0,90% AI | 32,29 | 2,26 | 0,07 |
11 | 2,55% Co | 31,14 | 2,18 | 0,07 |
12 | 0,5% Mn | 36,06 | 2,52 | 0,07 |
13 | 0,35% Ni | 36,60 | 2,56 | 0,07 |
·· ·· * · <
• · 4 4 «·4 4 4 4
Příklad 14
Roztok směsi reagujících složek, obsahující monobutyltrichlorcín (MBTC) SbCl^ a prekurzor vanadu (triacetylacetonát vanadu) a 4 % hmotnostní stabilizátoru (methylisobutylketonu C4H9COCH3) se nastřikoval na sklo stříkací hlavou s vratným pohybem, aby se vytvořil povlak tvořený oxidovanou směsí cínu, antimonu a vanadu. Poměr Sb/Sn v roztoku byl 0,07. Hodnota odrazivosti byla u tohoto příkladu nízká.
Příklady 15 a 16
V těchto příkladech se postupovalo stejným způsobem jako podle příkladu 1, avšak s odchylkami ve volbě přísady a jejího podílu ve směsi reagujících složek. Přísadou bylo zirkonium.
Produkty podle těchto příkladů vykázaly dobrou odrazivost, ale vysoký zákal i při použití podkladové vrstvy.
Příklady 17 až 27
Na čiré sodno-vápenaté sklo o tloušťce 6 milimetrů se nanášel podklad v povlékací stanici umístěné v plavící komoře, kde sklo mělo teplotu nad 550 °C. Roztok obsahující 220 gramů/litr acetylacetonátu hlinitého a 12 gramů/litr triacetylacetonátu vanadu v ledové kyselině octové se nastřikoval na sklo stříkací hlavou s vratným pohybem, přičemž účelem bylo vytvoření podkladu o tloušťce asi 80 nm, který obsahoval oxidovanou směs hliníku a vanadu.
• · · · 9 • · · * ·
Skleněný substrát s podkladovou vrstvou přecházel do druhé povlékací stanice, kde se stříkací hlavou s vratným pohybem nastřikoval roztok směsí reagujících složek, obsahující monobutyltrichlorcín (MBTC),
Cl-£ ySb (OCH2CH3) 3 a prekurzor přísady, aby se vytvořil povlak, tvořený oxidovanou směsí cínu, antimonu a hliníku. Podíly přísady a poměr Sb/Sn v roztoku jsou uvedeny v následující tabulce č. 3, která rovněž ukazuje tloušťku výsledného povlečeného substrátu a poměr Sb/Sn v něm, spolu s jeho odrazivost! a dalšími optickými vlastnostmi.
Příklady 28 až 33
Povlečené skleněné substráty, připravené stejným způsobem jako v příkladech 17 a 18, se zpracovaly na dvojité zasklívací panely obsahující povlečený substrát a podobnou tabuli sodno-vápenatého skla, avšak nepovlečeného.
Odrazivost a další optické vlastnosti takto vyrobených panelů jsou uvedeny v následující tabulce č. 4. Umístění povlaku je označeno znaky PÍ, P2 a P3, kde PÍ značí venkovní povrch vnější tabule, P2 představuje vnitřní povrch vnější tabule a P3 představuje venkovní povrch vnitřní tabule. Výsledky příkladů 17 a 18 (s jednoduchou tabulí) se opakují v tabulce 3 pro snadnější porovnání s panely s dvojitým zasklením.
9· ·♦ ► · · 9 » »9 9
999 999
TABULKA 3
Příklad Přísada Přísada | Sb/Sn v | TL | lambda^ |
v roztoku | roztoku | (%) | (nm) |
(%) |
17 | Cr | 0,5 | 0,02 | 75,9 | 552 |
18 | Cr | 0,5 | 0,04 | 61,7 | 488 |
19 | Cr | 0,5 | 0,04 | 65 | 486 |
20 | Cr | 2 | 0,07 | 70 | 571 |
21 | Mg | 0,5 | 0,07 | 74,3 | 569 |
22 | Fe | 0,5 | 0,07 | 68,8 | 568 |
23 | Fe | 2,4 | 0,07 | 74,5 | 571 |
24 | Fe | 1 | 0,07 | 64,4 | 543 |
25 | Al | 0,9 | 0,07 | 66,6 | 570 |
26 | Zn | 1 | 0,07 | 67,7 | 556 |
27 | Mn | 0,5 | 0,07 | 51,9 | 484 |
rov. | pouze Sb | 0 | 0,07 | 29,6 | 476 |
TABULKA (pokračování) • · 4 • 4 ♦ ♦ « • · »··· * • ·· *· 4» *·* » 4 4 4 9 • · · · · <
* · · 44444« • ♦ 4 4 ····»·· 4 4 ·«
Příklad Čistota | RL | lambda^ | Čistota | TE | FS |
(TL) | (CS) | (nm) | (RL) | (%) | (%) |
(%) | (%) | (%) |
17 | 1,6 | 13 | 600 | 2,6 | 64,8 | 71,2 |
18 | 2,3 | 13,1 | 576 | 10 | 53,2 | 62,1 |
19 | 2,7 | 13,7 | 565 | 5,4 | 55,6 | 64,6 |
20 | 8,8 | 11,1 | -566 | 15,7 | 61,6 | 68,7 |
21 | 2,5 | 14,1 | 574 | 7,4 | 67,4 | 73 |
22 | 8,8 | 14,3 | -544 | 12,3 | 61,1 | 68,3 |
23 | 11,3 | 12,9 | -567 | 18,5 | 66,6 | 71,9 |
24 | 2 | 11,9 | -531 | 9,5 | 53,1 | 62,6 |
25 | 6,8 | 11,1 | -567 | 12,9 | 60 | 67,6 |
26 | 3,4 | 12,7 | -555 | 12,3 | 57,2 | 65,5 |
27 | 6 | 10,1 | -552 | 5,1 | 41,1 | 54,2 |
rov. | 11,9 | 9,6 | -500 | 4 | 32,5 | 47,9 |
• ·
TABULKA (pokračování)
44 • 4 4 4 4 4
4 4 4 4 • · 444 444
4 4
4444 44 44
Příklad | TL/TE | TL/FS | Zákal (%) | Sb/Sn | Tlouštka (nm) |
17 | 1,17 | 1,07 | 0,29 | 0,06 | 240 |
18 | 1,16 | 0,99 | 0,18 | 0,15 | 220 |
19 | 1,17 | 1,01 | 0,2 | 0,13 | 190 |
20 | 1,14 | 1,02 | 1,47 | 0,15 | 240 |
21 | 1,10 | 1,02 | 1,04 | 0,10 | 220 |
22 | 1,13 | 1,01 | 1,87 | 0,20 | 320 |
23 | 1,12 | 1,04 | 0,59 | 0,23 | 240 |
24 | 1,21 | 1,03 | 0,73 | 0,23 | 240 |
25 | 1,11 | 0,99 | 0,31 | 0,32 | 220 |
26 | 1,18 | 1,03 | 1,38 | 0,24 | 250 |
27 | 1,26 | 0,96 | 1,13 | 0,17 | 340 |
Porov. | 0,91 | 0,62 | 0,55 | 0,24 | 240 |
• · * ·
99 99
9 9 9 9 9
9 9 9 9 · 999 999 • ·· · · ·
TABULKA 4
Příklad | Poloha | TL (%) | lambda^ (nm) | Čistota (TL) | RL (CS) |
17 | monolit. | 75,9 | 552 | 1,6 | 13 |
28 | PÍ | 69,6 | 552 | 1,9 | 17,8 |
29 | P2 | 69,6 | 551 | 1,8 | 17,1 |
30 | P3 | 69,6 | 551 | 1,8 | 18,6 |
18 | monolit. | 61,7 | 488 | 2,3 | 13,1 |
31 | PÍ | 56,5 | 490 | 2,3 | 16,3 |
32 | P2 | 56,7 | 490 | 2,2 | 14,1 |
33 | P3 | 56,7 | 490 | 2,2 | 18,7 |
Příklad | lambda^ (nm) | Čistota (RL) (%) | TE (%) | FS (%) | TL/TE |
17 | 600 | 2,6 | 64,8 | 71,2 | 1,17 |
28 | 584 | 2,4 | 58,1 | 63,6 | 1,20 |
29 | 575 | 7,1 | 58,1 | 63,8 | 1,20 |
30 | 585 | 1,3 | 58,1 | 70,7 | 1,20 |
18 | 576 | 10 | 53,2 | 62,1 | 1,16 |
31 | 575 | 6,9 | 47,7 | 54,2 | 1,18 |
32 | 558 | 6,7 | 47,8 | 54,4 | 1,19 |
33 | 573 | 5,4 | 47,8 | 67,3 | 1,19 |
• · ··»»
99 99 • · · 9999 9999
9 9 9 9 9 9 9 ••99 9 9 999 999
9 · 9 9 9
9999 9 9999999 99 99
TABULKA (pokračování)
Příklad | TL/FS | Zákal (%) | Sb/Sn | Tloušťka (nm) |
17 | 1,07 | 0,29 | 0,06 | 240 |
28 | 1,09 | |||
29 | 1,09 | |||
30 | 0,98 | |||
18 | 0,99 | 0,18 | 0,15 | 220 |
31 | 1,04 | |||
32 | 1,04 | |||
33 | 0,84 |
CS - povlečená strana
TL - propustnost světla RL - odrazivost světla TE - podíl propouštěné energie FS - solární faktor
Claims (36)
- PATENTOVÉNÁROKY1. Povlečený transparentní substrát nesoucí pyrolyticky vytvořenou vrstvu povlaku obsahující oxidy cínu a antimonu v molárním poměru Sb/Sn od 0,01 do 0,5, vyznačující se tím, že tato vrstva povlaku dále obsahuje přísadu obsahující jeden prvek nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, mangan, hořčík, nikl, vanad, zinek a zirkonium, přičemž je prostá fluoru, a takto povlečený substrát má odrazivost (RL) alespoň 10 %.
- 2. Povlečený transparentní substrát podle nároku 1, vyznačující se tím, že molární poměr Sb/Sn v uvedené vrstvě povlaku je v rozmezí od 0,03 do 0,21.
- 3. Povlečený transparentní substrát podle nároku 2, vyznačující se tím, že molární poměr Sb/Sn je v rozmezí od 0,03 do 0,16.
- 4. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že přísada je zvolena ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, mangan, hořčík, nikl, vanad a zinek.
- 5. Povlečený transparentní substrát podle některého z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že přísada je zvolena ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, hořčík a zinek.
- 6. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že přísada je ·♦·· • ···· zvolena ze skupiny zahrnující chrom, železo a hořčík.
- 7. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že odrazivost (RL) je nejméně 13 %.
- 8. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že uvedená vrstva povlaku má tloušťku od 100 do 500 nm.
- 9. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že zdroj cínu pro uvedenou vrstvu povlaku se volí ze skupiny zahrnující SnCl^ a monobutyltrichlorcínu (MBTC).
- 10. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že zdroj antimonu pro uvedenou vrstvu povlaku se volí ze skupiny zahrnující SbCl^, SbCl3 , organickou sloučeninou antimonu, jako je například Sb(OCH2CH3)3, C11 ?Sb(OCH2CH3)χ 3, Cl2SbOCHCÍCH3, Cl2SbOCH2CHCH3Cl a Cl2SbOCH2C(CH3)2C1.
- 11. Povlečený transparentní substrát podle některého předchozích nároků, vyznačující se tím, že zdroj přísady pro uvedenou vrstvu povlaku se volí z chloridů nebo organokovových sloučenin dotyčného prvku.
- 12. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že dále obsahuje podkladovou vrstvu, uloženou mezi substrát a uvedenou vrstvu povlaku.
- 13. Povlečený transparentní substrát podle nároku 9, • * · 9 » · • 9O Q · · 9 9 9- Zo ~ 999· • ••9 9 »9 · 9· · · vyznačující se tím, že podkladová vrstva obsahuje oxid hlinitý a malý podíl oxidu vanadu.
- 14. Povlečený transparentní substrát podle nároku 13, vyznačující se tím, že geometrická tloušťka podkladové vrstvy leží mezi 40 a 100 nm.
- 15. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků 12 až 14, vyznačující se tím, že podkladová vrstva dodává povlaku neutrálnější odstín v odrazu.
- 16. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že solární faktor (FS) činí nejvýše 70 %, výhodně nejvýše 65 %.
- 17. Povlečený transparentní substrát podle některého z předchozích nároků, vyznačující se tím, že má propustnost světla (TL) mezi 35 a 76 %.
- 18. Zasklívací panel, vyznačující se tím, že obsahuje povlečený transparentní substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků.
- 19. Zasklívací panel podle nároku 18, vyznačující se tím, že obsahuje dvě nebo více tabulí substrátu, z nichž jedna je povlečeným průhledným substrátem podle kteréhokoliv nároku 1 až 17.
- 20. Zasklívací panel podle nároku 18 nebo 19, vyznačující se tím, že se použije jako zasklívací panel budovy.φ » φ · · φ • φφφ φ φφφ φφφ φ φ φφ φφ
- 21. Zasklívací panel podle nároku 18 nebo 19, vyznačující se tím, že se použije jako okno vozidla.
- 22. Zasklívací panel podle některého z nároků 18 až 21, vyznačující se tím, že povlak podle vynálezu je umístěn čelem k vnějšku budovy nebo vozidla.
- 23. Zasklívací panel podle nároku 19, vyznačující se tím, že povlak podle vynálezu je umístěn na vnější straně vnější tabule.
- 24. Způsob výroby transparentního povlečeného substrátu, zahrnující pyrolytické nanášení vrstvy povlaku, obsahující oxid cínu a antimonu s molárním poměrem Sb/Sn v rozmezí od 0,01 do 0,5 ze směsi reagujících složek, kde uvedená směs reagujících složek obsahuje zdroj cínu a zdroj antimonu, vyznačující se tím, že směs reagujících složek dále obsahuje přísadu obsahující jeden kovem nebo více prvků ze skupiny zahrnující hliník, chrom, kobalt, železo, mangan, hořčík, nikl, vanad zinek a zirkonium, přičemž je prostá fluoru, a takto povlečený substrát má odrazivost (RL) alespoň 10 %.
- 25. Způsob podle nároku 24, vyznačující se tím, že vrstva povlaku se nanáší v jednom kroku pyrolytického nanášení nebo ve více krocích při teplotě alespoň 400 °C.
- 26. Způsob podle nároku 25, vyznačující se tím, že teplota je v rozmezí 550 °C až 750 °C.
- 27. Způsob podle nároku 25 nebo 26, vyznačující se tím, že se vrstva povlaku vytváří na tabuli skla v tunelové peci nebo na pásu skla během výroby, kdy jsou ještě horké.• · · · · · • · • ·· ·
- 28. Způsob podle některého z nároků 24 až 27, vyznačující se tím, že zdroj cínu se volí ze skupiny zahrnující SnCl^ a monobutytrichlorcínu, (MBTC) nebo se použijí obě tyto látky.
- 29. Způsob podle některého z nároků 24 až 28, vyznačující se tím, že zdroj antimonu se volí z jedné sloučeniny nebo z více sloučenin ze skupiny zahrnující SbCl^, SbCl3, organické sloučeniny antimonu, jako jsouCl2SbOCH2CHCH3Cl a Cl2SbOCH2C(CH3)2C1.
- 30. Způsob podle některého z nároků 24 až 29, vyznačující se tím, že zdroj cínu, antimonu a přísady se smísí do jediné směsi reagujících látek, aby se na substrát nanesly současně.
- 31. Způsob podle nároku 30, vyznačující se tím, že uvedená směs se na substrát nanáší ukládáním z chemických par (CVD).
- 32. Způsob podle nároku 30, vyznačující se tím, že uvedená směs se na substrát nanáší jako sprcha kapaliny.
- 33. Způsob podle některého z nároků 24 až 32, vyznačující se tím, že se mezi substrátem a uvedenou vrstvou povlaku vytvoří podkladová vrstva.
- 34. Způsob podle nároku 33, vyznačující se tím, že se vrstva podkladu vytváří pyrolyticky v neúplně oxidovaném stavu kontaktováním substrátu s materiálem prekurzoru podkladové vrstvy v podkladové komoře v přítomnosti kyslíku ···· • · • · • · ···· · v množství nedostatečném pro plnou oxidaci materiálu podkladu na substrátu.
- 35. Způsob podle nároku 33, vyznačující se tím, že podkladovou vrstvou je oxid hlinitý s malým podílem oxidu vanadu.
- 36. Způsob podle některého z nároků 33 až 35, vyznačující se tím, že geometrická tloušťka podkladu je mezi 40 a 100 nm.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9806030.4A GB9806030D0 (en) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | Solar control coated substrate with high reflectance |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ411499A3 true CZ411499A3 (cs) | 2000-07-12 |
CZ299250B6 CZ299250B6 (cs) | 2008-05-28 |
Family
ID=10828980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ0411499A CZ299250B6 (cs) | 1998-03-20 | 1999-03-17 | Povlecený substrát s vysokou odrazivostí pro kontrolu slunecního zárení, zpusob jeho výroby a výrobky získané tímto zpusobem |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6387514B1 (cs) |
EP (1) | EP0986521B1 (cs) |
JP (1) | JP2002509515A (cs) |
CN (1) | CN1128770C (cs) |
AT (1) | ATE212606T1 (cs) |
AU (1) | AU738600B2 (cs) |
BR (1) | BR9906333A (cs) |
CA (1) | CA2290609C (cs) |
CZ (1) | CZ299250B6 (cs) |
DE (1) | DE69900835T2 (cs) |
ES (1) | ES2172309T3 (cs) |
GB (1) | GB9806030D0 (cs) |
HU (1) | HU224059B1 (cs) |
ID (1) | ID24273A (cs) |
PL (1) | PL191130B1 (cs) |
RU (1) | RU2248945C2 (cs) |
TR (1) | TR199902861T1 (cs) |
WO (1) | WO1999048827A1 (cs) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020155299A1 (en) * | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
US7508567B1 (en) | 2008-01-08 | 2009-03-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Metal etalon with enhancing stack |
CN102060447B (zh) * | 2010-11-26 | 2012-07-04 | 武汉理工大学 | 具有防止静电和截止紫外线双功能的透明镀膜玻璃及其制备方法 |
CN102127326B (zh) * | 2010-12-28 | 2012-10-31 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种二氧化钒基复合镀膜液和复合薄膜及其制备方法和应用 |
KR102235595B1 (ko) * | 2013-07-08 | 2021-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 주석 산화물 반도체용 조성물 및 주석 산화물 반도체 박막의 형성 방법 |
WO2016132131A1 (en) * | 2015-02-19 | 2016-08-25 | Pilkington Group Limited | A chemical vapour deposition process for depositing an iron doped tin oxide coating and a coated glass article formed thereby |
CN112337767A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-09 | 南京航空航天大学 | 一种太阳能吸光涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT996924B (it) * | 1972-12-21 | 1975-12-10 | Glaverbel | Procedimento per formare uno strato di ossido metallico |
GB8630791D0 (en) * | 1986-12-23 | 1987-02-04 | Glaverbel | Coating glass |
GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
GB9019117D0 (en) * | 1990-09-01 | 1990-10-17 | Glaverbel | Coated glass and method of manufacturing same |
US5721054A (en) * | 1994-04-27 | 1998-02-24 | Glaverbel | Glazing panel and process for forming the same |
GB2302101B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties |
GB2302102B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
MY129739A (en) * | 1996-01-09 | 2007-04-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Coated glass for buildings |
US6124026A (en) * | 1997-07-07 | 2000-09-26 | Libbey-Owens-Ford Co. | Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article |
-
1998
- 1998-03-20 GB GBGB9806030.4A patent/GB9806030D0/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-03-17 CN CN99800508A patent/CN1128770C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-17 ID IDW991408A patent/ID24273A/id unknown
- 1999-03-17 CA CA002290609A patent/CA2290609C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-17 BR BR9906333-6A patent/BR9906333A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-03-17 PL PL336930A patent/PL191130B1/pl unknown
- 1999-03-17 CZ CZ0411499A patent/CZ299250B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 ES ES99910041T patent/ES2172309T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-17 AT AT99910041T patent/ATE212606T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 US US09/424,291 patent/US6387514B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-17 DE DE69900835T patent/DE69900835T2/de not_active Revoked
- 1999-03-17 RU RU99126756/03A patent/RU2248945C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 HU HU0003182A patent/HU224059B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 EP EP99910041A patent/EP0986521B1/en not_active Revoked
- 1999-03-17 AU AU29165/99A patent/AU738600B2/en not_active Ceased
- 1999-03-17 TR TR1999/02861T patent/TR199902861T1/xx unknown
- 1999-03-17 JP JP54750299A patent/JP2002509515A/ja active Pending
- 1999-03-17 WO PCT/BE1999/000035 patent/WO1999048827A1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0986521A1 (en) | 2000-03-22 |
CA2290609C (en) | 2007-03-06 |
ATE212606T1 (de) | 2002-02-15 |
HUP0003182A3 (en) | 2001-05-28 |
TR199902861T1 (xx) | 2000-06-21 |
DE69900835D1 (de) | 2002-03-14 |
AU2916599A (en) | 1999-10-18 |
DE69900835T2 (de) | 2002-09-12 |
BR9906333A (pt) | 2002-01-02 |
PL191130B1 (pl) | 2006-03-31 |
CZ299250B6 (cs) | 2008-05-28 |
CA2290609A1 (en) | 1999-09-30 |
HUP0003182A2 (hu) | 2001-01-29 |
RU2248945C2 (ru) | 2005-03-27 |
EP0986521B1 (en) | 2002-01-30 |
CN1128770C (zh) | 2003-11-26 |
ES2172309T3 (es) | 2002-09-16 |
HU224059B1 (hu) | 2005-05-30 |
PL336930A1 (en) | 2000-07-17 |
JP2002509515A (ja) | 2002-03-26 |
ID24273A (id) | 2000-07-13 |
AU738600B2 (en) | 2001-09-20 |
US6387514B1 (en) | 2002-05-14 |
CN1263513A (zh) | 2000-08-16 |
GB9806030D0 (en) | 1998-05-20 |
WO1999048827A1 (en) | 1999-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7803463B2 (en) | Glazing panel having solar screening properties | |
USRE40315E1 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
US6881505B2 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
GB2302102A (en) | Glazing panel having solar screening properties | |
CA2178033C (en) | Glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel | |
CZ411499A3 (cs) | Povlečený substrát s vysokou odrazivostí pro kontrolu slunečního záření, způsob jeho výroby a výrobky získané tímto způsobem | |
US5721054A (en) | Glazing panel and process for forming the same | |
US7776460B2 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
IL113470A (en) | Glazed board and method of manufacture | |
MXPA99010635A (en) | Solar control coated substrate with high reflectance | |
CA2607846A1 (en) | Glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 19990317 |