HU224059B1 - Napfényszabályozó bevonattal ellátott, nagy reflexiós tényezőjű szubsztrátumok, eljárás előállításukra és alkalmazásuk - Google Patents
Napfényszabályozó bevonattal ellátott, nagy reflexiós tényezőjű szubsztrátumok, eljárás előállításukra és alkalmazásuk Download PDFInfo
- Publication number
- HU224059B1 HU224059B1 HU0003182A HUP0003182A HU224059B1 HU 224059 B1 HU224059 B1 HU 224059B1 HU 0003182 A HU0003182 A HU 0003182A HU P0003182 A HUP0003182 A HU P0003182A HU 224059 B1 HU224059 B1 HU 224059B1
- Authority
- HU
- Hungary
- Prior art keywords
- transparent substrate
- coating layer
- coating
- coated transparent
- antimony
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 44
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 12
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 9
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 95
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 71
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 7
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 claims description 5
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical group O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 claims description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 claims description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 claims description 2
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical group Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical group Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 abstract description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 5
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 Sb 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium(II) oxide Chemical compound [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000441 X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- DUSYNUCUMASASA-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);vanadium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[V+4] DUSYNUCUMASASA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 1
- 210000002435 tendon Anatomy 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/244—Doped oxides with Sb
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
A találmány olyan átlátszó szubsztrátumra vonatkozik, amely egypirolitikusan kialakított, ón- és antimon-oxidot 0,01– 0,5 Sb/Snmólarányban tartalmazó bevonóréteget hordoz, és amelyre az jellemző,hogy a bevonóréteg az alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium,nikkel, vanádium, cink és cirkónium közül kiválasztott egy vagy többtovábbi adalékot tartalmaz és fluortól mentes, miáltal az ilyenbevonatú szubsztrátum fényvisszaverése (RL) legalább 10%. A találmánykiterjed a fenti, bevonattal ellátott, átlátszó szubsztrátumelőállítási eljárására is, amelynek során egy reaktánskeverékből aszubsztrátumra pirolitikusan egy ón-oxidot és antimont 0,01–0,5 Sb/Snmólarányban tartalmazó bevonóréteget választanak le, ahol areaktánskeverék egy ónforrásból és egy antimonforrásból áll, és amelyeljárásra az jellemző, hogy a reaktánskeverék az alumínium, króm,kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium, cink és cirkóniumközül kiválasztott egy vagy több további adalékot tartalmaz ésfluortól mentes.
Description
A találmány napfényszabályozó bevonattal ellátott, nagy reflexiós tényezőjű szubsztrátumokra és az ilyen bevonatú szubsztrátumok előállítási eljárására vonatkozik.
Az átlátszó napfényszabályozó paneleknek az épületek külső üvegezésére történő felhasználása iránti igény jelentősen megnőtt. Az esztétikus megjelenésen túl az ilyen panelek további előnyei közé tartozik, hogy védelmet nyújtanak a napsugárzás ellen és fényvisszaverő hatással rendelkeznek. Ezáltal túlmelegedéssel és vakító fénnyel szembeni védőfalat biztosítanak az épületben tartózkodók számára.
A panelek legalább egy, átlátszó szubsztrátumanyagú, jellegzetesen nátronmészüvegü olyan lapból állnak, amely egy, a kívánt specifikus tulajdonságokat biztosító bevonatot hordoz. A napfényszabályozással kapcsolatos követelmény lényege az, hogy a panel ne engedje át a teljes beeső napsugárzás túl nagy részét, megakadályozva ezáltal az épület belsejének túlmelegedését. A teljes beeső napsugárzás átbocsátását (transzmisszióját) a „szoláris faktor (FS)” definícióval fejezzük ki. A jelen leírásban alkalmazott „szoláris faktor” kifejezés a bevont szubsztrátumra beeső teljes sugárzási energia részeként a közvetlenül átbocsátott teljes energiának és annak az energiának az összegét jelenti, amely az energiaforrástól távoli oldalon abszorbeálódik és verődik vissza.
Jóllehet az építészek az épületekben történő felhasználásra szolgáló üvegezőpanelek keresése közben tradicionálisan a kismértékben visszatükröző paneleket részesítették előnyben, az esztétikai megjelenésről alkotott vélemények változása következtében fokozottan növekszik az igény az olyan panelek iránt, amelyek jelentős mértékben visszatükrözik a fényt, ugyanakkor megtartják kis értékű szoláris faktorukat.
A jelen leírásban tárgyalt bevont szubsztrátumok jellemzőit a Comission Internationale de l’Eclairage („CEI”; International Commision on lllumination) standard definíciói alapján értékeljük.
A „fényáteresztés” („luminous transmittance”, TL) a beeső fényáram százalékos értékeként kifejezve azt a fényáramot jelenti, amely áthaladt egy szubsztrátumon.
A „fényvisszaverődés” („luminous reflectance”, RL) a beeső fényáram százalékos értékeként kifejezve azt a fényáramot jelenti, amely visszaverődött egy szubsztrátumról.
Egy épületek üvegezőpaneljében történő felhasználásra szolgáló bevont szubsztrátum esetén a „szelektivitás” a fényáteresztésnek a szoláris faktorra vonatkoztatott arányát (TL/FS) jelenti.
A szubsztrátum színének a „tisztasága” („purity”, p) a transzmisszióban vagy a reflexióban a „C” szabványos színmérő fényforrással mért színtartalmat jelöli. Ennek értékét egy olyan lineáris skálára vonatkoztatva adjuk meg, amelyen egy meghatározott fehér fényforrás 0 (nulla) tisztasággal, a tiszta szín pedig 100%-os tisztasággal rendelkezik. A „C” szabványos színmérő fényforrás a 6700 K színhőmérsékletű átlagos napfényt reprezentálja.
A „törésmutató” vagy „törési index” („refractive index”, n) jelentése a következő helyen meghatározott: CIE International Lighting Vocabulary, 138. oldal (1987).
A „jellemző hullámhossz” vagy „domináns hullámhossz” („dominant wavelength, λ0) kifejezés a bevont szubsztrátum által áteresztett vagy visszavert tartományban lévő csúcshullámhosszra vonatkozik.
Az üvegszerű szubsztrátumokon lévő bevonatok kialakítására számos módszer ismert. Ilyen - egyebek mellett - például a pirolízis. A pirolízisnek általában az az előnye, hogy kemény bevonatot hoz létre, így eleve szükségtelenné teszi védőréteg kialakítását. A pirolízissel kialakított bevonatok tartós kopásállósággal és korrózióállósággal rendelkeznek. Ez feltételezhetően elsősorban annak az eredménye, hogy az eljárás során a bevonóanyag egy forró szubsztrátumon kerül elhelyezésre. A pirolízis általában olcsóbb is, mint az alternatív bevonási eljárások, amilyen például a katódporlasztás, különösen az üzemi beruházások tekintetében.
Az üvegezőpanelek optikai tulajdonságainak módosítására rendkívül sokféle bevonóanyagot javasoltak. Az ón(IV)-oxidot (SnO2) széles körben alkalmazzák, gyakran más anyagokkal, például egyéb fém-oxidokkal kombinálva.
Az 1 455 148 számú nagy-britanniai szabadalmi leírásunkban eljárást ismertetünk egy vagy több oxid (például ZrO2, SnO2, Sb2O3, TiO2, CO3O4, Cr2O3, SiO2) bevonatának egy szubsztrátumon történő kialakítására, elsődlegesen egy fém vagy szilícium vegyületeinek a porlasztásával, annak érdekében, hogy ily módon megváltoztassuk a szubsztrátum fényáteresztését és/vagy fényvisszaverését. A 2 078 213 számú nagy-britanniai szabadalmi leírásunkban - amelynek tárgya eljárás bevonatok két elkülönített porlasztással (spray) történő pirolitikus előállítására, ahol az eljárás célja a bevonat gyors kialakítása - fluorral és antimonnal adalékolt ón-oxid bevonatokat ismertetünk. A 2 200 139 számú nagy-britanniai szabadalmi leírásunk pirolitikus ónoxid-bevonatoknak olyan prekurzorokból történő kialakítására vonatkozik, amely prekurzorok legalább két adalékot, például oxidálószereket, fluorforrásokat és fémforrásokat tartalmaznak.
A korábbiakban azt találtuk, hogy a kevés antimon-oxidot tartalmazó ón-oxid-bevonatok alkalmazása az optikai tulajdonságok sokféle előnyös kombinációjára nyújt lehetőséget. A 2 302 101 és a 2 302 102 számú nagy-britanniai szabadalmi leírásunkban ón- és antimon-oxidos pirolitikus bevonóréteget tartalmazó antiszoláris üvegezőpaneleket ismertetünk, amelyekben a bevonórétegekben az Sb/Sn mólarány 0,01 és 0,5 közötti értékű. A 2 302 101 számú nagy-britanniai szabadalmi leírás szerinti bevonatot folyadékporlasztással visszük fel, és a bevonat vastagsága legalább 400 nm, fényátbocsátása 35%-nál kisebb, valamint szelektivitása legalább 1,3. A 2 302 102 számú nagy-britanniai szabadalmi leírás szerinti bevonatot gőzfázisből történő kémiai rétegelőállítással (Chemical vapour deposition, CVD) visszük fel, és a bevonat 70%-nál kisebb szoláris faktorral rendelkezik.
HU 224 059 Β1
A találmány egyik célkitűzése napfényvédő tulajdonságokat és nagy visszaverődést nyújtó, pirolitikusan kialakított bevont szubsztrátumokra irányul.
Felismertük, hogy az előbbi cél és egyéb hasznos célkitűzések elérhetők oly módon, hogy egy ón- és antimon-oxidból álló pirolitikus bevonatnak egy szubsztrátumra történő felvitelekor bizonyos meghatározott adalékokat alkalmazunk.
Ennek megfelelően a találmány első tárgya átlátszó szubsztrátum, amely egy pirolitikusan kialakított, ón- és antimon-oxidot 0,01-0,5 Sb/Sn mólarányban tartalmazó bevonóréteget hordoz, és amelyre az jellemző, hogy a bevonóréteg az alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium, cink és cirkónium közül kiválasztott egy vagy több további adalékot tartalmaz és fluortól mentes, miáltal az ilyen bevonatú szubsztrátum fényvisszaverése (RL) legalább 10%.
A találmány további tárgya eljárás bevonattal ellátott, átlátszó szubsztrátum előállítására, amelynek során egy reaktánskeverékből a szubsztrátumon pirolitikusan egy ón-oxidot és antimont 0,01-0,5 Sb/Sn mólarányban tartalmazó bevonóréteget helyezünk el, ahol a reaktánskeverék egy ónforrásból és egy antimonforrásból áll, és amely eljárásra az jellemző, hogy a reaktánskeverék az alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium, cink és cirkónium közül kiválasztott egy vagy több további adalékot tartalmaz és fluortól mentes, miáltal az ilyen bevonatú szubsztrátum fényvisszaverése (RL) legalább 10%.
Azt találtuk, hogy egy ón- és antimon-oxidokból álló és a fentiekben ismertetett egy vagy több adalékkal módosított bevonat (a továbbiakban „módosított ón-oxid/antimon bevonat”) megtartja az adalék nélküli bevonat antiszoláris jellemzőit, ugyanakkor azonban annál lényegesen nagyobb fényvisszaverést mutat.
A találmány szerinti bevont szubsztrátumokat felhasználhatjuk egylapos üvegezőpanelként, vagy alternatív módon többüveges vagy laminált (rétegelt) panelegyüttesekben is alkalmazhatjuk. A többüveges vagy laminált panelegyüttesekben az az előnyös, ha az együttest alkotó lapok közül csak egy hordozza a bevonatot.
Jóllehet a találmány leírása elsődlegesen épületek üvegezőpaneljeire vonatkozik, a találmány szerinti panelek egyéb felhasználásokra, például járművek üvegeiként, különösen járművek napfénytetőiként történő felhasználásra is alkalmasak.
Mivel a pirolízissel előállított bevonatok általában nagyobb mechanikai ellenálló képességgel rendelkeznek, mint az egyéb eljárásokkal előállított bevonatok, a bevonat elhelyezésének megválasztását elsősorban a panel kívánt tulajdonságainak megfelelően végezhetjük, a bevont felület kopással és korrózióval szembeni védelmének szempontja kevésbé lényeges.
A találmány szerinti bevont szubsztrátumlapok előnyösen kis, 70% körüli vagy kisebb, még előnyösebben legfeljebb 65%-os szoláris faktorral rendelkeznek. Többszörös üvegezés esetén a bevonatnak a külső felületen, azaz az energiaforrás irányában történő elhelyezése általában jobb szoláris faktort biztosít, mint amilyen az energiaforrással ellentétes oldalra néző bevonattal érhető el.
A bevonórétegben az Sb/Sn mólarány előnyösen legalább 0,03, legelőnyösebben legalább 0,05. Ez a mólarány elősegíti a nagy abszorpciót. Másrészt a nagy fényáteresztés (TL) szempontjából az említett mólarány előnyösen 0,21-nál kisebb. Legelőnyösebben az említett mólarány 0,16-nál kisebb, mivel ennél nagyobb értéknél a bevonóréteg túlzottan nagy abszorpciót mutat, amihez gyenge szelektivitás társul.
Annak érdekében, hogy az épület vagy a jármű belsejébe megfelelő mennyiségű természetes fény jusson be és kifelé is jó legyen az átláthatóság, kívánatos, hogy az üvegezőpanel a látható fény jelentős részét átengedje. Ennek megfelelően kívánatos, hogy növeljük a bevonat szelektivitását, azaz növeljük a fényáteresztésnek a szoláris faktorra vonatkoztatott arányát. Előnyösen a szelektivitás a lehető legnagyobb. Egy találmány szerinti bevont szubsztrátum fényáteresztése (TL) - az alkalmazott egyedi adaléktól függően - jellegzetesen 35%-tól 76%-ig terjed.
A módosított ón-oxid/antimon bevonat előnyösen 100 nm és 500 nm közötti vastagságú.
Amint azt a technika áldásához tartozó korábbi dokumentumokkal, például a 2 078 213 számú nagy-britannlai szabadalmi leírással kapcsolatban a fentiekben már említettük, az ón-/antimon-oxid bevonatokban javasolt egyik alkotóelem a fluor volt, ahol a bevonatot például ónt, antimont és fluort Sb/Sn=0,028, F/Sn=0,04 arányban tartalmazó reaktánsokból alakították ki. Azonban felismertük, hogy a fluor jelenléte gátolni igyekszik az antimonnak a bevonatba történő beépülését. Például az antimont és ónt Sb/Sn=0,028 arányban tartalmazó reaktánsok egy körülbelül 0,057 Sb/Sn arányú bevonatot eredményeztek, míg ugyanezek a reaktánsok például egy F/Sn=0,04 mennyiségben fluort tartalmazó reaktánssal kiegészítve egy körülbelül 0,038 Sb/Sn arányú bevonathoz vezettek. Ezért a találmány szerinti bevonatok esetén a fluor alkalmazását kifejezetten kizártuk.
A jó optikai minőség biztosítása érdekében a termékben bármilyen homályosságnak (zavarosságnak) 2%-nál kisebbnek kell lennie. A homályosságnak egy alapbevonat alkalmazásával történő csökkentését a leírásban később tárgyaljuk.
Azoknak a fémeknek az egyik előnyös csoportját, amelyek közül az adalékot kiválasztjuk, a következő fémek alkotják: alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium és cink. Ezeknek az adalékoknak az alkalmazásával lehetőség nyílik olyan bevonatok előállítására, amelyek csak csekély homályosságot (zavarosságot) okoznak.
Azoknak a fémeknek egy másik előnyös csoportját, amelyek közül az adalékot kiválasztjuk, a következő fémek alkotják: alumínium, króm, kobalt, vas, magnézium és cink. Ezek az adalékok gyakorolják a termék fényvisszaverésére a legelőnyösebb hatást.
Ennek megfelelően egy nagy fényvisszaverésű és kis homályosságú bevonat kialakításához az adalékot az alumínium, króm, kobalt, vas, magnézium és cink,
HU 224 059 Β1 még előnyösebben a króm, vas és magnézium közül választjuk ki. Legelőnyösebb a króm, ami nagy fényvisszaverésű és nagyon kis homályosságéi, valamint a reflexió vonatkozásában neutrális jellegű termék előállítását teszi lehetővé.
Amint azt a jelen bejelentéssel azonos dátumú függő szabadalmi bejelentésünkben ismertettük és igényeltük, a bevonat fényvisszaverése tovább javítható egy 30-150 nm geometriai vastagságú és 2,0-2,8 törésmutatójú külső fényvisszaverő réteg alkalmazásával.
Egy pirolitikus bevonatnak egy síküvegre történő elhelyezését a legjobban akkor valósíthatjuk meg, ha az üveg újonnan készült, például ahogyan az úsztatottüveg-gyártósort elhagyja. Ez egyrészt gazdasági előnyöket biztosít, mivel az üveget nem kell visszamelegíteni a pirolitikus reakciókhoz, másrészt jobb a bevonat minősége, mivel az újonnan készült üveg felülete az eredeti állapotában van.
Az ónforrás előnyösen ón(IV)-klorid (SnCI4) és/vagy monobutil-triklór-ón („MBTC”). Az antimonforrás egy vagy több, a következők közül kiválasztott vegyület lehet: antimon(V)-klorid (SbCI5), antimon(lll)-klorid (SbCI3), valamint szerves antimonvegyületek, például Sb(OCH2CH3)3, CI17Sb(OCH2CH3)1 3, CI2SbOCHCICH3, CI2SbOCH2CHCH3CI és CI2SbOCH2C(CH3)2CI. Az adalék forrása hasonló módon a megfelelő elemnek egy alkalmas kloridja vagy fémorganikus vegyülete lehet.
Az ón, az antimon és az adalék forrását előnyösen egyetlen kiindulási oldattá (a továbbiakban: „reaktánskeverék”-ké) alakítjuk, és így a különböző forrásokat egyidejűleg visszük fel a szubsztrátumra.
A reaktánskeveréket gőzfázisből történő kémiai rétegelőállítással (CVD vagy „gőzpirolízis”) vagy folyadékporlasztással („folyadékpirolízis”) vihetjük fel a szubsztrátumra. Különösen a folyadékporlasztásos elhelyezés esetén a képződött bevonatban az ón, az antimon és az adalék részaránya jelentősen eltérhet a reaktánskeverék-oldatban lévő részarányoktól, így szükség lehet arra, hogy a bevonatban kívánt részarányokkal rendelkező rétegek előállításához megváltoztassuk az oldatban a reaktánsok relatív koncentrációit.
A reaktánskeverékben a teljes keverékre vonatkoztatva az ón részaránya jellegzetesen 20-45 tömeg%, míg az antimon részaránya jellegzetesen 0,5-2,5 tömeg0/». Az adalék részaránya előnyösen 0,2-3,6 tömeg0/». Mivel a kész bevonatban lévő adalék részarányának a kialakítása nehézségekbe ütközhet, az alkalmazandó adalékmennyiséget a reaktánskeverék előállításának fázisában határozzuk meg.
A módosított ón-oxi/antimon bevonat CVD-vel történő kialakításához a szubsztrátumot egy bevonókamrában érintkezésbe hozzuk az ón-, antimon- és adalékforrásból álló reaktánskeverékkel. A reaktánskeveréket jellegzetesen egy első fúvókán keresztül juttatjuk be a kamrába. Ahol a keverék környezeti hőmérsékleten folyékony kloridokból áll, a keveréket egy hevített vízmentes hordozógázárammal, például nitrogénárammal elpárologtatjuk. Az elpárologtatást a reagenseknek a hordozógázban történő atomizálásával segítjük elő. Az oxidok előállításához a kloridokat egy második fúvókán bejuttatott vízgőzzel érintkeztetjük.
Az ilyen bevonatok kialakítására szolgáló eljárásokat és eszközöket ismertetnek például a 2 348 166 számú franciaországi szabadalmi leírásban és a 2 648 453 számú franciaországi szabadalmi bejelentésben. Az említett dokumentumokban ismertetett eljárások és eszközök előnyös optikai tulajdonságokkal rendelkező és különösen erős bevonatok kialakulását eredményezik.
A bevonat porlasztásos eljárással történő kialakításához a szubsztrátumot az ón-, antimon- és adalékforrást tartalmazó cseppek permetével hozhatjuk érintkezésbe. A permetet egy vagy több porlasztófejjel visszük fel a felületre, ahol a porlasztófejek elrendezése biztosítja a bevonandó szalag teljes szélességben történő bevonását.
A CVD előnyösebb, mint a folyadékok porlasztása, mivel szabályos vastagságú és összetételű bevonatokat biztosít; a bevonat egyenletessége igen lényeges lehet azokban az esetekben, ahol a terméket nagy felületek borítására kívánjuk alkalmazni. A permetbevonatban ezenkívül visszamaradhatnak a porlasztott cseppek nyomai és a porlasztófúvókák nyomvonalai. Az előbbieken túlmenően a porlasztott folyadékok pirolízise lényegében az oxidbevonatok, például az ón(IV)-oxid- és titán(IV)-oxid-bevonatok előállítására korlátozódik. Nehézséget okoz többrétegű bevonatok porlasztott folyadékokkal történő előállítása is, mivel minden egyes bevonat elhelyezése a szubsztrátum jelentős lehűlését okozza. Ezenkívül a CVD a nyersanyagok vonatkozásában és a kisebb veszteség miatt gazdaságosabb is.
A porlasztásos eljárás azonban az említett hátrányok ellenére is kényelmes és olcsó megoldást jelent a bevonat felvitelére, amelynek során csak egyszerű berendezések használatára van szükség. Ezért az eljárást gyakran alkalmazzák, különösen vastag bevonórétegek kialakítására.
Amennyiben a bevonat optikai tulajdonságainak beállításához kívánatos, a módosított réteg „alapbevonataként” egy közbenső bevonóréteget helyezhetünk el a szubsztrátum és a módosított ón-oxid/antimon bevonóréteg között. Például azt találtuk, hogy egy ón-oxid-bevonatnak egy nátronmészüvegszubsztrátumon, ón-kloridból történő pirolitikus elhelyezése során az üveg és a bevonó prekurzor anyag vagy reakciótermékei közötti reakció eredményeként nátrium-klorid épülhet be a bevonatba, ami a bevonat homályosodását okozhatja. Egy alapbevonat jelenléte csökkentheti vagy kiküszöbölheti a homályosodást. A alapbevonó réteg egyik hatásaként gátolja a nátriumionoknak a nátronmészüvegszubsztrátumból a módosított ón-oxid/antimon bevonatba diffúzió útján vagy módon történő migrációját. Az ilyen jellegű diffúzió a bevonat kialakításának ideje alatt vagy az ezt követő magas hőmérsékletű kezelés során léphet fel.
A korábbiakban már azt is megemlítettük, hogy egy ón-oxid/antimon bevonat esetében egy megfelelően megválasztott alapbevonó réteg természetesebb (neut4
HU 224 059 Β1 rálisabb) visszavert fényt eredményezhet, ami jelentősen hozzájárul a bevonat esztétikus megjelenéséhez.
Az egyik találmány szerinti megoldás értelmében az alapbevonó réteget pirolitikus úton, nem teljesen oxidált állapotban alakítjuk ki, amelynek során a szubsztrátumot egy alapbevonó kamrában a szubsztrátumon lévő anyag teljes oxidációjához szükségesnél kevesebb oxigén jelenlétében érintkeztetjük az alapbevonó prekurzor anyaggal. A jelen leírásban alkalmazott „nem teljesen oxidált állapot” kifejezés egy valódi szuboxidot jelöl, azaz egy többértékű fémnek egy kisebb vegyérték-állapotú oxidjára [például vanádium(IV)-oxidra (VO2) vagy titán(ll)-oxidra (TiO)] vonatkozik, továbbá olyan oxidokat jelöl, amelyek a szerkezetükben oxigénhiányosak: az utóbbi anyagok egyik példája a SiOx általános képletű vegyület, amelyben x értéke 2-nél kisebb; az ilyen anyag egy olyan SiO2 képletű vegyület, amelyben a dioxidhoz képest oxigénnel kitöltendő hiányok fordulnak elő.
Az alapbevonó réteg kialakítására alkalmas anyagok egyik példája az olyan alumínium-oxid (alumina), amely kevés vanádium-oxidot tartalmaz. Ilyen alumínium-oxid/vanádium anyagot ismertetnek a 2 248 243 számú nagy-britanniai szabadalmi leírásban. Az ilyen anyagból készített alapbevonó rétegek geometriai vastagsága előnyösen 40 nm-től 100 nm-ig terjed, például körülbelül 80 nm.
Amennyiben egy nem teljesen oxidált bevonatot hordozó üvegszubsztrátumot elegendően hosszú ideig oxidáló atmoszféra hatásának teszünk ki, a bevonat várhatóan hajlamos a teljes oxidációra, amelynek következtében a bevonat elveszíti a kívánt tulajdonságait. Ezért az ilyen alapbevonatot akkor fedjük be a módosított ón-oxid/antimon bevonóréteggel, amikor az alapbevonat még nem teljesen oxidált állapotban van, valamint amikor a szubsztrátum még forró, amelynek révén az alapbevonatot nem teljesen oxidált állapotban tudjuk tartani. Az az időtartam, amíg az alapbevonattal frissen ellátott üvegszubsztrátum oxidáló atmoszféra, például levegő hatásának tehető ki, illetve amíg az alapbevonat fedőréteggel lesz ellátva, anélkül, hogy az alapbevonat tulajdonságai károsodnának, az üvegnek az oxidáló atmoszféra hatástartama alatti hőmérsékletétől, valamint az alapbevonat jellegétől függ.
Az említett alapbevonó kamrát előnyösen redukáló atmoszférával vesszük körül. Ez elősegíti, hogy megakadályozzuk a környezeti oxigénnek a kamrába történő bejutását, valamint lehetővé teszi az oxidációs körülmények jobb szabályozását is. Az alapbevonási reakcióhoz szükséges oxigénnek nem kell tiszta oxigénnek lennie. Az oxigént egy szabályozott levegőforrásból is bejuttathatjuk a kamrába.
A találmány szerinti bevont szubsztrátumokat tartalmazó üvegezőpaneleket az alábbiaknak megfelelően állíthatjuk elő. Minden egyes pirolitikus bevonási lépést legalább 400 °C, ideálisan 550-700 °C-on hajtunk végre. A bevonatokat egy alagútkemencében mozgó üveglapon vagy egy frissen előállított, még forró üvegszalagon alakíthatjuk ki. A bevonatokat kialakíthatjuk az üvegszalagot formáló eszközt követő üveglágyító kemence belsejében, vagy az üvegszalag felső felületén egy úsztatótartály belsejében, miközben az üvegszalag egy olvadt ónfürdőn úszik.
A találmány részleteit az alábbiakban példákon keresztül ismertetjük. A példák a találmány oltalmi körét, illetve terjedelmét nem korlátozzák.
A példákban a bevonórétegekben lévő Sb/Sn mólarányt röntgenspektroszkópiás módszerrel határoztuk meg, amelynek során a megfelelő elemek röntgensugár-beütésszámait hasonlítottuk össze. Mivel ez a módszer nem olyan pontos, mintha kémiai dózisokkal végeznénk kalibrálást, az antimon és az ón hasonlósága azt jelenti, hogy a két elem hasonlóan reagál a röntgensugarakra. A megfelelő elemek esetén a megfigyelt beütésszámok mért értékeinek aránya jó közelítésben az elemek mólarányát adja.
A mellékelt táblázatok fejléceiben szereplő rövidítések (TI, TE stb.) a fentiekben ismertetett jelentésekkel rendelkeznek.
1-13. példa
Egy úsztatókamra azon pontján elhelyezkedő bevonóhelyen, ahol az üveg hőmérséklete 550 °C-nál nagyobb volt, egy 6 mm-es vastagságú tiszta nátronmész úsztatott üvegre felvittünk egy bevonatot. Az üvegre egy lengő porlasztófejen keresztül egy monobutil-triklór-ónból („MBTC”), Cli 7Sb(OCH2CH3)1 3 képletű vegyületből, egy krómprekurzorból és 4 tömeg% metil-izobutil-keton (C4HgCOCH3) stabilizátorból álló reaktánskeverék-oldatot permeteztünk, és így egy oxidált ón-, antimon- és krómkeverékből álló bevonatot alakítottunk ki. Az oldatban az ón, az antimon és a króm részaránya az előbbi sorrendnek megfelelően 37,35 tömeg0/), 0,783 tömeg% és 0,5 tömeg% volt, azaz az oldatban az Sb/Sn arány 0,02 értéknek felelt meg. Az alábbi 1. táblázat bemutatja az így nyert bevont szubsztrátum vastagságát és Sb/Sn arányát, valamint fényvisszaverését és egyéb optikai jellemzőit.
Más példákban megismételtük az 1. példa szerinti eljárást, azzal az eltéréssel, hogy változtattuk az adalék kiválasztását, valamint a reaktánskeverékben az adalék részarányát (2. táblázat). A megfelelő komponensek részarányát az egész keverékre vonatkoztatott tömegszázalékban adtuk meg.
Emlékeztetnünk kell arra, hogy a különböző példák között a megfelelő fényvisszaverési értékek csak hasonló vastagság és Sb/Sn arányok esetén hasonlíthatók össze, mivel a fényvisszaverődési értékek szempontjából ezeknek a paramétereknek igen nagy jelentőségük van. Például két azonos összetételű bevonat a vastagságuktól függően eltérő fényvisszaverést mutat.
Az 1-4. példa azt mutatja be, hogy a króm mint adalék kis homályosságú és fokozott fényvisszaverésű bevonatot eredményez. Homályosság időnként előfordul, de csak igen csekély mértékű, ha egy szilícium-dioxid (SiO2) alapbevonatot helyezünk el az üveg és a bevonat között (lásd: 4. példa).
Az adalékként vassal és magnéziummal végzett példák nagy reflexiós értékeket mutatnak.
HU 224 059 Β1
1. táblázat
| Példa | Adalék- elem | Adalék az oldatban % | TL % | RL % | TE % | FS % | TL/FS | TL/TE | Homá- lyosság (homá- lyosság alapbevo- nattal) | Vastag- ság nm | (Sb)/(Sn) |
| 1. | Cr | 0,5 | 69 | 15,7 | 58 | 65 | 1,06 | 1,19 | 1,5 | 368 | 0,05 |
| 2. | Cr | 1 | 67 | 16,5 | 61 | 67 | 1,00 | 1,10 | 3 | 364 | 0,05 |
| 3. | Cr | 2 | 61 | 16 | 60 | 66 | 0,92 | 1,02 | 1 | 319 | 0,06 |
| 4. | Cr | 1 | 53 | 17 | 43 | 54 | 0,98 | 1,23 | 1,6 (0,26) | 392 | 0,12 |
| 5. | Fe | 0,5 | 69 | 17 | 62 | 68 | 1,01 | 1,11 | 1,5 | 310 | 0,17 |
| 6. | Fe | 1 | 53 | 11 | 42 | 54 | 0,98 | 1,26 | 1,5 | 345 | 0,17 |
| 7. | Fe | 2,4 | 62 | 20 | 58 | 64 | 0,97 | 1,07 | 6,7 | 331 | 0,21 |
| 8. | Mg | 0,5 | 69 | 14 | 59 | 67 | 1,03 | 1,17 | 3,5 | 337 | 0,09 |
| 9. | Zn | 1 | 53 | 15 | 46 | 57 | 0,93 | 1,15 | 1,3 | 307 | 0,09 |
| 10. | Al | 0,9 | 55 | 14 | 48 | 58 | 0,95 | 1,15 | 1,2 | 323 | 0,22 |
| 11. | Co | 3,55 | 48 | 14 | 40 | 52 | 0,92 | 1,20 | 6,4 (1,27) | 307 | 0,24 |
| 12. | Mn | 0,5 | 46 | 10 | 37 | 51 | 0,90 | 1,24 | 1,6 | 331 | 0,17 |
| 13. | Ni | 0,35“ | 39 | 10 | 36 | 49 | 0,80 | 1,08 | 0,47 | 241 | 0,20 |
| 14. | V | 5 | 49 | 11 | 41 | 53 | 0,92 | 1,20 | 0,68 | 329 | 0,24 |
| 15. | Zr | 2 | 58 | 12 | 44 | 55 | 1,05 | 1,32 | 6,5 | 389 | 0,06 |
| 16. | Zr | 2 | 44 | 11 | 32 | 47 | 0,94 | 1,38 | 20,5 (12,4) | 573 | 0,06 |
| 1. öh. * | csak Sb | 0,07 | 34 | 10 | 32 | 46 | 0,74 | 1,06 | 0,54 | 337 | 0,21 |
| 2.öh. | csak Sb | 0,02 | 71 | 12 | 57 | 65 | 1,09 | 1,25 | 0,4 | 264 | 0,06 |
| 3.öh. | csak Sb | 0,04 | 41 | 12 | 32 | 47 | 0,87 | 1,28 | 0,78 | 350 | 0,11 |
öh.=összehasonlító példa **: a nikkelvegyület stabilitásának javítása érdekében az oldat 0,1% titánt is tartalmaz
2. táblázat
| Példa | Fémtartalom tömeg% | Sn-tartalom tömeg% | Sb-tartalom tömeg% | Sb/Sn |
| 1. | 0,5% Cr | 37,35 | 0,747 | 0,02 |
| 2. | 1,0% Cr | 35,55 | 0,711 | 0,02 |
| 3. | 2,0% Cr | 32 | 0,640 | 0,02 |
| 4. | 1,0% Cr | 35,58 | 1,423 | 0,04 |
| 5. | 0,5% Fe | 36,23 | 2,53 | 0,07 |
| 6. | 1,0% Fe | 34,57 | 2,42 | 0,07 |
| 7. | 2,4% Fe | 31,14 | 2,18 | 0,07 |
| 8. | 0,5% Mg | 35,31 | 2,47 | 0,07 |
| 9. | 1,0% Zn | 35,69 | 2,50 | 0,07 |
| 10. | 0,90% Al | 32,29 | 2,26 | 0,07 |
| 11. | 3,55% Co | 31,14 | 2,18 | 0,07 |
| 12. | 0,5% Mn | 36,06 | 2,52 | 0,07 |
| 13. | 0,35% Ni | 36,60 | 2,56 | 0,07 |
HU 224 059 Β1
14. példa
Az üvegre egy lengő porlasztófejen keresztül egy monobutil-triklór-ónból („MBTC”), antimon(lll)-kloridból (SbCI3), egy vanádiumprekurzorból és 4 tömeg% metil-izobutil-keton (C4H9COCH3) stabilizátorból álló reaktánskeverék-oldatot permeteztünk, és így egy oxidált ón-, antimon- és vanádiumkeverékből álló bevonatot alakítottunk ki. Az oldatban az Sb/Sn arány 0,07 értéknek felelt meg. Az ebben a példában nyert fényvisszaverési érték alacsony volt.
15. és 16. példa
Megismételtük az 1. példa szerinti eljárást, azzal az eltéréssel, hogy változtattuk az adalék kiválasztását, valamint a reaktánskeverékben az adalék részarányát. Az adalék cirkónium.
Ezek a példák jó fényvisszaverést, ugyanakkor azonban nagy homályosságot mutattak, még alapbevonat alkalmazása esetén is.
17-27. példa
Egy úsztatókamra azon pontján elhelyezkedő bevonóhelyen, ahol az üveg hőmérséklete 550 °C-nál nagyobb volt, egy 6 mm-es vastagságú tiszta nátronmész úsztatott üvegre felvittünk egy bevonatot. Az üvegre egy lengő porlasztófejen keresztül egy jégecettel készített és 220 g/l alumínium-acetil-acetonátot, valamint 12 g/l vanádium-triacetil-acetonátot tartalmazó oldatot tartalmazó oldatot permeteztünk, és így egy körülbelül 80 nm vastagságú és oxidált alumínium- és vanádiumkeverékből álló alapbevonatot alakítottunk ki.
Az alapbevonattal ellátott üvegszubsztrátumot átjuttattuk egy második bevonóhelyen, ahol az üvegre egy lengő porlasztófejen keresztül egy monobutil-triklór-ónból („MBTC”), CI17Sb(OCH2CH3)1 3 képletű vegyületből és egy adalék prekurzorból álló reaktánskeverék-oldatot permeteztünk, és így egy oxidált ón-, antimon- és alumíniumkeverékből álló bevonatot alakítottunk ki. Az oldatban az adalék részaránya, valamint az Sb/Sn arány a 3. táblázatban megadott volt. A 3. táblázat bemutatja az így nyert bevont szubsztrátum vastagságát és Sb/Sn arányát, továbbá fényvisszaverését és egyéb optikai jellemzőit is.
28-33. példa
A 17. és 18. példa szerint előállított bevont üvegszubsztrátumokat a bevont szubsztrátumból és egy hasonló, de bevonat nélküli nátronmészüveg lapból álló kettős üvegezőpanelekké alakítottuk.
Az így előállított panelek fényvisszaverését és egyéb optikai jellemzőit a 4. táblázatban mutatjuk be. A bevonat helyzetét a Ρ1, P2 és P3 kódokkal jelezzük, ahol P1 a külső lap külső felületét, P2 a külső lap belső felületét, P3 pedig a belső lap külső felületét jelöli. A kettős üvegpanelekkel történő összehasonlítás megkönnyítése érdekében a 3. táblázatban ismét megadjuk a 17. és 18. példában kapott eredményeket.
HU 224 059 B1
3. táblázat
| Vastagság nm | 240 | 220 I | 190 | I 240 | 220 | O CM CO | 240 1 | o Μ- CM | 220 | | ..... ....... | 340 I | 240 |
| Sb/Sn | 90Ό | 0,15 | 0,13 | 0,15 | o o~ | 0,20 | 0,23 | 0,23 | 0,32 | 0,24 | 0,17 | 0,24 |
| Homá- lyosság % | 0,29 | 0, 18 | 0,2 | b- | 1,04 | b- cö | 0,59 | 0,73 1 | 0,31 | 1,38 | CO | S9‘0 |
| TL/FS | 1,07 | 0,99 | O | 1,02 | 1,02 j | 1,01 | 1,04 | 1,03 | 66Ό | 1,03 | 0,96 | 0,62 |
| TL/TE | b- V* | 1,16 | h- | M· | o | co | CM | CM T“ | T— | 1,18 | 1,26 | ct 0 |
| FS % __i | 71,2 | 62,1 | 64,6 | 68,7 | 73 | 68,3 | 71,9 | 62,6 | 67,6 | 65,5 I | 54,2 | 47,9 |
| TE % | 64,8 | 53,2 | 55,6 | co_ 5 | 67,4 | CO | 66,6 | 53,1 | 09 | CM b 10 | 41,1 | 32,5 |
| _l * CL | 2,6 | o | 5,4 | 15,7 | M- b-“ | CO CM | 18,5 | S‘6 I | 12,9 | 12,3 | | 10’ | |
| E c o | 009 | 576 | 565 | -566 | 574 | -544 | -567 | -531 | -567 | -555 | -552 | -500 |
| RL (CS) % | CO | 13, 1 | 13,7 | T— | X“- | 14,3 | 12,9 | ct_ | T“ | 12,7 | Τ- ο | 9,6 |
| P“ (TL) % | co | 2,3 | 2,7 | 8,8 | 2,5 | 8,8 | CM | 6,8 | 3,4 | CO | CT | |
| E c Q | 552 | 488 | 486 | 571 | 569 | 1 568 L____._ | b 10 | 543 | 570 | 556 | 484 | ! 476 |
| TL % | 75,9 | 61,7 | 65 | 70 l | CO_ b- | 68,8 1 | 74,5 | 64,4 | 66,6 | 67,7 | 51,9 | 29,6 |
| Sb/Sn az oldatban | 0,02 | 0,04 | 0,04 | 0,07 | 0,07 | 0,07 1 | 0,07 | 0,07 | 0,07 | Γ 0,07 | 0,07 | ' 0,07 |
| Adalék az oldatban % | S‘0 | 0,5 | 0,5 | CM | 0,5 | 0,5 | 2,4 | - | 6‘0 | - | 0,5 | 0 |
| Adalék | O | υ | Ö | o | Mg | Fe 1 | Fe | Fe | < | Zn | c | csak Sb |
| Példa | b- | 00 | CT) T“ | I 20· | CM | II 22· | 23. | I 24· | 25. | I 26· | II 27· | _c 0 |
co '<D
CL
Ό o
CZJ co
II.
.c.
Ό
II
Q_ co •R
| Vastag- ság nm | 240 | 220 | ||||||
| /Sn | 06 | 10 | ||||||
| Sb | o‘ | 0’ | ||||||
| 1 σ> | ||||||||
| 'Φ 'CO | CD | co | ||||||
| E χ© F tn θ' | CM | |||||||
| -9 o | Ó | ö | ||||||
| co U. 1- | b | CT | CT | OO | CT | |||
| O | O | O | CT | CT | o | 0 | CO | |
| v- | O | O | 0 | |||||
| LU | b | O | O | CT | CO | 00 | CT | CT |
| H | »— | CM | CM | CM | v~ | <— | ||
| FS % | CM | CO | 00 | b | CM | M· | CO | |
| co | co | o | cm | Μ- | b | |||
| b | CO | co | b | (O | 10 | 10 | CO | |
| LU xo | CO | CM | b | 00 | co | |||
| 00 | co’ | 00 | co | b | bx | bx | ||
| CO | 10 | 10 | 10 | 10 | tT | Μ- | ||
| —1 Qí | CO | M· | CO | 0 | CT | b- | 5,4 | |
| * 0. | cm | CM | b | T“ | co | cd | ||
| E | 0 | 10 | 10 | CD | 10 | 00 | CO | |
| 0 | 00 | b | CO | b | b | 10 | b. | |
| 0 | co | 10 | L0 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 |
| ω O xP | ||||||||
| co | T- | CO | 7- | CO | T- | |||
| co | b | b | 00 | co | CO | « | ||
| —1 | T“ | |||||||
| α | ||||||||
| Η xp | CD | CT | 00 | OO | co | CO | CM | CM |
| T— | T- | T” | CM | CM | CM | cm | ||
| 0- | ||||||||
| E | CM | CM | 00 | CT | CT | O | ||
| 10 | 10 | 10 | in | 00 | CT | CT | CT | | |
| 0 <-< | 10 | 10 | 10 | 10 | Μ- | Μ | ’Ct | |
| CT | co | CO | co | b | 10 | b- | b | |
| o'' | 10 | CT | CT | CT | CO | CO | co | |
| b | (O | CO | CO | CO | 10 | 10 | 10 | |
| <D | ||||||||
| O | r— | CM | CO | 0 | v~ | CM | CO | |
| ω | C O | Q_ | CL | 0. | c 0 | 0. | Q_ | 0. |
| I | E | E | ||||||
| co | ||||||||
| 2 | b | co | CT | CT | 00 | CM | co | |
| CM | CM | co | CO | CO | co | |||
| Q_ |
CS=bevont oldal
Claims (34)
- SZABADALMI IGÉNYPONTOK1. Átlátszó szubsztrátum, amely egy pirolitikusan kialakított, ón- és antimon-oxidot 0,01-0,5 Sb/Sn mólarányban tartalmazó bevonóréteget hordoz, amelyre jellemző, hogy a bevonóréteg vastagsága 100-500 nm, és ez a bevonóréteg az alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium, cink és cirkónium közül egy vagy több adalékot tartalmaz és fluortól mentes, mi mellett az ilyen módon bevont szubsztrátum fényvisszaverése (RL) legalább 10%.
- 2. Átlátszó szubsztrátum, amely egy pirolitikusan kialakított, ón- és antimon-oxidot 0,01-0,5 Sb/Sn mólarányban tartalmazó bevonóréteget hordoz, amely bevonórétegre jellemző, hogy egy vagy több adalékot tartalmaz az alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium, cink és cirkónium közül és fluortól mentes, továbbá a bevont szubsztrátum tartalmaz még egy alapbevonatot is, amely a szubsztrátum és a bevonóréteg között helyezkedik el, mi mellett az ilyen módon bevont szubsztrátum fényvisszaverése (RL) legalább 10%.
- 3. Egy 1. vagy 2. igénypont szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonórétegben az Sb/Sn mólarány 0,03-tól 0,21.
- 4. Egy 3. igénypont szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonórétegben az Sb/Sn mólarány 0,03-tól 0,16.
- 5. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben az adalék alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium vagy cink.
- 6. Az 1-4. igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben az adalék alumínium, króm, kobalt, vas, magnézium vagy cink.
- 7. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben az adalék króm, vas vagy magnézium.
- 8. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a fényvisszaverés (RL) értéke legalább 13%.
- 9. A 2-8. igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteg vastagsága 100-500 nm.
- 10. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteg vastagsága 220-500 nm.
- 11. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteghez az ón forrása az ón(IV)-klorid (SnCI4) vagy a monobutil-triklór-ón („MBTC”).
- 12. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteghez az antimon forrása az antimon(V)-klorid (SbCI5), antimon(lll)-klorid (SbCI3) vagy szerves antimonvegyületek, például Sb(OCH2CH3)3, ClvSb(OCH2CH3)13, CI2SbOCHCICH3, CI2SbOCH2CHCH3CI és CI2SbOCH2C(CH3)2CI.
- 13. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteghez az adalék forrása a megfelelő elemnek a kloridja vagy fémorganikus vegyülete.
- 14. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amely egy, a szubsztrátum és a bevonóréteg között elhelyezkedő alapbevonatot tartalmaz.
- 15. A 14. igénypont szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben az alapbevonat kevés vanádium-oxidot tartalmazó alumínium-oxid.
- 16. A 15. igénypont szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben az alapbevonat geometriai vastagsága 40 nm és 100 nm közötti értékű.
- 17. A 14-16. igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben az alapbevonat semlegesebb árnyalatú visszavert fényt ad a bevonatnak.
- 18. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a szoláris faktor (FS) értéke legfeljebb 70%, előnyösen legfeljebb 65%.
- 19. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelynek fényáteresztése (TL) 35% és 76% közötti értékű.
- 20. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteg lényegében az ón és az antimon oxidált keverékéből és az adalékból áll.
- 21. Az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum, amelyben a bevonóréteg az ón és az antimon oxidált keverékéből és az adalékból áll.
- 22. Üvegezőpanel, amely az előző igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátumot tartalmazza.
- 23. Egy 22. igénypont szerinti üvegezőpanel, amely két vagy több olyan szubsztrátumlapot tartalmaz, amelyek egyike az 1-21. igénypontok bármelyike szerinti bevont átlátszó szubsztrátum.
- 24. Egy 22. vagy 23. igénypont szerinti üvegezőpanel épületek üvegezőpaneljeként történő felhasználásra.
- 25. Egy 22. vagy 23. igénypont szerinti üvegezőpanel járművek ablaküvegeként történő felhasználásra.
- 26. A 22-25. igénypontok bármelyike szerinti üvegezőpanel, amelyben a találmány szerinti bevonat az épület vagy jármű külső oldalán helyezkedik el.
- 27. Egy 22. igénypont szerinti üvegezőpanel, amelyben a találmány szerinti bevonat a külső lap külső felületén helyezkedik el.
- 28. Eljárás bevonattal ellátott átlátszó szubsztrátum előállítására, amelynek során egy reagenskeverékből a szubsztrátumra pirolitikusan egy ón-oxidot és antimon-oxidot 0,01-0,5 Sb/Sn mólarányban tartalmazó bevonóréteget viszünk fel kémiai gőz leválasztással (CVD), ahol a reagenskeverék egy ónforrást és egy antimonforrást tartalmaz, azzal jellemezve, hogy a reagenskeverék az alumínium, króm, kobalt, vas, mangán, magnézium, nikkel, vanádium, cink vagy cirkónium közül egy vagy több adalékot is tartalmaz, fluortól mentes és ez az adalék a reagenskeverékben 0,2-3,6 tömeg%HU 224 059 Β1 mennyiségben van jelen, mi mellett az ilyen módon bevont szubsztrátum fényvisszaverése (RL) legalább 10% értékű.
- 29. A 28. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a bevonóréteget 550 °C-750 °C hőmérsékle- 5 ten visszük fel.
- 30. A 28. vagy 29. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a bevonóréteget egy alagútkemencében elhelyezett üveglapon vagy egy üvegszalagon, ennek előállítása közben, amíg még forró, alakítjuk ki.
- 31. A 28-30. igénypontok bármelyike szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a szubsztrátum és a bevonóréteg között egy alapbevonatot alakítunk ki.
- 32. A 31. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az alapbevonat réteget pirolitikus úton, nem teljesen oxidált állapotban alakítjuk ki, amelynek során a szubsztrátumot egy alapbevonó kamrában az alapbevonat prekurzorával hozzuk érintkezésbe a szubsztrátumon lévő alapbevonat-anyag teljes oxidációjához szükségesnél kevesebb oxigén jelenlétében.
- 33. A 31. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az alapbevonat réteg kevés vanádium-oxidot10 tartalmazó alumínium-oxid.
- 34. A 31-33. igénypontok bármelyike szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az alapbevonat geometriai vastagsága 40 nm és 100 nm közötti értékű.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9806030.4A GB9806030D0 (en) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | Solar control coated substrate with high reflectance |
| PCT/BE1999/000035 WO1999048827A1 (en) | 1998-03-20 | 1999-03-17 | Solar control coated substrate with high reflectance |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HUP0003182A2 HUP0003182A2 (hu) | 2001-01-29 |
| HUP0003182A3 HUP0003182A3 (en) | 2001-05-28 |
| HU224059B1 true HU224059B1 (hu) | 2005-05-30 |
Family
ID=10828980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HU0003182A HU224059B1 (hu) | 1998-03-20 | 1999-03-17 | Napfényszabályozó bevonattal ellátott, nagy reflexiós tényezőjű szubsztrátumok, eljárás előállításukra és alkalmazásuk |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6387514B1 (hu) |
| EP (1) | EP0986521B1 (hu) |
| JP (1) | JP2002509515A (hu) |
| CN (1) | CN1128770C (hu) |
| AT (1) | ATE212606T1 (hu) |
| AU (1) | AU738600B2 (hu) |
| BR (1) | BR9906333A (hu) |
| CA (1) | CA2290609C (hu) |
| CZ (1) | CZ299250B6 (hu) |
| DE (1) | DE69900835T2 (hu) |
| ES (1) | ES2172309T3 (hu) |
| GB (1) | GB9806030D0 (hu) |
| HU (1) | HU224059B1 (hu) |
| ID (1) | ID24273A (hu) |
| PL (1) | PL191130B1 (hu) |
| RU (1) | RU2248945C2 (hu) |
| TR (1) | TR199902861T1 (hu) |
| WO (1) | WO1999048827A1 (hu) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020155299A1 (en) * | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
| US7508567B1 (en) | 2008-01-08 | 2009-03-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Metal etalon with enhancing stack |
| CN102060447B (zh) * | 2010-11-26 | 2012-07-04 | 武汉理工大学 | 具有防止静电和截止紫外线双功能的透明镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN102127326B (zh) * | 2010-12-28 | 2012-10-31 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种二氧化钒基复合镀膜液和复合薄膜及其制备方法和应用 |
| KR102235595B1 (ko) * | 2013-07-08 | 2021-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 주석 산화물 반도체용 조성물 및 주석 산화물 반도체 박막의 형성 방법 |
| WO2016132131A1 (en) * | 2015-02-19 | 2016-08-25 | Pilkington Group Limited | A chemical vapour deposition process for depositing an iron doped tin oxide coating and a coated glass article formed thereby |
| CN112337767A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-09 | 南京航空航天大学 | 一种太阳能吸光涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT996924B (it) * | 1972-12-21 | 1975-12-10 | Glaverbel | Procedimento per formare uno strato di ossido metallico |
| GB8630791D0 (en) * | 1986-12-23 | 1987-02-04 | Glaverbel | Coating glass |
| GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
| GB9019117D0 (en) * | 1990-09-01 | 1990-10-17 | Glaverbel | Coated glass and method of manufacturing same |
| US5721054A (en) * | 1994-04-27 | 1998-02-24 | Glaverbel | Glazing panel and process for forming the same |
| GB2302102B (en) | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
| GB2302101B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties |
| MY129739A (en) * | 1996-01-09 | 2007-04-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Coated glass for buildings |
| US6124026A (en) * | 1997-07-07 | 2000-09-26 | Libbey-Owens-Ford Co. | Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article |
-
1998
- 1998-03-20 GB GBGB9806030.4A patent/GB9806030D0/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-03-17 WO PCT/BE1999/000035 patent/WO1999048827A1/en active IP Right Grant
- 1999-03-17 HU HU0003182A patent/HU224059B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 PL PL336930A patent/PL191130B1/pl unknown
- 1999-03-17 AU AU29165/99A patent/AU738600B2/en not_active Ceased
- 1999-03-17 DE DE69900835T patent/DE69900835T2/de not_active Revoked
- 1999-03-17 EP EP99910041A patent/EP0986521B1/en not_active Revoked
- 1999-03-17 BR BR9906333-6A patent/BR9906333A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-03-17 US US09/424,291 patent/US6387514B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-17 ID IDW991408A patent/ID24273A/id unknown
- 1999-03-17 AT AT99910041T patent/ATE212606T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 RU RU99126756/03A patent/RU2248945C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 TR TR1999/02861T patent/TR199902861T1/xx unknown
- 1999-03-17 CZ CZ0411499A patent/CZ299250B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-03-17 CN CN99800508A patent/CN1128770C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-17 ES ES99910041T patent/ES2172309T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-17 JP JP54750299A patent/JP2002509515A/ja active Pending
- 1999-03-17 CA CA002290609A patent/CA2290609C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1128770C (zh) | 2003-11-26 |
| RU2248945C2 (ru) | 2005-03-27 |
| ID24273A (id) | 2000-07-13 |
| CA2290609A1 (en) | 1999-09-30 |
| PL336930A1 (en) | 2000-07-17 |
| EP0986521A1 (en) | 2000-03-22 |
| JP2002509515A (ja) | 2002-03-26 |
| DE69900835T2 (de) | 2002-09-12 |
| HUP0003182A2 (hu) | 2001-01-29 |
| CZ299250B6 (cs) | 2008-05-28 |
| AU2916599A (en) | 1999-10-18 |
| WO1999048827A1 (en) | 1999-09-30 |
| CA2290609C (en) | 2007-03-06 |
| HUP0003182A3 (en) | 2001-05-28 |
| CN1263513A (zh) | 2000-08-16 |
| BR9906333A (pt) | 2002-01-02 |
| CZ411499A3 (cs) | 2000-07-12 |
| PL191130B1 (pl) | 2006-03-31 |
| GB9806030D0 (en) | 1998-05-20 |
| US6387514B1 (en) | 2002-05-14 |
| ES2172309T3 (es) | 2002-09-16 |
| AU738600B2 (en) | 2001-09-20 |
| DE69900835D1 (de) | 2002-03-14 |
| ATE212606T1 (de) | 2002-02-15 |
| TR199902861T1 (xx) | 2000-06-21 |
| EP0986521B1 (en) | 2002-01-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6218018B1 (en) | Solar control coated glass | |
| USRE40315E1 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
| US7622186B2 (en) | Glazing panel having solar screening properties | |
| US20070190339A1 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
| GB2302102A (en) | Glazing panel having solar screening properties | |
| HU224059B1 (hu) | Napfényszabályozó bevonattal ellátott, nagy reflexiós tényezőjű szubsztrátumok, eljárás előállításukra és alkalmazásuk | |
| CZ167896A3 (en) | Glazing pane for screening solar radiation and process for producing thereof | |
| US7776460B2 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
| MXPA99010635A (en) | Solar control coated substrate with high reflectance | |
| MXPA99007735A (en) | Glass coated for so control | |
| NZ505140A (en) | A near infrared (NIR) wavelength film containing a tin oxide with a NIR dopant | |
| CA2607846A1 (en) | Glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HFG4 | Patent granted, date of granting |
Effective date: 20050331 |
|
| MM4A | Lapse of definitive patent protection due to non-payment of fees |