CZ309905B6 - Způsob provozování systému svazku částic, systém svazku částic, počítačový programový produkt - Google Patents
Způsob provozování systému svazku částic, systém svazku částic, počítačový programový produkt Download PDFInfo
- Publication number
- CZ309905B6 CZ309905B6 CZ2020-22A CZ202022A CZ309905B6 CZ 309905 B6 CZ309905 B6 CZ 309905B6 CZ 202022 A CZ202022 A CZ 202022A CZ 309905 B6 CZ309905 B6 CZ 309905B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- sequence
- particle beam
- particles
- boundary line
- area
- Prior art date
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 180
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 238000004590 computer program Methods 0.000 title claims description 4
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 claims description 22
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 8
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005136 cathodoluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/045—Beam blanking or chopping, i.e. arrangements for momentarily interrupting exposure to the discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2448—Secondary particle detectors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Předkládaný vynález se vztahuje na způsob provozování mikroskopu se svazkem částic. Způsob obsahuje opakující se sekvenci pro posun svazku částic po povrchu (27) předmětu, majícího na povrchu (27) oblast (25) definovanou uzavřenou hraniční čárou (29). Sekvence obsahuje pohyb svazku ze vstupní polohy (31-1 až 31-5) přítomné sekvence do výstupní polohy (33-1 až 33-5) přítomné sekvence po snímací dráze (35-1 až 35-5), kdy vstupní poloha (31-1 až 31-5) přítomné sekvence a výstupní poloha (33-1 až 33-5) přítomné sekvence jsou umístěny na hraniční čáře (29), a snímací dráha (35-1 to 35-5) je umístěna zcela uvnitř oblasti (25), a dále pohyb svazku částic z výstupní polohy (33-1 až 33-5) přítomné sekvence do vstupní polohy (31-2, 31-3, 31-4, 31-5, 31-1) následující sekvence po návratové dráze (37-1 až 37-5). Vstupní poloha následující sekvence je umístěna na hraniční čáře (29) a tato návratová dráha je umístěna zcela mimo oblast (25).
Description
Způsob provozování systému svazku částic, systém svazku částic, počítačový programový produkt
Oblast techniky
Předkládaný vynález se týká způsobu provozování systému svazku částic, zejména mikroskopu se svazkem částic, rovněž i systému svazku částic a mikroskopu se svazkem částic, v daném pořadí, konfigurovanému pro provedení uvedeného způsobu, rovněž i počítačového programového produktu.
Dosavadní stav techniky
V konvenčních systémech svazku částic je svazek částic generovaný systémem svazku částic posouván čára za čárou přes oblast předmětu, která má být analyzována a/nebo zpracovávána. Když se svazek částic dostane na konec takové čáry, musí být svazek částic navrácen, tzn. pohybuje se na začátek nové čáry. Svazek částic se běžně během návratu pohybuje přes tuto oblast. Svazek částic zasahující předmět během návratu z konce čáry na začátek další čáry může mít na předmět negativní vlivy. V předmětu může být například uložen nebo vygenerován náboj, který negativně ovlivní přesnost pohybu paprsku v další řádce. Dále mohou být způsobeny nečistoty nebo strukturální poškození předmětu.
Aby se zabránilo těmto negativním vlivům, je možné použít takzvané zatemňovače svazku částic, které mohou přerušit svazek částic, aby svazek částic nezasáhl předmět během návratu. Pro takové zatemňovače svazku částic je však zapotřebí řídicí úsilí, aby nedošlo k jejich opomenutí, a což představuje značné náklady.
Proto je cílem překládaného vynálezu poskytnout systém svazku částic, zejména mikroskopu se svazkem částic, rovněž i způsobu provozování systému svazku částic, který může zabránit nebo alespoň zmírnit výše uvedené negativní vlivy vygenerované při návratu svazku částic jednoduchými a nákladově efektivními prostředky.
Dokument DE 112015006822T T5 popisuje způsob skenování vzorku v systému svazku částic. Dokumenty US 3900737 A, US 2009244078 A1 a US 2015371813 A1 zase popisují skenování vzorku svazkem částic, mající dráhu tvaru serpentiny.
Podstata vynálezu
Jeden aspekt předkládaného vynálezu se vztahuje ke způsobu provozování mikroskopu se svazkem částic, přičemž způsob obsahuje: opakování sekvence na pohyb svazku částic po povrchu předmětu, předmět na povrchu mající oblast definovanou virtuální uzavřenou hraniční čárou, přičemž sekvence obsahuje: pohyb svazku částic ze vstupního místa aktuální sekvence do výstupního místa aktuální sekvence po snímané dráze, přičemž vstupní místo aktuální sekvence a výstupní místo aktuální sekvence jsou umístěny na hraniční čáře a přičemž snímaná dráha je umístěna zcela uvnitř této oblasti, a pohyb svazku částic ze vstupního místa aktuální sekvence do výstupního místa aktuální sekvence po návratové dráze, přičemž je vstupní místo další sekvence umístěna na hraniční čáře a přičemž je návratová dráha umístěna zcela mimo oblast.
Podle tohoto způsobu je svazek částic generovaný mikroskopem se svazkem částic posunován po povrchu předmětu, což znamená, že svazek částic souvisle, tzn. souvisle, zasahuje povrch předmětu během pohybu. Svazek částic není především přerušován zatemňovačem svazku částic během pohybu. Svazek částic může být tvořen ionty nebo elektrony.
- 1 CZ 309905 B6
Interakcí svazku částic s předmětem jsou generovány sekundární částice. Sekundární částice mohou například odkazovat na sekundární elektrony, sekundární ionty zpětně odražených elektronů, nebo zpětně odražené ionty. Sekundární částice mohou také odkazovat na částice sekundární radiace generované interakcí svazku částic s předmětem. Sekundární radiace může například odkazovat na rentgenové paprsky nebo katodoluminiscenci.
Oblast definovaná uzavřenou hraniční čárou je oblastí předmětu určenou k analýze a/nebo zpracování. Za tímto účelem je svazek částic nasměrován na oblast. Obraz této oblasti se má například zaznamenávat. Dále nebo jinak má být předmět zpracováván uložením materiálu na předmět nebo odebráním materiálu z předmětu.
Hraniční čára je uzavřenou linií, která obklopuje oblast. Hraniční čára je virtuální, což znamená, že hraniční čára není strukturálním prvkem (povrchu) předmětu. Oblast může mít například obdélníkový tvar. Hraniční čára může mít podle toho tvar hranice obdélníkového tvaru.
Způsob obsahuje opakování sekvence. Každá sekvence obsahuje první fázi a druhou fázi.
V první fázi každé sekvence je svazek částic posunován ze vstupního místa této sekvence do výstupního místa této sekvence po dráze, která je umístěna zcela uvnitř oblasti, uvedená dráha je označována jako snímací dráha. To znamená, že se snímací dráhy mohou také (částečně) shodovat s hraniční čárou.
V druhé fázi každé sekvence, která následuje po první fázi této sekvence, je svazek částic posouván z výstupního místa této sekvence do vstupního místa další sekvence, která je označovaná jako návratová. Aby nedošlo k negativním vlivům na oblast definovanou uzavřenou hraniční čárou, je svazek částic navrácen po dráze, která je umístěna zcela mimo oblast, uvedená dráha je označovaná jako návratová dráha.
Každá ze sekvencí má přesně jedno vstupní místo a přesně jedno výstupní místo. Vstupní místa a výstupní místa všech sekvencí jsou umístěna na hraniční čáře a jsou obecně odlišnými místy na povrchu předmětu. Vstupní místo je místo na hraniční čáře, na kterou je svazek částic směrován na začátku sekvence. Tato sekvence končí tím, že je svazek částic přesunut do vstupního místa další sekvence.
Sekundární částice generované během pohybu svazku částic po snímací dráze lze použít ke generování dat tvořících základ analýzy a/nebo zpracování oblasti. Data mohou například představovat obraz oblasti.
Snímací dráha je například „rovná“, tzn. v zásadě rovná čára. Na rozdíl od toho není návratová dráha obecně rovnou čárou, protože každá návratová dráha běží částečně kolem uzavřené oblasti.
Sekvence je opakována v čase, aby se svazek částic postupně pomalu posunoval, tzn. snímací dráha za snímací dráhou, po celé oblasti určené k analýze a/nebo zpracování.
Podle provedení svazek částic neustále zasahuje povrch předmětu po dobu trvání každé sekvence. Svazek částic podle toho zasahuje povrch předmětu během pohybu svazku částic po snímacích drahách i během pohybu svazku částic po návratových drahách. Následně nemusí systém svazku částic mít zatemňovače svazku částic.
Podle jiného provedení obsahuje každá z návratových drah sekvencí část návratové dráhy obsaženou ve všech návratových drahách. Délka části návratové dráhy například představuje minimálně 30 % nebo minimálně 50 % délky nejkratší návratové dráhy nebo minimálně 30 % nebo minimálně 50 % délky nejkratší snímací dráhy sekvencí.
V tomto provedení je svazek částic posunován po části návratové dráhy během návratu v každé
- 2 CZ 309905 B6 sekvenci. Výsledkem je, že je během návratu zasažena svazkem částic co nejmenší část povrchu předmětu. Proto negativní vlivy způsobené návratem jsou omezeny na malou část povrchu předmětu, uvedená část je umístěna zcela mimo oblast.
Podle jiného provedení je oblast definovaná uzavřenou hraniční čárou obdélníková. Oblast však může mít odlišný tvar. Oblast dále může mít plochu minimálně (100 nm)2 nebo minimálně (1 μm)2. Tudíž oblast obsahuje významně velkou plochu povrchu předmětu.
Podle jiného provedení jsou vstupní místo a výstupní místo přiřazené sekvenci (tzn. vstupní místo a výstupní místo stejné sekvence) odděleny vzdáleností minimálně 50 nm, především minimálně 100 nm, dále především minimálně 200 nm. Ve skutečnosti je tedy minimální délka každé ze snímacích drah definována, což představuje minimálně 50 nm, především minimálně 100 nm, dále především minimálně 200 nm.
Podle jiného provedení představuje vzdálenost mezi vstupními místy umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře maximálně 200 nm, především maximálně 100 nm, dále především maximálně 10 nm. Čím je vzdálenost mezi vstupními místy umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře menší, tím lepší je analýza a/nebo zpracování oblasti.
Podle jiného provedení představuje vzdálenost mezi výstupními místy umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře maximálně 200 nm, především maximálně 100 nm, dále především maximálně 10 nm. Čím je vzdálenost mezi výstupními místy umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře menší, tím lepší je analýza a/nebo zpracování oblasti.
Podle jiného provedení má hraniční čára první souvislou část, ve které jsou umístěna vstupní místa a druhou souvislou část, ve které jsou umístěna výstupní místa, přičemž první souvislá část a druhá souvislá část se nepřekrývají. Podle toho jsou vstupní místa a výstupní místa kolektivně od sebe navzájem oddělena. Například je oblast obdélníková a hraniční čára má tudíž dvě dlouhé strany a dvě krátké strany. První souvislá část je například tvořena jednou ze dvou dlouhých stran a druhá souvislá část je tvořena druhou další ze dvou dlouhých stran. Proto se první a druhé části nepřekrývají. To odpovídá pohybu svazku čára za čárou, přičemž každá čára například začíná na stejné straně oblasti.
Podle jiného vzorového provedení jsou snímací dráhy v podstatě rovnými čárami. „V podstatě rovná“ je čára, která má být provedena jako rovná čára systémem svazku částic, která ale není provedena jako přesně rovná čára z důvodu konečné přesnosti systému svazku částic a externích vlivů. Snímací dráhy každé sekvence mohou mít stejný tvar, tzn. být například v zásadě rovnými čárami. Snímací dráhy však mohou mít také jiný tvar.
Podle jiného provedení je střední hodnota délek snímacích drah menší než střední hodnota délek návratových drah. Podle alternativního provedení je střední hodnota délek snímacích drah větší než střední hodnota délek návratových drah. Střední hodnota je například aritmetická střední hodnota nebo medián.
Podle jiného provedení způsob dále obsahuje: definování oblasti; generování řídicích signálů pro vychylovací systém systému svazku částic založený na definované oblasti; přičemž je pohyb svazku částic realizován vychylovacím systémem.
V praxi jsou oblast a uzavřená hraniční čára ji definující definovány definicí systému svazku částic uživatelem. Definicí oblasti je stanovena část povrchu předmětu, která má být analyzována a/nebo zpracována za použití systému svazku částic. Na základě definované oblasti může ovladač systému svazku částic generovat řídicí signály ovládající vychylovací systém, který naopak vychyluje svazek částic v závislosti na řídicích signálech a tím uskutečňuje pohyb svazku částic přes povrch předmětu.
- 3 CZ 309905 B6
Podle jiného provedení způsob dále obsahuje: detekování sekundárních částic vygenerovaných interakcí svazku částic s předmětem; generování detekčního signálu představujícího množství a/nebo energii detekovaných sekundárních částic v závislosti na čase; a především generování dat představujících obraz oblasti založený na detekčním signálu. Detekování sekundárních částic a/nebo generování detekčního signálu může být provedeno po dobu trvání každé sekvence. Především je dále zpracována pouze taková část detekčního signálu, která je způsobena sekundárními částicemi, které byly vygenerovány, když svazek částic zasáhl oblast definovanou uzavřenou hraniční čárou.
V tomto provedení je detektor systému svazku částic konfigurován k detekci sekundárních částic vygenerovaných interakcí svazku částic s předmětem. Částice jsou detekovány po dobu trvání každé sekvence, tzn. průběžně od začátku sekvence do konce této sekvence. Detekční signál je také generován po dobu trvání každé sekvence, tzn. průběžně od začátku sekvence do konce této sekvence. Proto je detekční signál průběžným proudem dat představujícím množství a/nebo energii detekovaných sekundárních částic v závislosti na čase. Na základě detekčního signálu lze generovat data, která tvoří základ pro analýzu a/nebo zpracování oblasti. Data mohou například představovat obraz oblasti. Aby bylo možné generovat data, musí být z detekčního signálu vyjmuty takové části, které jsou způsobeny sekundárními částicemi, které byly vygenerovány, když byl svazek částic posouván po snímací dráze (a ne po návratové dráze). To může provést ovladač systému svazku částic.
Podle jiného provedení se svazek částic může zastavit na množství klidových míst, pokaždé na předem stanovenou klidovou dobu, během pohybu svazku částic po snímacích drahách. Toto odpovídá „rastrovému snímání“ oblasti. Takto je svazek částic směrován v čase za sebou na omezené množství nesouvisejících míst na snímací dráze (klidových míst) a zde zůstane v klidu po předem stanovenou dobu.
Podle jiného provedení je svazek částic průběžně posouván během pohybu svazku částic po snímacích drahách. Svazek částic lze především posouvat při v podstatě konstantní rychlosti během pohybu po snímacích dráhách. Tento princip je protějškem „rastrového snímání“, protože je svazek částic posouván průběžně s v podstatě konstantní rychlostí a neodpočívá po předem stanovenou klidovou dobu ve stejném místě.
Podle jiného provedení obsahuje pohyb svazku částic z výstupního místa aktuální sekvence do vstupního místa další sekvence krok čekání před dosažením vstupního místa další sekvence, přičemž je svazek částic v klidu po dobu trvání kroku čekání v podstatě na stejném místě.
Elektronické součásti mikroskopu se svazkem částic použité pro pohyb svazku částic mohou způsobovat tlumenou oscilaci místa výskytu svazku částic na předmětu. Aby byla tato tlumená oscilace dostatečně ztlumena před pohybem svazku částic po snímací dráze, zůstává svazek částic v klidu během návratu po dobu trvání kroku čekání v podstatě na stejném místě. Místo výskytu se v zásadě mění pouze z důvodu tlumené oscilace. Obecně je toto místo v blízkosti vstupního místa další sekvence.
Objasnění výkresů
Provedení vynálezu jsou následně popsána s odkazem na obrázky.
Obr. 1 zachycuje vzorový systém svazku částic;
Obr. 2 zachycuje pohyb svazku částic na povrchu předmětu;
Obr. 3 zachycuje způsob provozování systému svazku částic;
- 4 CZ 309905 B6
Obr. 4 zachycuje detaily prostorových vztahů během pohybu svazku částic po povrchu předmětu;
Obr. 5 zachycuje další vzorový systém svazku částic, jmenovitě snímací elektronový mikroskop; a
Obr. 6 zachycuje další vzorový systém svazku částic, jmenovitě snímací elektronový mikroskop v kombinaci se sloupcem iontového paprsku.
Příklady uskutečnění vynálezu
Obrázek 1 zachycuje vzorový systém 1 svazku částic vhodný pro provedení způsobů zde popsaných, zejména vhodný pro analýzu a/nebo zpracování předmětu 3. Systém 1 svazku částic může být například mikroskopem se svazkem částic.
Systém 1 svazku částic obsahuje sloupec 2 svazku částic. Sloupec 2 svazku částic obsahuje zdroj 5 částic konfigurovaný ke generování svazku 7 částic. Svazek 7 částic je například tvořen elektrony nebo ionty.
Sloupec 2 svazku částic dále obsahuje potlačovací elektrodu 9, na kterou může být použit elektrický potenciál tak, že pouze takové částice vygenerované zdrojem 5 částic mající dostatečně velkou kinetickou energii mohou projít otvorem 11 v potlačovací elektrodě 9.
Sloupec 2 svazku částic dále obsahuje urychlovací elektrodu 13, na kterou je použit elektrický potenciál na zrychlení částic procházejících otvorem 11 potlačovací elektrody 9 na předem stanovenou kinetickou energii.
Sloupec 2 svazku částic dále obsahuje částicovou optickou čočku 15 vhodnou pro zaměření svazku 7 částic.
Sloupec 2 svazku částic dále obsahuje vychylovací systém 17 vhodný pro vychýlení svazku 7 částic tak, že svazek 7 částic může být směrován na různá místa na povrchu předmětu 3.
Vychylovací systém 17 může být vhodný pro vychylování svazku 7 částic ve dvou směrech vzájemně kolmo orientovaných, dva směry dále kolmo orientované na hlavní osu 19 částicové optické čočky 15.
Systém 1 svazku částic dále obsahuje ovladač 21 vhodný pro řízení sloupce 2 svazku částic. Ovladač 21 je konfigurován k řízení zdroje 5 částic, elektrického potenciálu použitého na potlačovací elektrodu 9, elektrického potenciálu použitého na urychlovací elektrodu 13, vychylovacího systému 17 a částicové optické čočky 15.
Systém 1 svazku částic dále obsahuje detektor 23 vhodný pro detekci sekundárních částic 24 vygenerovaných interakcí svazku 7 částic s předmětem 3. Detektor 23 lze uspořádat vně nebo uvnitř sloupce 2 svazku částic.
Detektor 23 je vhodný pro výstup detekčního signálu představujícího množství a/nebo energii detekovaných sekundárních částic v závislosti na čase. Ovladač 21 může přijímat a zpracovávat detekční signál detektoru 23.
S odkazem na obr. 2 a 3 je níže popsán vzorový způsob provozu systému 1 svazku částic. Obr. 2 zachycuje, jak je svazek 7 částic posunován po povrchu 27 předmětu 3. Obr. 3 zachycuje vývojový diagram vzorového způsobu provozování systému 1 svazku částic. Předmětem způsobu je analyzovat a/nebo zpracovat oblast 25 povrchu 27 předmětu 3. Oblast 25 je definována
- 5 CZ 309905 B6 uzavřenou hraniční čárou 29 zobrazenou jako čerchovaná čára na obr. 2.
Způsob je založen na sekvenci, která je prováděna opakovaně v čase. V příkladu uvedeném na obr. 2 obsahuje způsob pět sekvencí, tzn. sekvence je provedena pětkrát. Tento malý počet sekvencí je zvolen pouze pro zjednodušené vysvětlení způsobu. V praxi je sekvence opakována mnohem častěji.
Sekvence obsahuje pohyb svazku 7 částic ze vstupního místa aktuální sekvence 31-1 až 31-5 do výstupního místa aktuální sekvence 33-1 až 33-5 po snímací dráze 35-1 až 35-5, přičemž jsou vstupní místo a výstupní místo umístěny na hraniční čáře 29 a přičemž je snímací dráha umístěna zcela uvnitř oblasti 25.
Sekvence dále obsahuje pohyb svazku 7 částic z výstupního místa aktuální sekvence 33-1 až 33-5 do vstupního místa další sekvence 31-2 až 31-5, 31-1 po návratové dráze 37-1 do 37-5, přičemž je vstupní místo další sekvence umístěna na hraniční čáře 29 a přičemž je návratová dráha zcela umístěna mimo oblast 25.
Vstupní místo 31-1 a výstupní místo 33-1 jsou přiřazeny prvnímu provedení sekvence, tzn. první sekvenci. Vstupní místo 31-2 a výstupní místo 33-2 jsou přiřazeny druhému provedení sekvence, tzn. druhé sekvenci. Vstupní místo 31-3 a výstupní místo 33-3 jsou přiřazeny třetímu provedení sekvence, tzn. třetí sekvenci. Vstupní místo 31-4 a výstupní místo 33-4 jsou přiřazeny čtvrtému provedení sekvence, tzn. čtvrté sekvenci. Vstupní místo 31-5 a výstupní místo 33-5 jsou přiřazeny pátému provedení sekvence, tzn. páté sekvenci.
Snímací dráha 35-1 první sekvence běží od vstupního místa 31-1 první sekvence do výstupního místa 33-1 první sekvence. Snímací dráha 35-2 druhé sekvence běží od vstupního místa 31-2 druhé sekvence do výstupního místa 33-2 druhé sekvence. Snímací dráha 35-3 třetí sekvence běží od vstupního místa 31-3 třetí sekvence do výstupního místa 33-3 třetí sekvence. Snímací dráha 35-4 čtvrté sekvence běží od vstupního místa 31-4 čtvrté sekvence do výstupního místa 33-4 čtvrté sekvence. Snímací dráha 35-5 páté sekvence běží od vstupního místa 31-5 páté sekvence do výstupního místa 33-5 páté sekvence.
Návratová dráha 37-1 první sekvence běží od výstupního místa 33-1 první sekvence do vstupního místa 31-2 druhé sekvence. Návratová dráha 37-2 druhé sekvence běží od výstupního místa 33-2 druhé sekvence do vstupního místa 31-3 třetí sekvence. Návratová dráha 37-3 třetí sekvence běží od výstupního místa 33-3 třetí sekvence do vstupního místa 31-4 čtvrté sekvence. Návratová dráha 37-4 čtvrté sekvence běží od výstupního místa 33-4 čtvrté sekvence do vstupního místa 315 páté sekvence. Návratová dráha 37-5 páté sekvence běží od výstupního místa 33-5 páté sekvence do vstupního místa 31-1 první sekvence.
První sekvence začíná směrováním svazku 7 částic na vstupní místo 31-1 první sekvence. Počínaje vstupním místem 31-1 první sekvence je svazek 7 částic posouván po snímací dráze 351 první sekvence do výstupního místa 33-1 první sekvence, přičemž je první snímací dráha umístěna zcela uvnitř oblasti 25 definované hraniční čárou 29. Z výstupního místa 33-1 první sekvence je svazek 7 částic posouván do vstupního místa další sekvence, tzn. do vstupního místa 31-2 druhé sekvence, přičemž je svazek 7 částic posouván po návratové dráze 37-1 první sekvence, která je zcela umístěna mimo oblast 25. První sekvence končí svazkem 7 částic, který dosáhne vstupního místa další sekvence, tzn. vstupního místa 31-2 druhé sekvence.
Druhá, třetí a čtvrtá sekvence jsou provedeny obdobně.
Pátá sekvence začíná nasměrováním svazku 7 částic na vstupní místo 31-5 páté sekvence. Ze vstupního místa 31-5 páté sekvence je svazek 7 částic posouván po snímací dráze 35-5 páté sekvence do výstupního místa 33-5 páté sekvence, přičemž pátá snímací dráha je umístěna zcela uvnitř oblasti 25 definované hraniční čárou 29. Z výstupního místa 33-5 páté sekvence je svazek
- 6 CZ 309905 B6 částic posouván do vstupního místa další sekvence, tzn. vstupního místa 31-1 první sekvence, přičemž je svazek 7 částic posouván po návratové dráze 37-5 páté sekvence, která je umístěna zcela mimo oblast 25. Pátá sekvence končí, když svazek 7 částic dosáhne vstupního místa další sekvence, tzn. vstupního místa 31-1 první sekvence. Protože příklad způsobu uvedeného na obr. 2 obsahuje pouze pět provedení sekvence, způsob po páté sekvenci končí. Alternativně může být způsob prováděn opakovaně, protože je svazek částic již opět nasměrován na vstupní místo 31-1 první sekvence.
V příkladu uvedeném na obr. 2 je oblast 25 snímána čára za čárou, přičemž žádné další snímací dráhy nejsou umístěny mezi snímacími drahami sekvencí prováděných přímo jedna po druhé. Tato snímací strategie slouží pro vysvětlení způsobu a lze využít mnoho různých snímacích strategií. Jiná snímací strategie je například proloženým snímáním, ve kterém je jedna nebo více snímacích drah umístěno mezi snímacími drahami sekvencí prováděných přímo za sebou.
Obr. 3 zachycuje vývojový diagram pro způsob popsaný v souvislosti s obr. 2, přičemž je způsob generalizován na N provedení sekvence, přičemž N je přirozené číslo. Generalizovaný způsob začíná v kroku S1 s prvním provedením sekvence, tzn. provedením první sekvence. Na obr. 3 je k zobrazení i-té sekvence a i-tého provedení sekvence v tomto pořadí použit sekvenční čítač „i“.
V kroku S2 je svazek 7 částic posunut z i-tého vstupního místa 31-i po i-té snímací dráze 35-i do i-tého výstupního místa 33-i, přičemž je i-tá snímací dráha 35-i umístěna zcela uvnitř oblasti 25.
V kroku S3, který následuje po kroku S2, je svazek 7 částic posunut z i-tého výstupního místa 33-i po i-té návratové dráze 37-i do i+1-tého vstupního místa 31-(i+1), přičemž je i-tá návratová dráha 37-i umístěna zcela mimo oblast 25. Takto i-tá sekvence končí. Pokud se v kroku S3 i rovná N, je svazek 7 částic posunut z N-tého výstupního místa 33-N po N-té návratové dráze 37N do prvního vstupního místa 31-1.
V kroku S4, který následuje po kroku S3, je sekvenční čítač „i“ navýšen o 1.
V kroku S5, který následuje po kroku S4, je stanoveno, zda byly provedeny všechny z N sekvencí určených k provedení, či nikoliv. Pokud všechny z N sekvencí určených k provedení byly provedeny (ne), způsob v kroku S6 končí. Alternativně lze způsob od začátku opakovat, tzn. pokračovat krokem S1. Pokud všechny z N sekvencí určených k provedení nebyly provedeny (ano), způsob v kroku S2 pokračuje.
V kroku S5 lze použít podmínku ukončení odlišnou od vzorové podmínky ukončení výše popsané.
Způsoby popsané ve spojení s obr. 2 a 3 vykonávají, že je svazek 7 částic systematicky posunován přes oblast 25. Detekováním sekundárních částic vygenerovaných interakcí svazku 7 částic s předmětem 3 lze oblast 25 analyzovat a/nebo zpracovat. Je zabráněno, aby svazek 7 částic zasáhl oblast 25 během návratu, přičemž lze zabránit negativním vlivům, protože je svazek částic posouván na začátek další snímací dráhy po návratových drahách 37-1 až 37-5, 37-i, které jsou umístěny zcela mimo oblast 25. Proto není nutné poskytnout zatemňovač svazku částic v systému 1 svazku částic, který pracuje tak, že svazek částic nezasáhne předmět během návratu svazku částic. Proto se lze vyhnout nákladům za zatemňovač svazku částic, protože jeho funkce lze dosáhnout výše popsanými způsoby.
Jak je znázorněno na obr. 2, každá z návratových drah 37-1 až 37-5 může obsahovat část 39 návratové dráhy, která je obsažena ve všech z návratových drah 37-1 až 37-5. V příkladu znázorněném na obr. 2 začíná část 39 návratové dráhy v místě 41 a končí v místě 43. Takto je svazek 7 částic směrován na nemnoho částí předmětu 3 během návratu, přičemž lze zmírnit negativní vlivy.
- 7 CZ 309905 B6
Během provedení způsobů popsaných v souvislosti s obr. 2 a 3 lze detekovat sekundární částice 24 vygenerované interakcí svazku 7 částic s předmětem 3. To znamená, že sekundární částice 24 jsou detekovány po dobu trvání každé sekvence. Na základě detekovaných sekundárních částic 24 lze generátorem 23 vygenerovat detekční signál, přičemž detekční signál představuje množství a/nebo energii detekovaných sekundárních částic v závislosti na čase. To znamená, že je detekční signál generován po dobu trvání každé sekvence. Na základě detekčního signálu lze generovat data, která tvoří základ pro analýzu a/nebo zpracování oblasti 25; data například představují obraz oblasti 25. Časově omezené části lze získat z detekčního signálu nepřetržitě vydávaného detektorem 23, přičemž jsou časově omezené části spojené s těmi sekundárními částicemi, které byly vygenerovány, například když se svazek 7 částic pohyboval po snímací dráze 35-1 až 35-5. Tudíž tyto části neobsahují příspěvky detekčního signálu, které jsou spojeny se sekundárními částicemi, které byly vygenerovány, když se svazek 7 částic pohyboval po jedné z návratových drah 37-1 až 37-5.
Podrobnosti vztahující se ke vstupním místům 31-1 až 31-5 sekvencí, výstupním místům 33-1 až 33-5 sekvencí a jejich prostorové uspořádání jsou popsány v souvislosti s obr. 4.
Oboustranná šipka 45 představuje vzdálenost mezi vstupním místem 31-1 první sekvence a výstupním místem 33-1 stejné sekvence. Na příkladu obr. 4 je vzdálenost mezi vstupním místem konkrétní sekvence a výstupním místem stejné sekvence stejná pro každou ze sekvencí. Tato vzdálenost však nemusí být pro všechny sekvence stejná. Tudíž se vzdálenost různých sekvencí může lišit. Vzdálenost představovaná šipkou 45 činí, pro minimálně jeden a maximálně všechny páry vstupních míst a výstupních míst stejné sekvence, například minimálně 50 nm, především minimálně 100 nm nebo dále především minimálně 200 nm.
V příkladu zachyceném na obr. 4 jsou vstupní místa 31-1 a 31-2 umístěna na hraniční čáře 29 přímo vzájemně přilehle; vstupní místa 31-2 a 31-3 jsou umístěna na hraniční čáře 29 přímo vzájemně přilehle; vstupní místa 31-3 a 31-4 jsou umístěna na hraniční čáře 29 přímo vzájemně přilehle; vstupní místa 31-4 a 31-5 jsou umístěna na hraniční čáře 29 přímo vzájemně přilehle.
Čím jsou vstupní místa umístěna blíže přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře 29, tím lépe lze oblast 25 analyzovat a/nebo zpracovat.
Šipka 47 představuje vzdálenost mezi vstupními místy umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře 29 (zde mezi vstupními místy 31-1 a 31-2). Vzdálenost činí, pro minimálně jeden a maximálně všechny páry vstupních míst umístěných vzájemně přilehle na hraniční čáře 29, například maximálně 200 nm, především maximálně 100 nm nebo především maximálně 10 nm.
V příkladu zachyceném na obr. 4 jsou výstupní místa 33-1 a 33-2 umístěna vzájemně přilehle na hraniční čáře 29; výstupní místa 33-2 a 33-3 jsou umístěna vzájemně přilehle na hraniční čáře 29; výstupní místa 33-3 a 33-4 jsou umístěna vzájemně přilehle na hraniční čáře 29; výstupní místa 33-4 a 33-5 jsou umístěna vzájemně přilehle na hraniční čáře 29. Čím jsou výstupní místa umístěna blíže přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře 29, tím lépe lze oblast 25 analyzovat a/nebo zpracovat.
Šipka 49 představuje vzdálenost mezi výstupními místy umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře 29 (zde mezi výstupními místy 33-1 a 33-2). Vzdálenost činí, pro minimálně jeden a maximálně všechny páry výstupních míst umístěných vzájemně přilehle na hraniční čáře 29, například maximálně 200 nm, především maximálně 100 nm nebo především maximálně 10 nm.
Šipky 47 a 49 mají v příkladu zachyceném na obr. 4 stejnou délku. Vzdálenosti mohou obecně mít různé délky.
Hraniční čára 29 má první souvislou část 51 naznačenou plnou čárou na koncích zakončenou kosočtverci. První souvislá část 51 obsahuje všechna vstupní místa 31-1 až 31-5. Hraniční čára
- 8 CZ 309905 B6 má druhou souvislou část 53 naznačenou plnou čárou na koncích zakončenou trojúhelníky. Druhá souvislá část 53 obsahuje všechna výstupní místa 33-1 až 33-5. První část 51 a druhá část 53 se nepřekrývají.
Způsoby zde popsané mohou být také provedeny systémy svazků částic popsanými s odkazem na obr. 5 a 6.
V perspektivním a schematicky zjednodušeném znázornění zachycuje obr. 5 systém 101 svazku částic obsahující systém 103 elektronového mikroskopu mající hlavní osu 105.
Systém 103 elektronového mikroskopu je konfigurován ke generování primárního elektronového svazku 119, který je vysílán podél hlavní osy 105 systému 103 elektronového mikroskopu a ke směrování primárního elektronového svazku 119 na předmět 113.
Systém 103 elektronového mikroskopu obsahuje, pro tvorbu primárního elektronového svazku 119, elektronový zdroj 121, který je schematicky znázorněn pomocí katody 123 a elektrody 125 odrušovače a elektrody 126 extraktoru, které jsou uspořádány v odstupu. Systém 103 elektronového mikroskopu dále obsahuje akcelerační elektrodu 127, která přechází do svazkové trubice 129 a prochází skrz uspořádání 131 kondenzátoru, což je schematicky znázorněno pomocí prstencové cívky 133 a jha 135. Poté, co primární elektronový svazek 119 prošel skrz uspořádání 131 kondenzátoru, prochází skrz štěrbinový otvor 137 a středový otvor 139 v sekundárním elektronovém detektoru 141, načež primární elektronový svazek 119 vstoupí do objektivové čočky 143 systému 103 elektronového mikroskopu. Objektivová čočka 143 obsahuje magnetickou čočku 145 a elektrostatickou čočku 147 pro zaměření primárního elektronového svazku 119. Ve schematickém zobrazení obr. 5 obsahuje magnetická čočka 145 prstencovitou cívku 149, interní sloupový kus 151 a externí sloupový kus 153. Elektrostatická čočka 147 je tvořena spodním koncem 155 svazkové trubice 129, interním spodním koncem externího sloupového kusu 153 a prstencovitou elektrodou 159, která se kónicky zužuje směrem k předmětu 113.
Ačkoliv tak není na obr. 5 zachyceno, systém 103 elektronového mikroskopu dále obsahuje vychylovací systém pro vychylování primárního částicového svazku 119 ve směrech kolmých k hlavní ose 105.
Systém 101 svazku částic dále obsahuje ovladač 177, který řídí provoz systému 101 svazku částic. Ovladač 177 především řídí provoz systému 103 elektronového mikroskopu.
V perspektivním a schematicky zjednodušeném znázornění zachycuje obr. 6 systém 102 svazku částic obsahující systém 107 iontového svazku mající hlavní osu 109 a systém 103 elektronového mikroskopu popsaný nad odkazem na obr. 5.
Hlavní osy 105 a 109 systému 103 elektronového mikroskopu a systém 107 iontového svazku se protínají v místě 111 v rámci sdílené pracovní oblasti v úhlu α, který může mít hodnotu například 45° až 55° nebo cca 90° s výsledkem, že předmět 113 určený k analýze a/nebo zpracování mající povrch 115 může být jak zpracován v oblasti místa 111 za použití iontového svazku 117, který je emitován podél hlavní osy 109 systému 107 iontového svazku, tak analyzován pomocí elektronového svazku 119, který je emitován podél hlavní osy 105 systému 103 elektronového mikroskopu. Pro přidržení předmětu 113 je poskytnut schematicky zobrazený držák 116, který může upravit předmět 113 s ohledem na jeho vzdálenost od a orientaci s ohledem na systém 103 elektronového mikroskopu a systému 107 iontového svazku.
Systém 107 iontového svazku obsahuje iontový zdroj 163 mající extrakční elektrodu 165, kondenzátor 167, zarážku 169, vychylovací elektrody 171 a zaměřovací čočku 173 pro vytvoření iontového svazku 117, který existuje v plášti 175 systému 107 iontového svazku. Podélná osa 109' držáku 116 je nakloněna s ohledem na svislici 105' v úhlu, který v tomto příkladu odpovídá
- 9 CZ 309905 B6 úhlu α mezi hlavními osami 105 a 109. Avšak směry 105' a 109' se nemusí shodovat s hlavními osami 105 a 109, a úhel, který svírají, nemusí odpovídat úhlu α mezi hlavními osami 105 a 109.
Systém 102 svazku částic dále obsahuje ovladač 277, který řídí provoz systému 102 svazku 5 částic. Ovladač 277 zejména řídí provoz systému 103 elektronového mikroskopu, systému 107 iontového svazku a držáku 116.
Claims (15)
1. Způsob provozování systému svazku částic, přičemž tento způsob obsahuje:
opakování sekvence pohybu svazku (7) částic po povrchu (27) předmětu (3), přičemž předmět (3) má na povrchu (27) oblast (25) definovanou virtuální uzavřenou hraniční čárou (29), přičemž sekvence obsahuje:
pohyb svazku (7) částic ze vstupního místa (31-1 až 31-5) aktuální sekvence do výstupního místa (33-1 až 33-5) aktuální sekvence po snímací dráze (35-1 až 35-5), přičemž jsou vstupní místo (31-1 až 31-5) aktuální sekvence a výstupní místo (33-1 až 33-5) aktuální sekvence umístěna na hraniční čáře (29) a přičemž je snímací dráha (35-1 až 35-5) umístěna zcela uvnitř uvedené oblasti (25), a pohyb svazku (7) částic z výstupního místa (33-1 až 33-5) aktuální sekvence do vstupního místa (31-2, 31-3, 31-4, 31-5, 31-1) další sekvence po návratové dráze (37-1 až 37-5), přičemž je vstupní místo (31-2, 31-3, 31-4, 31-5, 31-1) další sekvence umístěno na hraniční čáře (29) a přičemž je návratová dráha (37-1 až 37-5) umístěna zcela mimo uvedenou oblast (25), vyznačující se tím, že hraniční čára (29) má první souvislou část (51), v níž jsou umístěna vstupní místa (31-1 až 31-5), a druhou souvislou část (53), v níž jsou umístěna výstupní místa (33-1 až 335), přičemž první souvislá část (51) a druhá souvislá část (53) se nepřekrývají.
2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že svazek (7) částic nepřetržitě zasahuje povrch (27) předmětu (3) po dobu trvání každé sekvence.
3. Způsob podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že každá z návratových drah (37-1 až 37-5) sekvencí obsahuje část (39) návratové dráhy obsaženou ve všech návratových drahách (37-1 až 375).
4. Způsob podle nároku 3, vyznačující se tím, že délka části (39) návratové dráhy činí minimálně 30 %, především minimálně 50 %, délky nejkratší návratové dráhy, nebo přičemž délka části (39) návratové dráhy činí minimálně 30 %, především minimálně 50 %, délky nejkratší snímací dráhy sekvencí.
5. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že oblast (25) je obdélníková, a/nebo oblast (25) má plochu minimálně 100 nm2 nebo minimálně 1 μm2.
6. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že vstupní místo (31-1) sekvence sekvencí a výstupní místo (33-1) stejné sekvence jsou odděleny vzdáleností (45) minimálně 50 nm, především minimálně 100 nm, dále především minimálně 200 nm.
7. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že vzdálenost (47) mezi vstupními polohami umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře (31-1, 31-2) činí maximálně 200 nm, především maximálně 100 nm, dále především maximálně 10 nm.
8. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že vzdálenost (49) mezi výstupními polohami umístěnými přímo vzájemně přilehle na hraniční čáře (33-1, 33-2) činí maximálně 200 nm, především maximálně 100 nm, dále především maximálně 10 nm.
9. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že snímací dráhy (35-1 až 35-5) jsou v podstatě rovnými čárami.
10. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 9, vyznačující se tím, že střední hodnota délek snímacích drah (35-1 až 35-5) je menší než střední hodnota délek návratových drah (37-1 až 37-5).
- 11 CZ 309905 B6
11. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 10, vyznačující se tím, že dále obsahuje: definování oblasti (25);
generování řídicích signálů pro vychylovací systém (17) mikroskopu se svazkem částic založených na definované oblasti (25);
přičemž pohyb svazku (7) částic je realizován vychylovacím systémem (17).
12. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 11, vyznačující se tím, že dále obsahuje: detekování sekundárních částic (24) vygenerovaných interakcí svazku (7) částic s předmětem (3);
generování detekčního signálu představujícího množství a/nebo energii detekovaných sekundárních částic (24) v závislosti na čase; a především generování dat představujících obraz oblasti založený na detekčním signálu.
13. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 12, vyznačující se tím, že svazek (7) částic zůstává v klidu v množství klidových poloh, pokaždé po předem stanovenou klidovou dobu, během pohybu svazku (7) částic po snímacích drahách (35-1 až 35-5); nebo svazek (7) částic je nepřetržitě posouván během pohybu svazku (7) částic po snímacích drahách (35-1 až 35-5).
14. Systém (1) svazku částic, který zahrnuje:
- zdroj částic (5) pro generování svazku (7) částic;
- vychylovací systém (17) pro vychylování svazku (7) částic a jeho směrování do různých míst na povrchu předmětu (3), vyznačující se tím, že zahrnuje
- ovladač (21) pro řízení vychylovacího systému (17) nakonfigurovaný pro provádění způsobu podle kteréhokoliv z nároků 1 až 13.
15. Počítačový programový produkt, vyznačující se tím, že obsahuje pokyny, které, když jsou provedeny ovladačem, který řídí systém svazku částic, způsobí, že ovladač řídí systém svazku částic tak, že systém svazku částic provede způsob podle jednoho z nároků 1 až 13.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102019101155.8A DE102019101155A1 (de) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlsystems, Teilchenstrahlsystem und Computerprogrammprodukt |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ202022A3 CZ202022A3 (cs) | 2020-07-29 |
| CZ309905B6 true CZ309905B6 (cs) | 2024-01-24 |
Family
ID=71402550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2020-22A CZ309905B6 (cs) | 2019-01-17 | 2020-01-15 | Způsob provozování systému svazku částic, systém svazku částic, počítačový programový produkt |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11087957B2 (cs) |
| CZ (1) | CZ309905B6 (cs) |
| DE (1) | DE102019101155A1 (cs) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3900737A (en) * | 1974-04-18 | 1975-08-19 | Bell Telephone Labor Inc | Electron beam exposure system |
| JPS55141056A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Scanning method of electron beam and apparatus therefor |
| US20090244078A1 (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-01 | Kenichi Kanai | Method and apparatus for obtaining images by raster scanning charged particle beam over patterned substrate on a continuous mode stage |
| US20150371813A1 (en) * | 2014-06-24 | 2015-12-24 | Ebara Corporation | Surface processing apparatus |
| US20170309440A1 (en) * | 2016-04-26 | 2017-10-26 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method |
| DE112015006822T5 (de) * | 2015-09-29 | 2018-05-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ladungsträgerstrahlvorrichtung |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3922546A (en) | 1972-04-14 | 1975-11-25 | Radiant Energy Systems | Electron beam pattern generator |
| US7791022B2 (en) * | 2007-03-13 | 2010-09-07 | Advantest Corp. | Scanning electron microscope with length measurement function and dimension length measurement method |
| JP5188846B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-04-24 | 日本電子株式会社 | 走査型透過電子顕微鏡の収差補正装置及び収差補正方法 |
| US8569712B2 (en) * | 2010-10-07 | 2013-10-29 | Fei Company | Beam blanker for interrupting a beam of charged particles |
| EP2911180A1 (en) * | 2014-02-24 | 2015-08-26 | FEI Company | Method of examining a sample in a charged-particle microscope |
| EP3016130A1 (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-04 | Fei Company | Composite scan path in a charged particle microscope |
| EP3082150B1 (en) * | 2015-04-15 | 2017-07-19 | FEI Company | Method and scanning transmission type charged-particle microscope for performing tomographic imaging |
| JP6702807B2 (ja) * | 2016-06-14 | 2020-06-03 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および画像取得方法 |
| DE102018120630B3 (de) * | 2018-08-23 | 2019-10-31 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Bearbeiten eines Objekts und Programm zur Steuerung eines Partikelstrahlsystems |
| EP3657528A1 (en) * | 2018-11-26 | 2020-05-27 | FEI Company | Method of imaging a sample using an electron microscope |
-
2019
- 2019-01-17 DE DE102019101155.8A patent/DE102019101155A1/de active Pending
-
2020
- 2020-01-15 CZ CZ2020-22A patent/CZ309905B6/cs unknown
- 2020-01-16 US US16/744,517 patent/US11087957B2/en active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3900737A (en) * | 1974-04-18 | 1975-08-19 | Bell Telephone Labor Inc | Electron beam exposure system |
| JPS55141056A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Scanning method of electron beam and apparatus therefor |
| US20090244078A1 (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-01 | Kenichi Kanai | Method and apparatus for obtaining images by raster scanning charged particle beam over patterned substrate on a continuous mode stage |
| US20150371813A1 (en) * | 2014-06-24 | 2015-12-24 | Ebara Corporation | Surface processing apparatus |
| DE112015006822T5 (de) * | 2015-09-29 | 2018-05-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ladungsträgerstrahlvorrichtung |
| US20170309440A1 (en) * | 2016-04-26 | 2017-10-26 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam irradiation apparatus, multi charged particle beam irradiation method, and multi charged particle beam adjustment method |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| P. Grabbe: Simple flying spot scanner for electron beam lithography on a scanning electron microscope without beam blanking capability, Review of Scientific Instruments, Volume 51, Issue 7, DOI: 10.1063/1.1136327 , Published Online: 22 July 2008 , [retrieved on 2021-09-08], Retrieved from < https://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.1136327 > * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ202022A3 (cs) | 2020-07-29 |
| US11087957B2 (en) | 2021-08-10 |
| US20200234913A1 (en) | 2020-07-23 |
| DE102019101155A1 (de) | 2020-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL1025272C2 (nl) | Toestel werkend met een elektronenbundel en correctie van daarbij optredende aberratie. | |
| JP7356886B2 (ja) | 粒子ビームシステム及び粒子ビームシステムの動作方法 | |
| KR100768366B1 (ko) | 고전류 밀도 입자 빔 시스템 | |
| US9455120B2 (en) | Particle beam device and method for processing and/or analyzing a sample | |
| KR20210122161A (ko) | 동시 tem 및 stem 현미경 | |
| CN107818904B (zh) | 复合射束装置 | |
| US10504691B2 (en) | Method for generating a composite image of an object and particle beam device for carrying out the method | |
| KR20200113166A (ko) | 시료로부터 에너지 분석기 및 전자 분광계 장치로의 전자 전달 장치 및 방법 | |
| CZ2015517A3 (cs) | Zařízení pro hmotnostní spektrometrii | |
| KR20170009972A (ko) | 듀얼 빈 필터 모노크로메이터를 사용한 전자 빔 영상화 | |
| CN113466266A (zh) | 用于获取3d衍射数据的方法和系统 | |
| Weninger et al. | Temporal distortions in magnetic lenses | |
| KR101693536B1 (ko) | 하전입자선 장치 | |
| EP2355125B1 (en) | Particle beam device and method for operation of a particle beam device | |
| CZ309905B6 (cs) | Způsob provozování systému svazku částic, systém svazku částic, počítačový programový produkt | |
| EP2840588B1 (en) | Method for processing and/or for observing an object, and particle beam device for carrying out the method | |
| JPH025337A (ja) | 荷電粒子線装置及びこれによる試料観察方法 | |
| JP7284695B2 (ja) | 粒子ビーム系及び粒子ビーム系を操作する方法 | |
| US7645988B2 (en) | Substrate inspection method, method of manufacturing semiconductor device, and substrate inspection apparatus | |
| US11092557B2 (en) | Method for generating a result image | |
| US9202666B1 (en) | Method for operating a charged particle beam device with adjustable landing energies | |
| JP2020087895A (ja) | 荷電粒子ビームアレイの収束手段 | |
| KR101405897B1 (ko) | 기하 수차와 공간전하효과를 저감한 사상형 전자현미경 | |
| TW202341212A (zh) | 帶電粒子束裝置 | |
| JP2006302548A (ja) | 走査電子顕微鏡 |