CZ20012222A3 - Zasklívací tabule a způsob její výroby - Google Patents
Zasklívací tabule a způsob její výroby Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20012222A3 CZ20012222A3 CZ20012222A CZ20012222A CZ20012222A3 CZ 20012222 A3 CZ20012222 A3 CZ 20012222A3 CZ 20012222 A CZ20012222 A CZ 20012222A CZ 20012222 A CZ20012222 A CZ 20012222A CZ 20012222 A3 CZ20012222 A3 CZ 20012222A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- glazing panel
- elements
- mixture
- percent
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 56
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 53
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 37
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 62
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 7
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 claims 1
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 165
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 55
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 SiO 2 Chemical class 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 6-[5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-4,5-dihydro-1,2-oxazol-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC1CC(=NO1)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
- B32B17/10036—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets comprising two outer glass sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
- B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10761—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing vinyl acetal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3647—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer in combination with other metals, silver being more than 50%
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12896—Ag-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Description
Zasklívací tabule a způsob její výroby
Oblast techniky
Předmětný vynález se týká zasklívacích tabuli a zejména, avšak nejen, zasklívacích tabulí pro regulaci procházejícího slunečního záření, které jsou určeny pro podstoupení tepelné úpravy po aplikaci filtru pro regulaci průchodu slunečního záření.
Dosavadní stav techniky
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 233003A byla popsána zasklívací tabule nesoucí optický filtr nanesený pokovováním rozprašováním, který má následující strukturu: skleněný podkladový materiál/základní vrstva dielektrika tvořená SnO2/první kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/Ag/druhá kovová bariéra zahrnující Al, Ti, Zn, Zr nebo Ta/vnější vrstva dielektrika tvořená SnO2. Uvedený optický filtr je vytvořen s cílem blokovat podstatnou část dopadajícího záření v infračervené oblasti spektra a současně umožnit průchod podstatné části záření ve viditelné oblasti spektra. Takto vytvořený filtr slouží pro snížení ohřívacího účinku dopadajícího slunečního záření, přičemž zároveň unofňvje dobrou viditelnost skrz uvedenou zasklívací tabuli a takováto zasklívací tabule je zvlášť vhodná pro výrobu čelních skel automobilů.
Ve výše uvedeném typu struktury slouží vrstva stříbra pro odrážení dopadajícího infračerveného záření a aby mohla plnit tuto roli, musí mít tato vrstva spíše charakter kovového
4 4 4 • · · ♦ · 4 »··· • · · · · ··· • · ···· ··· ♦ • · · · φ ··· • · φ 4 Φ ·· 4 4· 444 stříbra než oxidu stříbra a nesmí být kontaminována přiléhajícími vrstvami. Vrstvy uvedeného dielektrika, které přiléhají k uvedené vrstvě stříbra z obou stran, slouží pro snížení odrazu záření ve viditelné oblasti spektra, který by jinak vyvolávala uvedená vrstva stříbra. Druhá kovová bariéra slouží pro zabráněni oxidace vrstvy stříbra během vytváření vnější vrstvy dielektrika, kterou tvoří SnO2, přičemž k vytváření této vrstvy dochází pokovováváním rozprašováním v oxidační atmosféře; při uvedeném procesu dochází k alespoň částečné oxidaci uvedené kovové bariéry. Hlavním úkolem první kovové bariéry je zabránit oxidaci vrstvy stříbra během tepelné úpravy uvedeného optického filtru, naneseného na skleněné tabuli (tj. během ohýbání a/nebo temperování této skleněné tabule), přičemž ochranný účinek této vrstvy spočívá v tom, že při uvedených tepelných úpravách dochází spíše k oxidaci této vrstvy než k umožnění průchodu kyslíku až k vrstvě stříbra. Tato oxidace uvedené kovové vrstvy během tepelné úpravy skla vyvolává zvýšení hodnoty TL dané zasklívací tabule.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 792847A byla popsána tepelně upravitelná zasklívací tabule pro regulaci průchodu slunečního záření, která byla vytvořena na stejném principu a měla následující strukturu: skleněnj podkladový mateřiAJ/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO/Zn bariéra/ Ag/Zn bariéra/vrstva dielektrika tvořená ZnO. Zinkové (Zn) bariéry, které se nacházejí pod každou vrstvou stříbra jsou určeny k tomu, aby došlo k jejich úplné oxidaci během tepelné úpravy takovéto skleněné tabule a slouží pro ochranu vrstvy stříbra před oxidací. V dané oblasti techniky je rovněž známo, ·· ···· ·· · ♦· · ··
Q 9 9 ··♦*·· ‘
Ο 9 9 9 9 9 9 9 · 9 9 9 9 9 9 9
9 9 9 9 9 9
99999 99 9 99 že zvýšeni selektivity daného optického filtru je možné dosáhnout spise pomocí uvedené struktury obsahující dvě, vzájemně oddělené vrstvy stříbra než pomocí struktury obsahující jedinou vrstvu stříbra.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 718250A bylo popsáno použití vrstvy, která zajišťuje bariérovou funkci proti difúzi kyslíku, přičemž v tomto typu vrstveného filtru tvoří tato vrstva alespoň část vnější vrstvy dielektrika. Aby takováto vrstva tvořila účinnou bariéru, musí mít tloušťku alespoň 100 Á a výhodně má tloušťku alespoň 200 Á, přičemž tato vrstva může zahrnovat sloučeniny křemíku, jako je SiO2, SiOxCy, SiOxNy, nitridy, jako je Si3N4 nebo A1N, karbidy, jako je SiC, TiC, CrC a TaC.
Ve zveřejněné evropské patentové přihlášce číslo
EP 279550A bylo popsáno pokovovávání rozprašováním směsných Al/Si surovin, které obsahovaly 6 hmotnostních procent až 18 hmotnostních procent křemíku (Si), za účelem vytvoření tvrdé nebo korozi odolné krycí vrstvy vrstveného povlaku.
Podstata vynálezu
Pokud z kontextu nevyplývá jinak, mají v následujícím textu jednotlivé zkratky, symboly a vzorce následující význam:
a* | souřadnice chromatičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
Ag | stříbro |
• · · ·
Al | hliník | |
AI2O3 | oxid hlinitý | |
A1N | nitrid hlinitý | |
b* | souřadnice chromatičnosti měřená na stupnici CIELab při normálním dopadu záření | |
B | bor | |
Bi | bismut | |
Cr | chrom | |
zákal | procento propouštěného světla procházejícího skrz vzorek, které se liší od dopadajícího paprsku rozptylem v předním směru, stanovené podle standardu ASTM D 1003-61 (který byl novelizován v roce 1988) | |
Hf | hafnium | |
materiál odrážející infračervené záření | materiál, jehož koeficient odrazu v oblasti vlnových délek od 780 nanometrů do 50 mikrometrů je větší než koeficient odrazu sodnovápenatého skla | |
Na | sodík | |
Nb | niob | |
NíCr | slitina nebo směs obsahující nikl a chrom | |
NiTi | slitina nebo směs obsahující nikl a titan |
···· • · · · · · · • · · ♦ · · ·· · ·· ···
RE | odraz energie | množství slunečního zářeni (viditelného nebo neviditelného) odraženého od podkladového materiálu, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
RS | odolnost fólie měřená metodou čtyřbodové sondy | |
RV | koeficient odrazu světelného záření | |
Sb | antimon | |
selektivita | poměr množství propouštěného viditelného slunečního záření ku slunečnímu faktoru, tj. poměr TL/TE | |
Si°2 | oxid křemičitý | |
S13N4 | nitrid křemičitý | |
SnO2 | oxid cíničitý | |
Ta | tantal | |
TE | propustnost energie | množství slunečního záření (viditelného nebo neviditelného) procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího slunečního záření |
Ti | titan | |
TL | propas unos0 viditelného záření | množství viditelného záření procházející podkladovým materiálem, vyjádřené jako procento dopadajícího viditelného záření |
Zn | zinek | |
ZnAl | slitina nebo směs obsahující zinek a hliník |
·· · · · · · · ···· • · · · · · • · · · ·
ZnAlOx | směsný oxid obsahující zinek a hliník | |
ZnAlOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a hliník | |
ZnO | oxid zinečnatý | |
ZnTi | slitina nebo směs obsahující zinek a titan | |
ZnTiOx | směsný oxid obsahující zinek a titan | |
ZnTiOy | částečně zoxidovaná směs obsahující zinek a titan | |
Zr | zirkonium |
Chemické značky, které nejsou uvedeny v této tabulce, jsou použity v souladu s periodickou soustavou prvků.
Jednotlivými aspekty předmětného vynálezu jsou zasklívací tabule, jejichž definice jsou uvedeny níže v patentových nárocích 1, 2, 3 a 4.
Pro nanášení jednotlivých vrstev povlaku podle předmětného vynálezu je možné použít jakoukoli vhodnou metodu nebo jakoukoli vhodnou kombinaci těchto metod. Tak například je možné použít odpařování (pomocí tepla nebo elektronového svazku), kapalinovou pyrolýzu, chemické vylučování z plynné fáze, vakuové nanášeni a pokovovávárí rozprašováním, zejména magnetronové pokovovávání rozprašováním, které se při provádění tohoto vynálezu používá zvlášť výhodně. Jednotlivé vrstvy vrstveného povlaku podle předmětného vynálezu je možné nanášet různými způsoby.
·· · ·· · •Φ φφφφ
Uvedená vrstva směsného nitridu obsahující hliník může zahrnovat „čistý nitrid, oxynitrid, karbonitrid nebo oxykarbonitrid. Tato vrstva směsného nitridu obsahující hliník může být nanášena pokovovávánim rozprašováním vhodné suroviny v dusíkové atmosféře. V alternativním případě může být tato vrstva nanášena pokovovávánim rozprašováním vhodné suroviny v atmosféře tvořené směsí argonu a dusíku.
Upřednostnění použití směsného nitridu, který obsahuje hliník, před použitím čistého nebo nedopovaného nitridu hlinitého (A1N) je možné využít pro zajištění dobré odolnosti vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu proti oxidaci a/nebo proti vlhkosti. K tomuto zvýšení odolnosti dochází zejména pokud uvedený směsný nitrid obsahující hliník tvoří část vnější antireflexní vrstvy, zejména pak pokud tvoří vrstvu, která je vystavena působení okolního prostředí.
Má se za to, že vrstva směsného nitridu obsahující hliník, která je obsažena v základní antireflexní vrstvě podle tohoto vynálezu, slouží nejen pro blokování kyslíku, ale také pro blokování sodných a jiných iontů, které mohou difundovat ze skla do vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu a způsobit tak zhoršení optických a elektrických vlastností dané zasklívací tabule, zejména pokud je tato zasklívací tabule podrobena tepelné úpravě.
Zvlášť dobrých výsledků je možné dosáhnout pokud uvedeným dalším prvkem X je jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující křemík (Si), zirkonium (Zr), hafnium (Hf), titan (Ti), niob (Nb) a bor (B), zejména křemík (Si) nebo křemík (Si) a zirkonium (Zr). Pokud uvedená vrstva směsného nitridu «· ···· • · · · · · zahrnuje hliník (Al) a křemík (Si), může být jejich vzájemný atomový poměr Si/Al v rozmezí od přibližně 0,2 do 4, výhodně od 0,4 do 3,5. Pokud uvedená vrstva směsného nitridu zahrnuje hliník (Al), křemík (Si) a zirkonium (Zr), může být vzájemný atomový poměr Si/Al přibližně 0,5 a atomový poměr Zr/Al může být přibližně 0,2.
O oxidu křemičitém (SiO2) a oxidu hlinitém (A12O3) je známo, že slouží jako účinné bariéry pro zabránění difúze sodných iontů do vrstvených povlaků nanesených pokovováním rozprašováním. Kromě toho, že vrstva směsného nitridu se nanáší pokovováním rozprašováním snadněji, rychleji a s menšími náklady, se má za to, že vrstva směsného nitridu obsahující hliník, tvořící část základní vrstvy dielektrika podle předmětného vynálezu, tvoří účinnou bariéru proti difúzi jak sodných iontů, tak proti difúzi kyslíku. Dále se má za to, že uvedená vrstva směsného nitridu obsahující hliník může zajistit účinnou bariéru proti uvedené difúzi již při menší geometrické tloušťce než je tloušťka potřebná pro zajištění stejné funkce v případě dosud známých materiálů. Tak například dobrou tepelnou odolnost, s ohledem k difúzi iontů a kyslíku z daného skleněného podkladového materiálu, je možné propůjčit vrstvenému povlaku podle tohoto vynálezu vytvořením vrstvy směsného nitridu obsahující hliník o geometrické tloušťce větší než 30 Áz například o geometrické tloušťce větší než nebo přibližně 50 Á, 80 Á nebo 90 A, přičemž takto vytvořená vrstva směsného nitridu tvoří alespoň část základní antireflexní vrstvy podle předmětného vynálezu, a to zejména pokud vrstvený povlak podle tohoto vynálezu obsahuje také bariérovou vrstvu, jako je například kovová nebo suboxidová bariérová vrstva, která je nanesena pod uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření. I v případě absence takovéto bariérové vrstvy, která je nanesena pod uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření, je možně propůjčit vrstvenému povlaku podle tohoto vynálezu dobrou tepelnou odolnost, s ohledem k difúzi iontů a kyslíku z daného skleněného podkladového materiálu, vytvořením vrstvy směsného nitridu obsahující hliník o geometrické tloušťce větší než 30 Á, výhodně větší než 50 Á, 80 Á nebo 90 Á, například vytvořením vrstvy o tloušťce přibližně 100 Á, přičemž tato vrstva tvoří alespoň část základní antireflexní vrstvy podle tohoto vynálezu. Uvedená vrstva směsného nitridu obsahující hliník může propůjčit výhodné vlastnosti ještě i v případě, že je tenčí než 195 Á.
Již zmíněná schopnost blokovat difúzi iontů a kyslíku ze skleněného podkladového materiálu pomocí poměrně tenké vrstvy zajišťuje velkou flexibilitu uvedených materiálů a tloušťky ostatních vrstev obsažených ve vrstveném povlaku podle předmětného vynálezu.
Nanášení vrstvy jak nitridu křemičitého (S13N4), tak nitridu hlinitého (A1N) pomocí běžného pokovovávání rozprašováním trvá delší dobu než nanášení oxidů, které se tradičně používají při vytváření takovýchto nanesených vrstev, jejichž příkladem je oxid zinečnatý (ZnO) nebo oxid cíničitý (SnO2) . Již zmíněná schopnost poskytnout dobrou tepelnou stabilitu pomocí relativně tenké vrstvy směsného nitridu obsahující hliník podle tohoto vynálezu tak zmirňuje omezující vliv nanášení takovéto vrstvy na celý proces nanášení.
φ« φ*φ» «* φφφφ »w • φ φφφ φφφ «φφφ φ ·· * »· >*·
Optická tloušťka antireflexních vrstev podle tohoto vynálezu, zejména vnější antireflexní vrstvy, je určující při stanovení zabarvení zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Pokud dochází k oxidaci části antireflexní vrstvy, například během tepelné úpravy uvedené zasklívací tabule, potom je možné uvedenou optickou tloušťku modifikovat zejména pomocí Si3N4 (jehož index lomu je přibližně 2), protože Si3N4 je možné oxidovat na S1O2 (jehož index lomu je přibližně 1,45). V případě, že uvedená antireflexní vrstva zahrnuje vrstvu směsného nitridu obsahující hliník, jehož nitrid má index lomu přibližně 1,7, oxidace části tohoto nitridu na AI2O3 (jehož index lomu je přibližně 1,7) má zanedbatelný efekt na optickou tloušťku uvedené vrstvy.
Možnost použití vrstvy směsného nitridu obsahující hliník, která je tenčí než 100 Á, pro vytvoření účinné tepelné bariéry zajišťuje výraznou flexibilitu ve volbě celkové struktury vnější antireflexní vrstvy. Vrstva zahrnující směsný nitrid obsahující hliník může mít tloušťku přibližně 85 A; což představuje kompromis mezi dobrou tepelnou odolností a tloušťkou dané vrstvy. Uvedená vrstva zahrnující směsný nitrid obsahující hliník může mít tloušťku rovnou nebo větší než přibližně 50 Á, 60 Á nebo 80 Á; přičemž její tloušťka může být rovna nebo menší než přibližně 85 Á, 90 Á nebo 95 Á.
Uvedené atomové poměry X/Al, které jsou definovány v patentových nárocích, mohou poskytnout dobrou kombinaci tepelné a chemické odolnosti vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu, a to zejména pokud dalším prvkem X je křemík (Si), zirkonium (Zr) nebo křemík (Si) a zirkonium (Zr). Hodnota atomového poměru X/Al může být v rozmezí od 0,2 do 5, výhodně • ·
v rozmezí od 0,4 do 3,5 nebo v rozmezí od 0,4 do 2,5. Zvlášť neočekávatelný je fakt, že je možné zajistit dobrou kombinaci tepelné a chemické odolnosti použitím vrstvy nitridu obsahující v podstatě jen hliník (AI) a křemík (Si), která tvoří část vnější antireflexní vrstvy a ve které je atomový poměr Si/Al roven nebo větší než 0,45, přičemž tuto skutečnost nelze nijak vyvozovat z dosavadního stavu techniky. Atomový poměr X/Al může být roven nebo větší než 0,1, 0,2, 0,4, 0,45, 0,5, 0,7, 1, 1,5 nebo 2; tento poměr může být roven nebo menší než 6, 5,5, 5, 4,5, 4, 3,5, 3, 2,5 nebo 2.
Materiálem pro odrážení infračerveného záření podle předmětného vynálezu může být stříbro nebo slitiny stříbra, jako je například slitina stříbra obsahující jako další prvek jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující palladium (Pd), zlato (Au) a měď (Cu). Takovýto další prvek může být v uvedené slitině stříbra přítomen v atomovém poměru od 0,3 procenta do 10 procent, výhodně od 0,3 procenta do 5 procent a výhodněji, zejména pokud uvedeným dalším prvkem je palladium (Pd), od 0,3 procenta do 2 procent, vztaženo na celkové množství stříbra a dalšího kovu.
Jedna nebo více z uvedených antireflexních vrstev může zahrnovat oxid, nitrid, karbid nebo jejich směs. Antireflexní vrstva pocíle předmětného vynálezu může zahrnovat například: oxid jednoho nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující zinek (Zn), titan (Ti), cín (Sn), křemík (Si), hliník (Al), tantal (Ta) nebo zirkonium (Zr); oxid zinku obsahující hliník (Al), galium (Ga), křemík (Si) nebo cín (Sn) nebo oxid india obsahující cín (Sn);
nitrid jednoho nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující křemík (Si), hliník (Al) a bor (B) nebo směs (včetně směsného nitridu) nitridu zirkonia (Zr) nebo titanu (Ti) s jedním z výše uvedených nitridů;
směsnou sloučeninu, jako je například SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy nebo SiAlxOyNz.
Antireflexní vrstva podle předmětného vynálezu může být tvořena jedinou vrstvou nebo může obsahovat dvě nebo více vrstev, které se od sebe liší svým složením. Zvlášť výhodně se používá oxid zinku, výhodně oxid zinečnatý obsahující alespoň jeden z prvků vybraných ze skupiny zahrnující cín (Sn), chrom (Gr), křemík (Si), bor (Β) , hořčík (Mg), indium (In), galium (Ga) a výhodně hliník (Al) a/nebo titan (Ti), protože použití takovýchto materiálů usnadňuje vytvoření stabilní přilehlé vrstvy s vysokou krystalinitou, která odráží infračervené záření.
Vrstvený povlak podle předmětného vynálezu může obsahovat bariérovou vrstvu, která překrývá vrstvu odrážející infračervené záření a/nebo bariérovou vrstvu, která leží pod uvedenou vrstvou odrážející infračervené záření. Tyto bariérové vrstvy mohou zahrnovat jeden nebo více kovů a mohou být nanášeny například ve formě oxidů kovů, ve formě suboxidů kovů a v kovové formě.
Vytvořením vrstvy oxidu kovu mezi vrstvou směsného nitridu obsahující hliník a vrstvou materiálu odrážejícího infračervené záření (zejména pokud je tímto materiálem stříbro nebo slitina stříbra) je možné spolu kombinovat tepelnou « * ···· ·· · • · · · · ·· • · · ♦ · · • · · · · · ·· * ♦ · ·· stabilitu vrstvy směsného nitridu obsahující hliník a materiálu, který byl použit na vytvoření této vmezeřené vrstvy, což podporuje krystalizaci uvedeného materiálu odrážejícího infračervené záření, takže je možné vhodně vyvážit vlastnosti vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu týkající se odrážení infračerveného záření se zákalem tohoto povlaku, a to zejména pokud je tento vrstvený povlak podroben tepelné úpravě. Jedním z výhodných oxidů, které se používají pro vytváření shora uvedené vmezeřené vrstvy, je směsný oxid zinku a hliníku, ve kterém je výhodně atomový poměr Al/Zn přibližně 0,1. Jedním z možných vysvětlení pro tuto skutečnost může být, že přítomnost hliníku ve struktuře oxidu zinečnatého může redukovat růst krystalických zrn ve vrstvě vytvořené z tohoto směsného oxidu.
Již zmíněná účinnost relativně tenké vrstvy směsného nitridu obsahující hliník při propůjčování tepelné stability umožňuje použití relativně silných vrstev shora uvedeného oxidu.
Pojmem „tepelně upravitelná zasklívací tabule se v tomto textu rozumí, že daná zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, je upravena tak, aby mohla být podrobena ohýbání a/nebo tepelnému temperování a/nebo tepelnému vytvrzování a/rebo jinému procesu tepelné úpravy, aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,5, výhodně aniž by zakalení takto upravené zasklívací tabule přesáhlo hodnotu 0,3. Pojmem „v podstatě nezahalený tepelně upravený zasklívací panel se v tomto textu rozumí zasklívací tabule s naneseným vrstveným povlakem, která byla po nanesení uvedeného vrstveného povlaku podrobena ohýbání a/nebo φφφ · • · φ · · · · • · Ο Φ · · φ · · φ φ · • · · · · ·· · tepelnému temperováni a/nebo tepelnému vytvrzování a/nebo jinému procesu tepelné úpravy, přičemž zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,5, výhodně zakalení takto upravené zasklívací tabule nepřesahuje hodnotu 0,3. Takovéto procesy tepelné úpravy mohou zahrnovat zahřívání zasklívací tabule, na které je nanesen vrstvený povlak, nebo vystavení takovéto tabule teplotám vyšším než přibližně 560 °C, jako je například vystavení uvedené tabule teplotě v rozmezí od 560 °C do 700 °C, v normální atmosféře. Dalším takovýmto procesem tepelné úpravy může být slinování keramického nebo smaltového materiálu, uzavírání dvojité zasklívací jednotky ve vakuu a žíháni nízkoreflexní vrstvy nebo antioslňující vrstvy nanášené mokrou cestou. Uvedený proces tepelné úpravy, zejména pak pokud se jedná o ohýbání a/nebo tepelné temperování a/nebo tepelné vytvrzování, může probíhat při teplotě alespoň 600 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, při teplotě alespoň 620 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut, nebo při teplotě alespoň 640 °C po dobu alespoň 10 minut, 12 minut nebo 15 minut.
Tepelná úprava může vyvolat zvýšení hodnoty TL zasklívací tabule podle tohoto vynálezu. Takovéto zvýšení hodnoty TL může být výhodné při zajišťování dostatečně vysoké hodnoty TL zasklívací tabule podíle tohoto vynálezu, která se používá například pro výrobu čelních skel automobilů. Hodnota TL může být během tepelné úpravy zvýšena například o více než přibližně 2,5 procenta, o více než přibližně 3 procenta, o více než přibližně 5 procent, o více než přibližně 8 procent nebo o více než přibližně 10 procent.
Dalším aspektem předmětného vynálezu je způsob výroby zasklívací tabule, jejíž vlastnosti jsou definovány níže uvedeným patentovým nárokem 19. Tento způsob může být použit například pro výrobu tepelně upravených zasklívacích tabulí, jejichž zákal je menší než přibližně 0,5, výhodně menší než přibližně 0,3, které jsou vhodné pro použití například v architektuře, v automobilovém průmyslu a v jiných průmyslových aplikacích.
Stručný popis obrázků na výkresech
Na obrázku 1 je znázorněn průřez zasklívací tabulí podle předmětného vynálezu před jejím ohnutím a tepelnou úpravou (pro jednoduchost nejsou tloušťky uvedené zasklívací tabule a jednotlivých nanesených vrstev zobrazeny v odpovídajících poměrech).
Příklad 1
Níže uvedené příklady jsou popsány s odkazem na obrázek 1. Na obrázku 1 je znázorněn tepelně upravitelný vrstvený povlak obsahující dvě stříbrné vrstvy, který je nanesen na skleněném podkladovém materiálu, přičemž k jeho vytvoření bylo použito magnetronové pokovovávání rozprašováním a tento povlak měl následující sekvenční strukturu:
• · • · · ·
Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
Základní vrstva | |||
dielektrika zahrnující: | 11 | ||
AlSixNy | 12 | 40 A | Si/Al =0,5 |
ZnAlOx | 13 | 260 Á | Al/Zn = 0,1 |
Podkladová bariéra ZnAlOy | 14 | 10 Á | Al/Zn =0,1 |
Ag | 15 | 100 A | |
Vrchní bariéra ZnAlOy | 16 | 12 Á | Al/Zn =0,1 |
Střední vrstva | |||
dielektrika zahrnující: | |||
ZnAlOx | 17 | 770 Á | Al/Zn =0,1 |
Podkladová bariéra ZnAlOy | 18 | 7 Á | Al/Zn =0,1 |
Ag | 19 | 100 Á | |
Vrchní bariéra ZnAlOy | 20 | 17 Á | Al/Zn =0,1 |
Vnější vrstva | |||
dielektrika zahrnující: | 21 | ||
ZnAlOx | 22 | 185 Á | Al/Zn =0,1 |
AlSixNy | 23 | 75 Á | Si/Al =0,3 |
Přičemž AlSixNy je směsný nitrid obsahující hliník (Al) a křemík (Si), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovovávánim rozprašováním, při kterém se jako surovina používala směs hliníku (Al) a křemíku (Si), v přítomnosti dusíku a argonu.
• · · · • · · · · · « · · · < · · * * · « · · · · « · ··«· · · · · • « · < · ··· ····· <· · ·· ···
ZnAlOx je směsný oxid obsahující zinek (Zn) a hliník (Al), který byl v tomto případě nanesen reaktivním pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al), v přítomnosti kyslíku. Podobně byly ZnAlOy bariéry naneseny pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala slitina nebo směs zinku (Zn) a hliníku (Al) , v kyslíkové atmosféře obohacené argonem za účelem nanesení bariérové vrstvy, která není zcela zoxidována.
V alternativním případě bylo možné vytvořit vrstvu směsného oxidu ZnAlOx pokovováváním rozprašováním, při kterém se jako surovina používala směs oxidu zinečnatého a oxidu hliníku, zejména v argonové atmosféře nebo v kyslíkové atmosféře obohacené argonem.
Pokud bariérové vrstvy podle tohoto vynálezu zahrnují stejné materiály jako vrstva vytvořená ze směsného oxidu, zejména jako přiléhající vrstva vytvořená ze směsného oxidu, může být usnadněna manipulace se surovinami a kontrola skladovacích podmínek a dále může být tímto způsobem zajištěna dobrá přilnavost mezi uvedenými vrstvami a tím i dobrá mechanická odolnost vytvořeného vrstveného povlaku.
Oxidační stav ve všech uvedených (tj. v základní, střední a vnější) vrstvách dielektrika zahrnujících ZnAlOx nemusel být nezbytně stejný. Podobně oxidační stav ve všech uvedených bariérových vrstvách zahrnujících ZnAlOy nemusel být stejný. Stejně tak nemusel být poměr Al/Zn stejný ve všech uvedených vrstvách; tak například uvedené bariérové vrstvy mohly obsahovat jiný poměr Al/Zn než uvedené antireflexní • ♦ * · · · · • » ··· · · · • · · · · · · · · · • · · · · · · ♦ ····· · · · ·· · ·· dielektrické vrstvy a tyto antireflexní dielektrické vrstvy se mohly od sebe vzájemně lišit hodnotou poměru Al/Zn.
Každá z uvedených vrchních bariérových vrstev chránila odpovídající vrstvu stříbra, kterou překrývala, před oxidaci během nanášení vrstvy ZnAlOx, která překrývala tuto bariérovou vrstvu, přičemž k nanášení uvedené oxidové vrstvy docházelo pokovováváním rozprašováním. I když k další oxidaci těchto bariérových vrstev mohlo dojit během nanášení vrstev oxidu, které je překrývaly, část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala formu oxidu, který nebyl zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto přikladu byla určená zejména pro zabudováni do laminovaných skel, která se používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
TL (iluminant A) | 65 procent | 76 procent |
TE (systém Moon 2) | 40 procent | 43 procent |
zákal | 0,1 | 0,2 |
a* | -15 (na straně povlaku) | -2 (na vnější straně) |
b* | +1 (na straně povlaku) | -10 (na vnější straně) |
RE (systém Moon 2) | 29 procent (na straně povlaku) | 31 procent (na vnější straně) |
* ·
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 650 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úprava ve výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
Základní vrstva dielektrika zahrnující: AISixNy (částečně zoxidovaný) ZnAlOx | 11 12 13 | 40 Á 260 Á | Si/Al =0,5 Al/Zn =0,1 |
ZnAlOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 14 | 10 - 16 Á | Al/Zn =0,1 |
Ag | 15 | ioo A | |
ZnA/Ox (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 14 - 20 A | Al/Zn =0,1 |
Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 770 Á | Al/Zn =0,1 |
ZnAlOx (zoxidovaná podkladová bariéra) | 18 | 7 - 12 Á | Al/Zn = 0,1 |
• · ··· · • · fc ·
Ag | 19 | 100 Á | |
ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 20 - 28 Á | Al/Zn =0,1 |
Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AISixNy (částečně zoxidovaný) | 21 22 23 | 185 Á 75 Á | Al/Zn =0,1 Si/Al =0,3 |
Uvedené (částečně zoxidované) vrstvy AISixNy mohly zahrnovat směs nitridu hlinitého (A1N), nitridu křemičitého (SÍ3N4) , oxidu hlinitého (AI2O3) a oxidu křemičitého (S1O2) , přičemž k částečné oxidaci AISixNy docházelo při uvedeném procesu tepelné úpravy. Uvedené bariérové vrstvy nemusely být nezbytně zcela zoxidovány a jejich tloušťka byla závislá do jisté míry na stupni jejich oxidace.
Přiklad 2
Příklad 2 je podobný příkladu 1 s tím, že bylo vynecháno vytvoření podkladových bariérových vrstev. Vrstvený povlak nanesený na skleněné tabuli měl v tomto případě následující strukturu a vlastnosti:
·♦· · ·· ·· 4
Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
Základní vrstva dielektrika zahrnující: AISixNy ZnAlOx | 11 12 13 | 85 A 240 Á | Si/Al =0,8 Al/Zn =0,1 |
Ag | 15 | 100 Á | |
Vrchní bariéra ZnAl | 16 | 10 A | Al/Zn =0,1 |
Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 800 Á | Al/Zn =0,1 |
Ag | 19 | 115 Á | |
Vrchní bariéra ZnAl | 20 | 15 Á | Al/Zn =0,1 |
Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AISixNy | 21 22 23 | 150 Á 80 Á | Al/Zn =0,1 Si/Al =0,8 |
Alespoň část vrchních bariérových vrstev 16 a 20 byla zoxidována během nanášeni vrstev oxidu, které je překrývaly Nicméně část těchto bariérových vrstev si výhodně zachovala kovovou formu nebo alespoň formu oxidu, který není zcela zoxidován, takže tato vrstva mohla sloužit jako bariéra při následné tepelné úpravě dané skleněné tabule.
Zasklívací tabule podle tohoto příkladu byla určená zejména pro zabudování do laminovaných skel, která se
• ♦ · · é 9 9 ·· · používají jako čelní skla automobilů, a vykazovala následující vlastnosti:
Vlastnost | Před tepelnou úpravou1 | Po tepelné úpravě2 |
TL (iluminant A) | 67 procent | 77 procent |
TE (systém Moon 2) | 38 procent | 44 procent |
zákal | 0,1 | 0,21 |
a* | -10 (na straně povlaku) | -3 (na vnější straně) |
b* | + 18 (na straně povlaku) | -7 (na vnější straně) |
RE (systém Moon 2) | 27 procent (na straně povlaku) | 32 procent (na vnější straně) |
Měřeno pro monolitickou zasklívací tabuli s naneseným povlakem před její tepelnou úpravou.
2 Měřeno po skončení tepelné úpravy, která byla prováděna minut při teplotě 625 °C, přičemž po uplynutí této doby byla tabule postupně ohnuta, temperována a laminována skleněnou tabulí o tloušťce 2 milimetry a čirou fólií PVB o tloušťce 0,76 milimetru.
Tepelná úpravt va výhodném provedení způsobila v podstatě úplnou oxidaci všech bariérových vrstev, takže vrstvený povlak po tepelné úpravě měl následující strukturu:
Vztahová značka | Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 10 | 2 milimetry | |
Základní vrstva dielektrika zahrnující: AISixNy (částečně zoxidovaný) ZnAlOx | 11 12 13 | 85 Á 240 Á | Si/Al = 0,8 Al/Zn =0,1 |
Ag | 15 | 100 Á | |
ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 16 | 12 - 20 Á | Al/Zn =0,1 |
Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 17 | 800 Á | Al/Zn =0,1 |
Ag | 19 | 115 A | |
ZnAlOx (zoxidovaná vrchní bariéra) | 20 | 17 - 30 Á | Al/Zn =0,1 |
Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AISixNy | 21 22 23 | 150 Á 80 Á | Al/Zn = 0,1 Si/Al =0,8 |
·· ·♦··
Přiklad 3
Vrstvený povlak podle přikladu 3 měl následující strukturu:
Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 2 milimetry | |
Základní vrstva dielektrika zahrnující: AISixNy ZnAlOx | 100 Ά 230 A | Si/Al = 3 Al/Zn = 0,03 |
Ag dopované 1 % Pd | 95 Á | Pd/Ag = 0,01 |
Vrchní bariéra ZnAl | 20 Á | Al/Zn = 0,03 |
Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 750 Á | Al/Zn = 0,03 |
Ag dopované 1 % Pd | 95 Á | Pd/Al = 0,01 |
Vrchní bariéra ZnAl | 20 Á | Al/Zn = 0,03 |
Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AISixNy | 230 Á 100 Á | Al/Zn = 0,03 Si/Al 3 |
V.-.ctky opatřené tímto vrstveným povlakem byly sedm dni skladovány, přičemž některé ze vzorků byly skladovány v suchém prostředí a ostatní byly skladovány ve vlhkém prostředí s relativní vlhkostí 90 procent při teplotě 40 °C. Uvedené vzorky byly následně tepelně upravovány při teplotě 630 °C za účelem simulování podmínek při ohýbání skla. Získané výsledky, «· ·<··· • · φ · · ··· • · · · φ · φ · · ·· « φ···φφ· φ φ φφφ ·· φ φ φ φ * ·· ♦·· které byly měřeny těsně před tepelnou úpravou a těsně po provedeni tepelné úpravy, jsou shrnuty v následující tabulce.
Vzorky skladované v suchém prostředí | Vzorky skladované ve vlhkém prostředí | |
TL (před tepelnou úpravou) | 64,7 procenta | 64,9 procenta |
TE (před tepelnou úpravou) | 36,4 procenta | 36,6 procenta |
zákal (před tepelnou úpravou) | 0,1 | 0,1 |
TL (po tepelné úpravě) | 77,7 procenta | 77,1 procenta |
TE (po tepelné úpravě) | 48,6 procenta | 47,7 procenta |
zákal (po tepelné úpravě) | 0,2 | 0,2 |
RS (po tepelné úpravě) | 5,8 ohm/sq | 5,9 ohm/sq |
Příklad 4 (srovnávací)
V tomto případě byl použit stejný vrstvený povlak jako v příkladu 3, s tím rozdílem, že vrstvy AISixNy byly nahrazeny nedopovaným nitridem hlinitým (A1N). Výsledky shora popsaných testů jsou shrnuty v následující tabulce:
«9 ♦··· • ·
Vzorky skladované v suchém prostředí | Vzorky skladované ve vlhkém prostředí | |
TL (před tepelnou úpravou) | 67,2 procenta | 67,2 procenta |
TE (před tepelnou úpravou) | 37,8 procenta | 37,4 procenta |
zákal (před tepelnou úpravou) | 0,1 | 0,1 |
TL (po tepelné úpravě) | 77,3 procenta | 76,8 procenta |
TE (po tepelné úpravě) | 46,7 procenta | 47,4 procenta |
zákal (po tepelné úpravě) | 0,3 | 1,2 |
RS (po tepelné úpravě) | 5,9 ohm/sq | 6,1 ohm/sq |
Z výsledků v příkladech 3 a 4 vyplývá zlepšeni odolnosti směsného nitridu obsahujícího hliník (který v tomto případě dále obsahoval křemík) vůči velmi vlhkému prostředí v porovnání s „čistým nitridem hlinitým (A1N).
Nepřijatelný byl zejména zákal po provedení tepelné úpravy ;; o skladování vzorku ve vlhkém prostředí, který byl pozorován v příkladu 4.
• 4 «·«*·
Příklady 5 až 8
Vrstvené povlaky podle příkladů 5 až 8 měly následující strukturu:
Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 2 milimetry | |
Základní vrstva dielektrika zahrnující: AISixNy ZnAlOx | 100 Á 230 Á | Si/Al = 3 Al/Zn = 0,03 |
Ag dopované 1 % Pd | 100 Á | Pd/Ag = 0,01 |
Vrchní bariéra ZnAl | 20 Á | Al/Zn =0,03 |
Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 750 Á | Al/Zn = 0,03 |
Ag dopované 1 % Pd | 100 Á | Pd/Al = 0,01 |
Vrchní bariéra ZnAl | 20 A | Al/Zn = 0,03 |
Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx AISixNy | viz. tabulka níže | Al/Zn = 0,03 Si/Al 3 |
V těchto příkladech byly vlastnosti dané zasklívací té.Pule měřeny před tepelnou úpravou a po tepelné úpravě, při které byla použita maximální teplota 630 °C za účelem simulování podmínek při ohýbání skla při různých tloušťkách vnějších vrstev dielektrika. Získané výsledky jsou shrnuty v následující tabulce.
• · · · • · ♦ · · ·
Složení vnější vrstvy dielektrika v jednotlivých příkladech bylo:
Příklad | ZnAlOx | AISixNy |
5 | 220 Á | 110 Á |
6 | 245 A | 85 Á |
7 | 270 Á | 60 Á |
8 | 295 Á | 35 A |
a byly získány tyto výsledky:
Příklad | 5 | 6 | 7 | 8 |
TL (před tepelnou úpravou) | 64,3 procenta | 65 procent | 65,2 procenta | 64,5 procenta |
RV (před tepelnou úpravou) | 6,5 procenta | 6,5 procenta | 6,5 procenta | 6,4 procenta |
TE (před tepelnou úpravou) | 35,5 procenta | 36,4 procent | 36,5 procenta | 35,9 procenta |
RE (před tepelnou úpravou) | 35 procent | 33,7 procenta | 33,6 procenta | 33,7 procenta |
TL (po tepelné úpravě) | 7 6,3 procenta | 76,8 procent | 77,1 procenta | 76,8 procenta |
RV (po tepelné úpravě) | 9,1 procenta | 7,5 procent | 7,5 procenta | 7,6 procenta |
Příklad | 5 | 6 | 7 | 8 |
TE (po tepelné úpravě) | 47,3 procenta | 46,5 procent | 46,9 procenta | 46,9 procenta |
RE (po tepelné úpravě) | 36, 3 | 36,5 | 35, 8 | 35,8 |
zákal (po tepelné úpravě) | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 |
poznámka | OK | OK | OK | OK |
Příklady 9 až 12
Vrstvené povlaky podle příkladů 9 až 12 měly následující strukturu:
Geometrická tloušťka | Atomový poměr | |
Skleněný podklad | 2 milimetry | |
Základní vrstva dielektrika zahrnující: nitridovou vrstvu ZnAlOx | 100 Á 230 Á | Al/Zn = 0,03 |
Ag dopované 1 % Pd | 100 A | Pd/Ag = 0,01 |
Vrchní bariéra ZnAl | 20 A | Al/Zn = 0,03 |
Střední vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx | 750 Á | Al/Zn = 0,03 |
Ag dopované 1 % Pd | 100 Á | Pd/Al = 0,01 |
• · · ·
Vrchní bariéra ZnAl | 20 Á | Al/Zn = 0,03 |
Vnější vrstva dielektrika zahrnující: ZnAlOx nitridovou vrstvu | 230 Á 100 Á | Al/Zn = 0,03 |
Složeni nitridové vrstvy v uvedené základní a vnější vrstvě dielektrika v jednotlivých příkladech bylo:
Příklad | nitridová vrstva v základní vrstvě dielektrika | nitridová vrstva ve vnější vrstvě dielektrika | Atomový | poměr |
9 | A1N | A1N | ||
10 | A1N | AISixNy | Si/Al | = 3 |
- 11 | AISixNy | A1N | Si/Al | = 3 |
12 | AISixNy | AISixNy | Si/Al | = 3 |
S použitím vzorků podle těchto příkladů byly provedeny srovnávací testy, kdy jednotlivé vzorky byly nejprve skladovány v suchém a ve vlhkém prostředí a následně podrobeny tepelné úpravě při teplotě 630 °C. Získané výsledky jsou uvedeny v následujících tabulkách:
• · • · · · • · · · • · • « · ·
Skladování v suchém, prostředí
12 | 63,3 procenta | 8,4 procenta | 34,6 procenta | 34,6 procenta | 75,9 procenta | 8,5 procenta | 44,5 procenta | d 00 | 'tr o | OK |
co | P | φ | (0 | fÚ | ||||||
-P | P | P | P | -P | ||||||
0 | c | c | P | C | ||||||
Φ | procer | Φ | Φ | Φ | procer | Φ | ||||
11 | proč | proč | proč | proč | proč | co Γ- ΟΟ | o | OK | ||
'tT | LO | co | CM | co | CM | 00 | ||||
kO | LO | 00 | ^r | |||||||
<o | CO | CO | tT | |||||||
10 | procenta | procenta | procent | procenta | procent | procent | procent | 1 'tt | 0,3 | OK |
LD | 6,2 | Γ-- | 00 | Γ' | r- | rH | ||||
63, | ^r co | 33, | kO Γ | r- | Γ· ^r | |||||
(0 | ω P | co | ftí | co -P | ||||||
nt | nt | nt | nt | nt | ||||||
Φ | procer | φ | φ | φ | procer | φ | ||||
σ> | proč | proč | proč | proč | proč | 36, 3 | ^r o | OK | ||
CD | Γ- | CM | CD | CO | CD | οί | ||||
»k. | kk | |||||||||
sr | Γ- | d | CM | LO | sr | |||||
kD | co | 00 | Γ- | *tr | ||||||
5 | 0 | 5 | ||||||||
o | o | o | O | >φ | ||||||
K r’ | > | > | > | > | ||||||
<0 | <0 | ,-~k | x->. | |||||||
P | P | p | P | >φ | >φ | >φ | >φ | P | ||
<*) | o | Oj | d | h | K. | > | > | d | ||
'P‘ | y | rú | ίΰ | d | ||||||
P | P | P | P | |||||||
0 | 0 | 0 | 0 | d | d | d | d | 'Φ | ||
o | 0 | 0 | o | d | d | d | d | 0 | ||
c | c | c | c | 1--------1 | ||||||
1— | 1--------1 | <—1 | Γ—| | 'Φ | 'Φ | 'Φ | Φ | |||
<D | Φ | Φ | Φ | c | c | c | c | d | ||
d | d | d | d | i—1 | i—1 | i—1 | Γ—I | Φ | ||
Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | -P | ||
P> | 4-> | P | P | d | d | d | d | |||
Φ | Φ | Φ | Φ | o | ||||||
Ό | T> | Ό | Ό | -P | -P | P | P | d | (0 | |
Ό | Φ | Φ | Φ | Φ | —' | d | ||||
<ϋ | >P | >P | >P | d | o | o | 0 | 0 | £ | |
1—1 | d | d | d | d | d | d | d | d | 1--------1 | d |
d | >—' | —1 | •—' | ~·—' | •—‘ | —' | rc | c | ||
Ή | d | N | ||||||||
>P | d | > | ω | M | d | > | ω | ω | d | o |
Oj | d | H | (Z | d | 04 | d | d | N | d |
9
Skladování ve vlhkém prostředí
OJ i—1 | 63,7 procenta | 8,8 procenta | 35,1 procenta | 33,9 procenta | 75,3 procenta | 8,0 procent | 43,8 procenta | 36,1 | o | OK |
ta | 4-> | ta | ta | ta | 4-> | i procent | ||||
c | C | c | 0 | c | ||||||
Φ | Φ | Φ | φ | φ | procer | |||||
11 | O O $4 CL | proč | proč | proč | proč | 37,3 | χΓ O | OK | ||
00 | o | i—1 | O | |||||||
»>. | s. | K. | LT) | |||||||
LO | r- | <O | 04 | LO | K. | |||||
LO | co | 00 | Γ- | |||||||
10 | procenta | procenta | procenta | procenta | procent | procent | procent | 33,1 | 0,6 | kalené kvrny |
CO | <£> | σι | 04 | LO | O) | co co N | ||||
LO | <O | 35, | 32, | 76 | Γ-- | LO 'xT | ||||
σι | procent | procenta | procent | procenta | procenta | procenta | procenta | 35,7 | CO o | cý zákal |
o | CO | o | LO | 00 | LO | l---------1 | ||||
<£> d | r- | 37 | 32, | *» LT) Γ | CO | LQ | (D > | |||
0 | 0 | o | o | |||||||
O | o | 0 | o | >φ | ||||||
> | k> | k’ | > | > | ||||||
ω | cO | ω | rO | |||||||
o | >φ | >0) | >(D | u | ||||||
Oj | d | o- | d | > | !> | > | £ | d | ||
\F-V | '0 | rO | (v | cj | d | |||||
íq | íq | |||||||||
0 | o | 3 | d | d | d | d | 'Φ | |||
o | o | o | O | d | d | d | d | c | ||
c | o | o | 0 | 1—1 | ||||||
r—1 | r—1 | '—1 | r—] | 'Φ | 'Φ | 'Φ | 'Φ | Φ | ||
Φ | Φ | 0) | Φ | C | c | c | c | d | ||
d | d | d | d | r—I | 1—1 | i—1 | 1--------1 | Φ | ||
(1) | Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | Φ | 4-1 | ||
4-1 | 4-> | 4-1 | 4-1 | d | d | d | d | |||
Φ | Φ | Φ | (1) | 0 | ||||||
Ό | Ό | Ό | Ό | 4-> | 4-1 | 4-> | 4-1 | d | ||
Ό | <D | Φ | Φ | Φ | -— | d | ||||
nj | >M | >M | >S-4 | O | 0 | O | O | s | ||
r—I | d | d | d | d | d | d | d | d | l—1 | d |
d | •—' | -—' | —' | '—' | -—' | '— | '—' | 03 | c | |
'•H | N | |||||||||
d | > | M | ω | d | > | ω | ω | o | ||
Qj | Η | tx; | d | d | N | d |
• · · ·
Tyto příklady sloužily pro ilustraci použití směsných AISixNy vrstev jakožto části základní vrstvy dielektrika a jakožto části vnější vrstvy dielektrika a dále tyto příklady sloužily pro porovnání těchto směsných vrstev s vrstvami tvořenými „čistým nitridem hlinitým (A1N). Z výsledků provedených testů rovněž vyplývá, že použití AISixNy je zvlášť výhodné v případě, kdy je tento směsný nitrid použit v základní vrstvě dielektrika, a to zejména pokud je daná zasklívací tabule skladována ve velice vlhkém prostředí.
Aniž by došlo k překročení rozsahu předmětného vynálezu, je možné nad, pod nebo mezi uvedený vrstvený povlak vpravit další vrstvy.
Kromě již zmíněných výhodných optických vlastností, které je možné pomocí tohoto vynálezu získat, popisuje každý ze shora uvedených příkladů vytvoření nanesené vrstvy, kterou je možné elektricky ohřívat, například v elektricky vyhřívaných oknech automobilů, k jejichž vyhřívání dochází pomocí vhodně umístěných elektrických konektorů za účelem zajištění odmlžovací a/nebo rozmrazovací funkce.
Souřadnice chromatičnosti skleněných tabulí podle shora uvedených příkladů jsou zvlášť vhodné pro použití při výrobě čelních skel automobilů, protože pokud je uvedené sklo zamontováno do karosérie automobilu pod určitým úhlem, zajišťují tyto souřadnice jeho neutrální nebo jemně modrý vzhled při odrazu dopadajícího světla. Pro jiné použití, jako například v případě použití skla podle tohoto vynálezu v architektuře je možné barvu skla podle předmětného vynálezu upravit způsobem, který je v dané oblasti techniky známý a • · · · • · · ·
A · · · · · ···· fc « · · · <·♦ • * « · · · · · · · • · fc·· ··· #···· 4· * · · ·· · který zahrnuje úpravu tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev stříbra.
Hodnota TL zasklívací tabule podle předmětného vynálezu může být upravena tak, aby vyhovovala požadovanému použití.
Tak například:
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na evropském trhu, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 75 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako čelní sklo automobilů na trhu Spojených států amerických, může být hodnota TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Spojených států amerických);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako přední boční sklo automobilů, může být hodnota
TL zvolena tak, aby byla větší než 70 procent (jak to vyžadují předpisy Evropské unie);
pokud zasklívací panel podle předmětného vynálezu má být použit jako zadní boční sklo nebo zcidní sklo automobilů,může být hodnota TL zvolena tak, aby byla v rozmezí od přibližně 30 procent do 70 procent.
Výše uvedené úpravy hodnoty TL je možné dosáhnout například:
« · · · · ·
úpravou tloušťky vrstev obsažených ve vrstveném povlaku podle tohoto vynálezu, zejména úpravou tloušťky dielektrických vrstev a/nebo vrstev odrážejících infračervené záření;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným skleněným podkladovým materiálem například za účelem snížení selektivity;
kombinací vrstveného povlaku podle tohoto vynálezu s pocínovaným PVB nebo jinými laminačními materiály.
Claims (19)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál; základní antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň základní antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného nitridu, který je směsí hliníku (Al) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Al v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,05 a roven nebo menší než 6 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 3a, 4a, 5a, 4b, 5b, 6b, 7b a 8 periodické soustavy prvků.
- 2. Zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál; základní antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň vnější antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného nitridu, který je směsí hliníku (Al) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Al v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,05 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující bor (Β), galium (Ga), indium (In), thallium (TI), uhlík (C), germanium (Ge), cín (Sn), olovo (Pb), fosfor (P), arsen (As), antimon • · ·· » · · · · φφ φ · · · · · φ · · · · φ · · · • · · · · · φ • φ ·· · ·· ··· (Sb), bismut (Bi), titan (Ti), zirkonium (Zr), hafnium (Hf), vanad (V), niob (Nb) , tantal (Ta), chrom (Cr), molybden (Mo), wolfram (W), mangan (Μη), technecium (Tc), rhenium (Re), železo (Fe), kobalt (Co), nikl (Ni), ruthenium (Ru) , rhodium (Rh), palladium (Pd), osmium (Os), iridium (Ir), platinu (Pt), kombinaci dvou nebo více z uvedených prvků, kombinaci křemíku (Si) s jedním nebo více z uvedených prvků.
- 3. Zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;základní antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň vnější antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného nitridu, který je směsí hliníku (Al) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Al v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,45 a roven nebo menší než 6 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 3a, 4a, 5a, 4b, 5b, 6b, 7b a 8 periodické soustavy prvků.
- 4. Tepelně upravitelná nebo v podstatě nezahalená tepelně upravená zasklívací tabule nesoucí vrstvený povlak obsahující sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;základní antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření; a vnější antireflexní vrstvu vyznačující se tím, že alespoň vnější antireflexní vrstva obsahuje alespoň jednu vrstvu směsného nitridu, který je směsí hliníku (Al) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Al v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,05 a roven nebo menší než 6 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 3a, 4a, 5a, 4b, 5b, 6b, 7b a 8 periodické soustavy prvků.
- 5. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 2 až 4, vyznačující se tím, že alespoň jedna vrstva směsného nitridu, která tvoři alespoň část uvedené vnější antireflexní vrstvy, má geometrickou tloušťku menší než 100 Á.
- 6. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že zahrnuje sekvenci zahrnující alespoň skleněný podkladový materiál;základní antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření; střední antireflexní vrstvu;vrstvu odrážející infračervené záření a vnější antireflexní vrstvu.
- 7. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že uvedeným prvkem X je jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující křemík (Si), zirkonium (Zr), hafnium (Hf), titan (Ti), niob (Nb) a bor (B).• · ·Μ«
- 8. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že uvedenou zasklívací tabulí je tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule.
- 9. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že uvedená vrstva směsného nitridu má geometrickou tloušťku rovnou nebo větší než 30 Á.
- 10. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 9, vyznačující se tím, že uvedená vrstva směsného nitridu má geometrickou tloušťku menší než 195 A.
- 11. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 10, vyznačující se tím, že jak uvedená základní antireflexní vrstva, tak uvedená vnější antireflexní vrstva zahrnuje alespoň jednu vrstvu směsného nitridu, který je směsí hliníku (Al) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Al v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,05 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 3a, 4a, 5a, 4b, 5b, 6b, 7b a 8 periodické soustavy prvků.
- 12. Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 2 až 8, vyznačující se tím, že uvedená střední antireflexní vrstva zahrnuje alespoň jednu vrstvu směsného nitridu, který je směsí hliníku (Al) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Al v uvedené směsi je roven nebo větší než 0,05 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 3a, 4a, 5a, 4b, 5b, 6b, 7b a 8 periodické soustavy prvků.• ·
- 13.
- 14.
- 15.
- 16.
- 17.• 9 · · · · · · · · • 9 9 9 · 9 · 9 ···· · ·· · 99 999Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 12, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Al v uvedené vrstvě směsného nitridu je v rozmezí od 0,05 do 20.Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 13, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Al v uvedené vrstvě směsného nitridu je v rozmezí od 0,2 do 4.Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 14, vyznačující se tím, že atomový poměr X/Al v uvedené vrstvě směsného nitridu je v rozmezí od 0,4 do 3,5.Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 15, vyznačující se tím, že uvedená základní antireflexní vrstva obsahuje vrstvu, která přiléhá k uvedenému podkladovému materiálu a zahrnuje vrstvu směsného nitridu, a vrchní vrstvu zahrnující vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, jenž je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v této směsi je roven nebo větší než 0,03 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků.Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 16, vyznačující se tím, že ujedená vnější antireflexní vrstva obsahuje vrstvu směsného oxidu, která zahrnuje oxid, jenž je směsí zinku (Zn) a alespoň jednoho dalšího prvku X, přičemž atomový poměr X/Zn v této směsi je roven nebo větší než 0,03 a X představuje jeden nebo více prvků vybraných ze skupiny zahrnující prvky skupiny 2a, 3a, 5a,
- 18.
- 19.Φ φ φ φ · φφφ φφφφ φ ·· · ·* ···4b, 5b, 6b periodické soustavy prvků, a vrchní vrstvu zahrnující vrstvu směsného nitridu.Zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 17, vyznačující se tím, že uvedenou zasklívací tabulí je tepelně upravitelná nebo v podstatě nezakalená tepelně upravená zasklívací tabule, přičemž tepelná úprava uvedené tepelně uprávitelné zasklívací tabule, prováděná za účelem vytvoření v podstatě nezakalené tepelně upravené zasklívací tabule, vyvolává zvýšení hodnoty TL uvedené zasklívací tabule o alespoň 2,5 procenta.Způsob výroby zasklívací tabule, jejíž zákal je menší než přibližně 0,5, vyznačující se tím, že zahrnuje stupeň podrobení zasklívací tabule podle kteréhokoli z nároků 1 až 18 procesu tepelné úpravy při teplotě alespoň 570 °C.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP98204311 | 1998-12-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ20012222A3 true CZ20012222A3 (cs) | 2002-02-13 |
Family
ID=8234485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ20012222A CZ20012222A3 (cs) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Zasklívací tabule a způsob její výroby |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6472072B1 (cs) |
EP (1) | EP1150928B1 (cs) |
JP (1) | JP4385460B2 (cs) |
AT (1) | ATE276211T1 (cs) |
CZ (1) | CZ20012222A3 (cs) |
DE (1) | DE69920278T2 (cs) |
ES (1) | ES2228152T3 (cs) |
HU (1) | HU224415B1 (cs) |
PL (1) | PL199520B1 (cs) |
SK (1) | SK285852B6 (cs) |
WO (1) | WO2000037382A1 (cs) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7344782B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-03-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US7462397B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-12-09 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon nitride inclusive layer adjacent glass |
US6887575B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-05-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s) |
EP1787965B1 (en) * | 2000-07-10 | 2015-04-22 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-e coated articles |
US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
US20030228476A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-12-11 | Harry Buhay | Methods of changing the visible light transmittance of coated articles and coated articles made thereby |
US7311961B2 (en) * | 2000-10-24 | 2007-12-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
US6770321B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-08-03 | Afg Industries, Inc. | Method of making transparent articles utilizing protective layers for optical coatings |
ES2305718T3 (es) * | 2003-02-14 | 2008-11-01 | Agc Flat Glass Europe Sa | Panel vidriado que lleva una superposicion de revestimientos. |
FR2858816B1 (fr) * | 2003-08-13 | 2006-11-17 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
US20050196632A1 (en) * | 2003-12-18 | 2005-09-08 | Afg Industries, Inc. | Protective layer for optical coatings with enhanced corrosion and scratch resistance |
US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
US7537677B2 (en) † | 2005-01-19 | 2009-05-26 | Guardian Industries Corp. | Method of making low-E coating using ceramic zinc inclusive target, and target used in same |
KR101335169B1 (ko) | 2005-05-12 | 2013-11-29 | 에이지씨 플랫 글래스 노스 아메리카, 인코퍼레이티드 | 저태양열 획득 계수, 향상된 화학적 및 기계적 특성을 갖는저방사율 코팅 및 이의 제조 방법 |
US7488538B2 (en) * | 2005-08-08 | 2009-02-10 | Guardian Industries Corp. | Coated article including soda-lime-silica glass substrate with lithium and/or potassium to reduce sodium migration and/or improve surface stability and method of making same |
FR2898123B1 (fr) * | 2006-03-06 | 2008-12-05 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques |
US20070236798A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Shelestak Larry J | Antireflective coating and substrates coated therewith |
US8186113B2 (en) * | 2007-07-09 | 2012-05-29 | Raytheon Canada Limited | Building window having a visible-light-reflective optical interference coating thereon |
US7901781B2 (en) | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
US7824777B2 (en) * | 2008-03-26 | 2010-11-02 | Southwall Technologies, Inc. | Robust optical filter utilizing pairs of dielectric and metallic layers |
WO2011030517A1 (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-17 | 株式会社日立製作所 | 接続材料、半導体装置及びその製造方法 |
US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
CA2786872A1 (en) | 2010-01-16 | 2011-07-21 | Cardinal Cg Company | High quality emission control coatings, emission control glazings, and production methods |
US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
US8790783B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
HUE037218T2 (hu) † | 2013-05-30 | 2018-08-28 | Agc Glass Europe | Napfényvédõ üvegezés |
US10280312B2 (en) * | 2016-07-20 | 2019-05-07 | Guardian Glass, LLC | Coated article supporting high-entropy nitride and/or oxide thin film inclusive coating, and/or method of making the same |
DE102017212771A1 (de) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verglasungsscheibe für ein Kraftfahrzeug |
DE102018118225A1 (de) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Schott Ag | Optisch-elektrische Leiteranordnung mit Lichtwellenleiter und elektrischer Leitschicht |
US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
FR3088636B1 (fr) * | 2018-11-16 | 2022-09-09 | Saint Gobain | Materiau traite thermiquement a proprietes mecaniques ameliorees |
RU2728005C1 (ru) * | 2019-12-27 | 2020-07-28 | Общество с ограниченной ответственностью "Пилкингтон Гласс" | Термоустойчивое высокоселективное энергосберегающее покрытие бронзового цвета на стекле и способ его изготовления |
RU2735505C1 (ru) * | 2020-02-20 | 2020-11-03 | Общество с ограниченной ответственностью "Пилкингтон Гласс" | Термоустойчивое высокоселективное энергосберегающее покрытие зеленого цвета на стекле и способ его изготовления |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4822120A (en) | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
NO157212C (no) | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
US4786563A (en) | 1985-12-23 | 1988-11-22 | Ppg Industries, Inc. | Protective coating for low emissivity coated articles |
ATE115098T1 (de) | 1986-01-29 | 1994-12-15 | Pilkington Plc | Beschichtetes glas. |
AU605189B2 (en) | 1986-08-20 | 1991-01-10 | Libbey-Owens-Ford Co. | Solar control glass assembly |
US4859532A (en) | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
US4806220A (en) | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
US4769291A (en) * | 1987-02-02 | 1988-09-06 | The Boc Group, Inc. | Transparent coatings by reactive sputtering |
US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
DE3940748A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
EP0464789B1 (en) | 1990-07-05 | 1996-10-09 | Asahi Glass Company Ltd. | A low emissivity film |
DE69220901T3 (de) | 1991-10-30 | 2005-01-20 | Asahi Glass Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases |
US5993617A (en) | 1991-12-26 | 1999-11-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Functional product |
DE4324576C1 (de) | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
DE69503896T3 (de) * | 1994-05-03 | 2005-10-27 | Cardinal Cg Co., Eden Prairie | Transparenter gegenstand mit siliciumnitrid-schutzschicht |
FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
US5763064A (en) | 1995-06-26 | 1998-06-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Laminate |
DE19533053C1 (de) * | 1995-09-07 | 1997-04-17 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zum Beschichten einer Glasscheibe mit einer wenigstens eine Silberschicht aufweisenden Mehrfachschicht |
DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1996-11-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
-
1999
- 1999-12-15 AT AT99964597T patent/ATE276211T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 PL PL348235A patent/PL199520B1/pl unknown
- 1999-12-15 CZ CZ20012222A patent/CZ20012222A3/cs unknown
- 1999-12-15 ES ES99964597T patent/ES2228152T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 EP EP99964597A patent/EP1150928B1/en not_active Revoked
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010075 patent/WO2000037382A1/en active Application Filing
- 1999-12-15 HU HU0104642A patent/HU224415B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 SK SK838-2001A patent/SK285852B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 DE DE69920278T patent/DE69920278T2/de not_active Revoked
- 1999-12-17 JP JP35929299A patent/JP4385460B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-20 US US09/466,784 patent/US6472072B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HU224415B1 (hu) | 2005-08-29 |
JP4385460B2 (ja) | 2009-12-16 |
US6472072B1 (en) | 2002-10-29 |
EP1150928A1 (en) | 2001-11-07 |
EP1150928B1 (en) | 2004-09-15 |
HUP0104642A2 (en) | 2002-11-28 |
ATE276211T1 (de) | 2004-10-15 |
DE69920278D1 (de) | 2004-10-21 |
WO2000037382A1 (en) | 2000-06-29 |
ES2228152T3 (es) | 2005-04-01 |
PL199520B1 (pl) | 2008-09-30 |
JP2000229377A (ja) | 2000-08-22 |
SK8382001A3 (en) | 2002-02-05 |
DE69920278T2 (de) | 2005-11-17 |
PL348235A1 (en) | 2002-05-20 |
SK285852B6 (sk) | 2007-09-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ20012222A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
US6340529B1 (en) | Glazing panel | |
US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
EP1230189A1 (en) | Glazing | |
EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
CZ20012218A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
WO2021255079A1 (en) | Heatable low-e glazing comprising two layers based on titanium nitride |