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Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur
(AREA)
Abstract
ESTA RELACIONADA CON LA FORMULACION DE UNA FOTORESINA DE TIPO NEGATIVO, QUE PUEDE SER APLICADA EN LA PRODUCCION DE CIRCUITOS IMPRESOS EN LA INDUSTRIA ELECTRONICA. CONSISTE EN LA OBTENCION DE UNA FORMULACION, BASADA EN UNA RESINA DE ALCOHOL FURFURILICO SINTETIZADA EN MEDIO ACIDO, LA CUAL POSEE PROPIEDADES FOTOSENSIBLES ANTE LA EXPOSICION A LA LUZ ULTRAVIOLETA. LA COMPOSICION CUMPLE CON TODOS LOS REQUISITOS QUE SE EXIGEN PARA EL USO PRACTICO DE LAS FOTORESINAS EN LA INDUSTRIA ELECTRONICA; EL ALCOHOL FURFURILICO SE OBTIENE A PARTIR DEL FURFURAL Y LA SINTESIS DE LA FOTORESINA ES SENCILLA. NO REQUIERE DE UN SENSIBILIZADOR ADICIONAL, AUNQUE ES COMPATIBLE CON ALGUNOS DE ELLOS.\!
CU1989058A1989-03-211989-03-21Composicion polimerica fotosensible y su procedimiento de obtencion
CU22067A1
(es)
Foto-resistor positivo,filme de superficie,foto-resistor de multicamada,processo para a formacao de uma imagem sobre uma superficie e solvente viavel do foto-resistor
Photosensitive compositions comprising selected photoactive materials and their use in producing high resolution, photoresist images with near ultraviolet radiation