CS276342B6 - Sposob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr - Google Patents
Sposob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr Download PDFInfo
- Publication number
- CS276342B6 CS276342B6 CS855722A CS572285A CS276342B6 CS 276342 B6 CS276342 B6 CS 276342B6 CS 855722 A CS855722 A CS 855722A CS 572285 A CS572285 A CS 572285A CS 276342 B6 CS276342 B6 CS 276342B6
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- layered structures
- depth
- microanalysis
- distribution
- elemental microanalysis
- Prior art date
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Vynález sa týka spôsobu prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr.
Zo zmeny podmienok mikroanalýzy pomocou charakteristického rontgenového žiarenia na rastrovacom elektrónovom mikroskope sa získajú informácie o prvkovej distribúcii nehomogénnych vrstevnatých štruktúr.
Pre získanie informácií o hĺbkovej distribúcii prvkov v pevných látkach Sa používajú predovšetkým chemické a fyzikálne postupy spočívajúce v analýze tenkých povrchových oblastí pri postupnom odstraňovaní povrchových vrstiev. Spoločným nedostatkom týchto metód je ich deštruktívny charakter spočívajúci v odstraňovaní analyzovanej oblasti. Použitie kolmých, resp. šikmých rezov vrstevnatého materiálu je viazané na použitie lokálnej mikroanalýzy o veími malom analyzovanom objeme.
Uvedené nevýhody sú odstránené použitím prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr pre získanie informácií o hĺbkovej distribúcii prvkov v nehomogénnych vrstevnatých Štruktúrach podl-a vynálezu.
Jeho podstatou je spôsob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr pri ktorom sa zistuje hĺbková distribúcia prvkov vrstevnatých štruktúr v hĺbke do 0,5 yum pri uhle snímania do 30°, pri náklone vzorky do 45° a urychíovacej energií elektrónového zväzku do dvojnásobku excitačnej energie sledovaného prvku.
Využíva sa tak zmena geometrických podmienok a energie primárnych elektrónov pri mikroanalýze. Pri zmene urychíovacieho napätia primárneho elektrónového, lúča, uhla dopadu primárnych elektrónov a uhla snímania emitovaného rontgenového žiarenia sa zákonitým spôsobom mení intenzita snímaného charakteristického rontgenového žiarenia sledovaných prvkov. Z charakteru týchto zmien možno usudzoval: na distribúciu sledovaných prvkov od povrchu pevných látok smerom dovnútra vzorky, predovšetkým v oblasti 1 nm &ž U,5 yum. Príklad
Pomocou rastrovacieho elektrónového mikroskopu Tesla 0Ξ 300 a EDX analyzátora EDAX 3100/60 bola meraná závislost intenzity P,,„ žiarenia emitovaného z povrchu vzorky ocele ' , Iv , v , s ionovo implantovaným fosforom . dávky 10 _ ionov/cnT od urýchlovacieho napatia elektrónového zväzku v intervale 7 až 20 kV, pri prúde zväzku 6,5 . 10 Λ. Pri kon-štantnom urýchíovacom napätí 12 kV bola meraná uhlová závislost intenzity žiarenia.
Zmena uhla snímania emitovaného žiarenia bola dosiahnutá rotováním vzorky okolo zvislej osi. Uhol medzi rovinou vzorky a osou rotácie bol zhodný s elevačným uhlom detektora (v danom prípade 35°). Týmto spôsobom bol určený koncentračný gradient fosforu do hĺbky 0,3 /um od povrchu vzorky.
Uvedený spôsob analýzy podía vynálezu možno využit všade tom, kde je potrebné nedeštruktívnym spôsobom zistil hĺbkovú distribúciu prvkov, ktoré sú detekovateíné využívanou metódou. Využíva sa nájdená možnost plynulej zmeny uhla snímania emitovaného rontgenového žiarenia aj keď detektor žiarenia je v elektrónovom mikroskope fixne zabudovaný.
Claims (1)
- PATENTOVÉ NÁROKY Spôsob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr pre nedeštruktívne zistenie' prvkovej distribúcie nehomogénnych vrstevnatých štruktúr zmenou geometrických podmienok a energie, vyznačujúci sa tým, že hĺbková distribúcia prvkov sa zistuje v hĺbke do 0,5 yum pri uhle snímania do 30°, pri náklone vzorky do 45° a urýchíovacora napätí •eloktrónovóho zväzku do dvojnásobku excitačněj energie prvku.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS855722A CS276342B6 (sk) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | Sposob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS855722A CS276342B6 (sk) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | Sposob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS572285A3 CS572285A3 (en) | 1992-02-19 |
| CS276342B6 true CS276342B6 (sk) | 1992-05-13 |
Family
ID=5402641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS855722A CS276342B6 (sk) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | Sposob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS276342B6 (cs) |
-
1985
- 1985-08-06 CS CS855722A patent/CS276342B6/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS572285A3 (en) | 1992-02-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATE64206T1 (de) | Verfahren und apparaturen zum untersuchen von photoempfindlichen materialien mittels mikrowellen. | |
| Måløy et al. | Experimental measurements of the roughness of brittle cracks | |
| KR102397712B1 (ko) | 표면 결함 검출 및 분석을 위한 펄스형 중성자 발생 즉발 감마선 방출 측정 시스템 | |
| Lu et al. | Effect of pore‐water salinity on the electrical resistivity of partially saturated compacted clay liners | |
| EP1943543B1 (en) | Multilayer detector and method for sensing an electron beam | |
| CS276342B6 (sk) | Sposob prvkovej mikroanalýzy vrstevnatých štruktúr | |
| Ramakrishnan | A treatment of instrumental smearing effects in circularly symmetric small-angle scattering | |
| Avci et al. | A practical method for determining pit depths using X-ray attenuation in EDX spectra | |
| KR20200069874A (ko) | 방사선 계측 용기 및 방사선 계측 방법 | |
| Elphick et al. | The application of SIMS ion imaging techniques in the experimental study of fluid-mineral interactions | |
| Heck | Elemental mapping with the Karlsruhe nuclear microprobe | |
| Hellmuth et al. | Investigation of the porosity of rocks | |
| RU2097741C1 (ru) | Способ неразрушающего контроля пористости материалов и устройство для его осуществления | |
| Tatsuoka et al. | Stress characteristics for shallow footings in cohesionless slopes: Discussion | |
| Volfinger | Quantitative analysis of the fluid inclusions by particle-induced gamma-ray emission | |
| Noll et al. | Fluorine profiles in Antarctic meteorites by nuclear reaction analysis (NRA) | |
| RU2046323C1 (ru) | Способ определения размеров дефектов материалов | |
| Kosinova et al. | Thin layer surface activation by charged particles used for wear investigations | |
| Halverson | Characterization of geomaterials with X-ray computed tomography (X-ray CT) | |
| Pregenzer et al. | A quantitative passive technique for assay of near-surface tritium in materials | |
| Durham et al. | Rapid technique for counting cracks in granitic rocks | |
| JPS62208645A (ja) | 凹部深さ測定装置 | |
| SU1679320A1 (ru) | Способ определени локализации примесных атомов кристалла | |
| Gilfrich | X‐ray fluorescence analysis at the naval research laboratory | |
| MATSUMOTO | Use of Resistivity Cone for Detecting Contaminated Soil |