CS271559B1 - Lustre forming admixture into lustrous nickel plating bathes - Google Patents
Lustre forming admixture into lustrous nickel plating bathes Download PDFInfo
- Publication number
- CS271559B1 CS271559B1 CS873048A CS304887A CS271559B1 CS 271559 B1 CS271559 B1 CS 271559B1 CS 873048 A CS873048 A CS 873048A CS 304887 A CS304887 A CS 304887A CS 271559 B1 CS271559 B1 CS 271559B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- weight
- tri
- mono
- nickel
- sodium
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 21
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 11
- VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N bis(4-fluorophenyl)-methyl-(1,2,4-triazol-1-ylmethyl)silane;methyl n-(1h-benzimidazol-2-yl)carbamate Chemical compound C1=CC=C2NC(NC(=O)OC)=NC2=C1.C=1C=C(F)C=CC=1[Si](C=1C=CC(F)=CC=1)(C)CN1C=NC=N1 VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 5
- -1 tri-chlorophenyl Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 4
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 5
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 4
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 3
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 3
- HLZZKZPNSKYJHT-UHFFFAOYSA-M C(=CC=C)S(=O)(=O)[O-].[Na+] Chemical compound C(=CC=C)S(=O)(=O)[O-].[Na+] HLZZKZPNSKYJHT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- NTBACSMDJSJIDL-UHFFFAOYSA-M sodium;pent-4-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CCCC=C NTBACSMDJSJIDL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001541 aziridines Chemical class 0.000 description 9
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N ethynamine Chemical class NC#C VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
(57) Leskutvorná přísada je složena z alkensulfonanů alkalických kovů, derivátů aromatických sulfokyselin, vody a sloučenin obecného vzorce 1, kde znamenají Rl, R2 - alifatický alkyl o počtu uhlíků 1 až 18, benzyl, fenyl, pyridyl, furyl, mono-, di- nebo tri-chlorfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, 1-naftyl, 2-naftyl, m, n - celé číslo 1 až 100 a obsahuje vždy nejméně jednu látku z uvedených skupin sloučenin. Má schopnost zajistit v leskle niklovacích lázních vzhledem k obsahu derivátů aziridinu, jež účinně potlačují polymeraci alkensulfoi)anů alkalických kovů, kvalitní vyrovnávaní vylučovaných povlaků. Současně vzhledem k nižšímu vývoji škodlivých organických látek prodlužuje interval, po kterém je nutno provést čištění lázně oxidačními činidly a aktivním uhlím.
271 559 (11) (13) Bl (51) Int. Cl.5
C 25 D 3/12
i
o h>
CS 271559 Bl
I
CS 271 559 Bl i
Vynález se tyká leskutvorné přísady do leskle ňiklovacích lázní složených ze síranu nikelnatého, chloridu nikelnatého, kyseliny borité a organických sloučenin, vytvářejících lesk, např. alkinpolyolů, alkinsulfonanů alkalických kovů, substituovaných aminoacetylenů.
Průmyslově používané niklovací lázně, jež dosud dosáhly největšího rozšíření, jsou založeny na bázi vodných roztoků síranu nikelnatého, chloridu nikelnatého a kyseliny borité. Poměr těchto složek je přizpůsoben požadavkům na vylučovací rychlost a parametry povlaků. Pro získání lesklých povlaků se do základní lázně přidává řada organických látek, jež lze rozdělit do dvou tříd. Látky zařazené do 1. třídy jsou např. deriváty aromatických sulfokyselin - benzensulfonamid, o-benzoylsulfimid, které snižují vnitřní pnutí povlaků a podílejí se na tvorbě lesku v nízkých proudových hustotách, Bále jsou to alkensulfonany alkalických kovů - vinylsulfonan sodný, allylsulfonan sodný, které ovlivňují vyrovnání povrchových mikronerovností podkladního materiálu, a tak přispívají к tvorbě lesku. Látky zařazené do 2. třídy vytvářejí vysoký lesk povlaků, ale současně výrazně zvyšují vnitřní pnutí. Jsou to např. alkinpolyoly - 2-butin-l,4-diol, 3-hexin-2,5diol, alkinpolyoly ethoxylované do jednoho a více stupňů a řada dalších sloučenin. Technicky využitelné povlaky lze vylučovat pouze z lázní, kde jsou zastoupeny látky z obou uvedených tříd.
Nežádoucím jevem pří provozu leskle ňiklovacích lázní je pozvolná polymerace alkensulfonanů provázená zánikem dvojné vazby, jež v malé míře probíhá již při skladování ve formě leskutvorných přísad za normální teploty a výrazněji při provozních teplotách lázní 50 až 70 °C. Po uplynutí intervalu, který lze charakterizovat průchodem proudu 200 až 300 A.h na 1000 ml lázně, může být zpolymerováno až 5 % hmot, z celkového množství alkensulfonanů. Tyto polymery se vzrůstající koncentrací částečně až zcela potlačí vyrovnávací účinnost alkensulfonanů. Z takto znečištěných lázní není možno vylučovat kvalitní, lesklé povlaky. Současně se zpolymerovaný podíl připojuje к rozkladným produktům ostatních složek lázně a negativně ovlivňuje další parametry povlaků, především vnitřní pnutí a tažnost. Odstraňuje se spolu s ostatními rozkladnými produkty čisticí operací, jež se skládá z oxidace a zachycení vzniklých látek na aktivním uhlí.
Popsané nedostatky jsou odstraněny řešením podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že do leskutvorné přísady složené z látek zařazených do 1. třídy, tj. alkensulfonanů alkalických kovů a ami.dů nebo imidů aromatických sulfokyselin, jsou přidány deriváty aziridinu. Leskutvomá přísada je složena z alkensulfonanů alkalických kovů - vinylsulfonanu sodného, allylsulfonanu sodného, 4-pentensulfonanu sodného, 1,3-butadien-l-sulfonanu sodného a amidů nebo imidů aromatických sulfokyselin - benzensulfonamidu, p-toluensulfonamidu, o-benzoylsulfimidu, bis-benzensulfonylimidu, vody a sloučenin obecného vzorce
H0N - (CH9 - CH9 - N) - (CH9 - CH9 - N) - H,
с. c. á | П1 с. <£|П 1 ®1 R2 kde znamenají R1, R2 - H-> alifatický alkyl o počtu uhlíků 1 až 18, benzyl, fenyl, pyridyl, furyl, mono-, di- nebo tri-chlorfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, 1-naftyl, 2-naftyl, m,n - celé číslo 1 až 100, a obsahuje vždy nejméně jednu látku z uvedených skupin sloučenin.
Bylo zjištěno, že tato leskutvorná přísada má schopnost zajistit v leskle niklovacích lázních kvalitní vyrovnávání vylučovaných povlaků. Vzhledem к obsahu derivátů aziridinu, které účinně potlačují polymeraci alkensulfonanů alkalických kovů, není vyrovnávací účinnost prakticky vůbec ovlivňována negativním působením polymeru. V souvislosti s nižším vývojem Škodlivých organických látek se prodlužuje interval, po kterém je nutno
CS 271 559 B1 provést čištění niklovaci lázně oxidačními Činidly a aktivním uhlím.
Podrobné vysvětlení je podáno na následujících příkladech.
Příklad 1
Niklovaci lázeň o složení 300 g síranu nikelnatého, 60 g chloridu nikelnatého, 40 g kyseliny borité, 0,08 g 2-butin-l,4-diolu, 0,02 g diethoxylovaného 2-butin-l,4-diolu a 15 g leskutvorné přísady podle vynálezu o složení 6,5 % hmot, allylsulfonanu sodného, 18 % hmot, o-benzoylsulfimidu, 0,5 % hmot, deriváty aziridinu, kde R^ R2 “ ra ~ 60, r n - 100, zbytek do 100 % hmot, voda, byla zatěžována průchodem elektrického proudu 240
A.h na 1 000 ml při teplotě 60 °C a pH 4,0. Úroveň vyrovnávání byla posuzována vizuálně na zkušebních panelech z Hullovy cely, které byly pokoveny při proudu 2 A po dobu 10 mi* nut а к jejichž přípravě bylo použito ocelového, pomosazeného plechu s rovnoměrně zdrsněným povrchem. Zkouška byla prováděna vždy po průchodu 20 A.h na 1 000 ml lázně. Současně bylo upravováno pH, složení lázně a doplňovány úbytky leskutvorné přísady. Po celou dobu zkoušky se na panelech vylučovaly vysoce lesklé, při testu ohybem panelu v místě vysoké proudové hustoty velmi dobře tažné povlaky.
Shodná zkouška byla provedena v niklovaci lázni jako v předešlém případě, ale bez derivátů aziridinu v leskutvorné přísadě. Již po průchodu proudu 140 A.h na 1 000 ml po2 kleslo vyrovnávání v oblasti proudových hustot 100 až 250 A na m , po průchodu proudu 200 A.h na 1 000 ml došlo к poklesu vyrovnávání v celém oboru proudových hustot a při ohybu panelu výrazně poklesla ražnost. Po průchodu 240 A.h na 1 000 ml se vylučovaly pouze pololesklé povlaky s minimálním vyrovnáním a křehké.
Příklad 2
Niklovaci lázeň jako v příkladu 1, do které bylo přidáno 15 g leskutvorné přísady podle vynálezu o složení 6,5 % hmot, allylsulfonanu sodného, 18 % hmot, o-benzoylsulfimidu, 0,08 % hmot, derivátu aziridinu, kde R^, R2 - H-, m - 60, n - 100 a 0,02 % hmot, derivátu aziridinu, kde R^ - H-, R^ - 6-ethyloktyl, n - 20, m - 60, zbytek do 100 % hmot, voda, byla zatěžována jako v příkladu 1. Po celou dobu zkoušky se na panelech vylučovaly vysoce lesklé, dobře tažné povlaky.
Příklad 3
Niklovaci lázeň jako v příkladu 1, do které bylo přidáno 15 g leskutvorné přísady podle vynálezu o složení 6,5 hmot.,allylsulfonanu sodného, 18 % hmot, o-benzoylsulfimidu, 0,08 % hmot, derivátu aziridinu, kde R-^, R2 - H-, m - 60, n - 100, a 0,01 % hmot, derivátu aziridinu, kde Rx - izopropyl, R2 - pyridyl, m - 40, n - 5, zbytek do 100 % hmot, voda, byla zatěžována jako v příkladu 1. Po celou dobu zkoušky se na panelech vylučovaly vysoce lesklé, dobře tažné povlaky.
Vynález je možno využívat při galvanickém niklování výrobků v oblasti strojírenských a elektrotechnických podniků a výrobních družstev.
P Й S D M Ě T VYNÁLEZU
Claims (1)
- Leškutvorná přísada do leskle niklovacích lázní, složených ze síranu nikelnatého, chloridu nikelnatého, kyseliny borité a organických sloučenin vytvářejících lesk, obsahující alkensulfonany alkalických kovů a deriváty aromatických sulfokyselin, vyznačená tím, Že se skládá z 5,0 až 30,C % hmot, vinylsulfonanu sodného, allylsulfonanu sodného,CS 271 559 B14-pentensulfonanu sodného, l,3-butádiBn-l-sulfonanu sodného, 5,0 až 20,0 % hmot, benzensulfonamidu, p-toluensulfonamidu, o-benzoylsulfimidu, bis-benzensulfonylimidu, 40,0 až 90,0 % hmot, vody a dále obsahuje 0,01 až 0,5 % hmot, sloučenin obecného vzorceH2N - (CH2 - CH2 - N)m - (CH2 -r CH2 - N)n -H, R1 R2 kde znamenají R^, R2 - H-, alifatický alkyl o počtu uhlíků 1 až 18, benzyl, fenyl pyridyl, furyl, mono-, di- nebo tri-chlorfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, 1-naftyl, 2-naftyl, m, n - celé číslo 1 až 100, a obsahuje vždy nejméně jednu látku z uvedených skupin sloučenin.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS873048A CS271559B1 (en) | 1987-04-29 | 1987-04-29 | Lustre forming admixture into lustrous nickel plating bathes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS873048A CS271559B1 (en) | 1987-04-29 | 1987-04-29 | Lustre forming admixture into lustrous nickel plating bathes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS304887A1 CS304887A1 (en) | 1989-10-13 |
| CS271559B1 true CS271559B1 (en) | 1990-10-12 |
Family
ID=5369406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS873048A CS271559B1 (en) | 1987-04-29 | 1987-04-29 | Lustre forming admixture into lustrous nickel plating bathes |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS271559B1 (cs) |
-
1987
- 1987-04-29 CS CS873048A patent/CS271559B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS304887A1 (en) | 1989-10-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4948474A (en) | Copper electroplating solutions and methods | |
| US2837472A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| US5174887A (en) | High speed electroplating of tinplate | |
| US3725220A (en) | Electrodeposition of copper from acidic baths | |
| AU2004239226B2 (en) | High purity electrolytic sulfonic acid solutions | |
| JPH07505187A (ja) | 銅の電解析出のための酸性めっき浴及び当該浴の使用法 | |
| CA1308057C (en) | Aqueous electroplating bath and method for electroplating tin and/or lead | |
| US4543166A (en) | Zinc-alloy electrolyte and process | |
| US4994155A (en) | High speed tin, lead or tin/lead alloy electroplating | |
| EP0652306B1 (en) | Tin, lead or tin/lead alloy electrolytes for high-speed electroplating | |
| US3862019A (en) | Composition of electroplating bath for the electrodeposition of bright nickel | |
| US3444056A (en) | Nickel electroplating electrolyte | |
| US4129482A (en) | Electroplating iron group metal alloys | |
| US4036710A (en) | Electrodeposition of copper | |
| CS271559B1 (en) | Lustre forming admixture into lustrous nickel plating bathes | |
| JPS5932554B2 (ja) | 酸性メッキ水溶液 | |
| US5264112A (en) | Acidic nickel baths containing 1-(2-sulfoethyl)-pyridiniumbetaine | |
| US2427280A (en) | Nickel electroplating composition | |
| US5258112A (en) | Electrolyte compositions | |
| US3401097A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| JPS6112038B2 (cs) | ||
| US2690997A (en) | Electrodeposition of copper | |
| CS241665B1 (cs) | Leskutvijrná přísada pro elektrolytické vylučování niklových povlaků o tloušťkách do 50 μΐη | |
| CS241666B1 (cs) | Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin | |
| US2839456A (en) | Electroplating |