CS259587B1 - Process for preparing pure acetic acid - Google Patents
Process for preparing pure acetic acid Download PDFInfo
- Publication number
- CS259587B1 CS259587B1 CS87269A CS26987A CS259587B1 CS 259587 B1 CS259587 B1 CS 259587B1 CS 87269 A CS87269 A CS 87269A CS 26987 A CS26987 A CS 26987A CS 259587 B1 CS259587 B1 CS 259587B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- acetic acid
- ppm
- pure acetic
- distillate
- glass
- Prior art date
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Vynález rieši přípravu zvlášť čistej kyseliny octovej použitím íyzikálno-chemických metód čistenia v zariadení z materiálov, ktoré sů odolné koróznym účinkom kyseliny octovej a jej sprievodných nečistot. Kyselina octová sa diskontinuálne alebo kontinuálně destiluje za zníženého alebo atmosférického tlaku bez přístupu vzduchu. Odoberá sa frakcia pri vymedzenej strednej teplote.The invention provides for the preparation of particularly pure acetic acid using physicochemical purification methods in a device made of materials that are resistant to the corrosive effects of acetic acid and its accompanying impurities. Acetic acid is discontinuously or continuously distilled under reduced or atmospheric pressure without air access. A fraction is taken at a defined intermediate temperature.
Description
Vynález, sa týká přípravy zvlášť čistej kyseliny octovej 1'adovej použitím fyzikálno-chemických metód čistenia v zariadení z materiálu, ktorý je odolný koróznym účinkom kyseliny octovej a jej sprievodných nečistot. .·The invention relates to the preparation of particularly pure acetic acid using physicochemical purification methods in a device made of a material that is resistant to the corrosive effects of acetic acid and its accompanying impurities. .·
Kyselina octová sa používá ako leptadlo pri výrobě integrovaných obvodov. K tomuto účelu musí kyselina octová vyhovovat přísným kritériám čistoty. Nečistoty, ktoré sa v tejto, chemikálii ibežnej komerčnej čistoty nachádzajú, možno zařadit do dvoch skupin.Acetic acid is used as an etchant in the production of integrated circuits. For this purpose, acetic acid must meet strict purity criteria. The impurities found in this chemical, of ordinary commercial purity, can be classified into two groups.
Do prvej skupiny pqtria nečistoty organického charakteru, ktoré sa tam dostali ako zvyšky nezreagovaných vstupných surovin, ďalej nečistoty z týchto surovin a tiež produkty vedlajších reakcií.The first group includes organic impurities that have entered the system as residues of unreacted input raw materials, impurities from these raw materials, and also products of side reactions.
Do druhej skupiny ,patria nečistoty anorganického charakterů,· ako- napr. ióny kovov z korózie výrobného zariadenia, prachové částice pochádzajúce z kontaminácie chemikálií s okolitým vzduchom.The second group includes impurities of inorganic nature, such as metal ions from corrosion of production equipment, dust particles originating from contamination of chemicals with the surrounding air.
Vyššie uvedené nedostatky nemá spósob přípravy zvlášť čistej kyseliny octovej, ktorého podstata tkvie v ,tom,- že sa kyselina octová čistoty dostupnej podlá ČSN 686 310 (t. j. čistoty p. a. alebo čistý] kontinuálně alebo diskontinuálne destiluje za zníženého alebo atmosférického· tlaku v aparatúre, ktorej materiál odolává koróznym účinkom kyseliny octovej. Odoberá sa frakcia pri teplote t0 + 1 °C danej závislosťou toThe above-mentioned shortcomings are not inherent in the method of preparing particularly pure acetic acid, the essence of which lies in the fact that acetic acid of a purity available according to ČSN 686 310 (i.e. purity pa or pure) is continuously or discontinuously distilled under reduced or atmospheric pressure in an apparatus whose material resists the corrosive effects of acetic acid. A fraction is taken at a temperature of t 0 + 1 °C given by the dependence to
1572,321572.32
6,5729 — log p6.5729 — log p
226,37 kde t0 je teplota varu vo °C zodpovedajúca pracovnému tlaku, pri ktorom sa destiluje a p je pracovný tlak v aparatúre v kPa. Destilát sa vedie na súpravu mikrofiltrov s pórovitosťou od 0,8 ματ do 0,2 μτα.226.37 where t 0 is the boiling point in °C corresponding to the working pressure at which distillation is carried out and p is the working pressure in the apparatus in kPa. The distillate is fed to a set of microfilters with a porosity of 0.8 μm to 0.2 μm.
Spósob přípravy zvlášť čistej kyseliny octovej 1’adovej je uvedený v příklade.The method for preparing particularly pure acetic acid is given in the example.
PříkladExample
Čistá kyselina octová zo skleněných balónov objemu 50 až 100 1 sa přečerpá skleněným čerpadlom (sklo triedy SIMAX) do skleněného zásobníka (sklo triedy SIMAX). Odtial' sa nadávkuje do sklenenej odparky (sklo triedy SIMAX). Destiluje sa kontinuálně alebo diskontinuálne, pri zníženom alebo atmosférickom tlaku. Všetky tesnenia na destilačnom zariadení sú z teflonu. Destilát sa zachytává do sklenej předlohy (sklo triedy SIMAX). Ak obsah prachových častíc v destiláte zistený analyzátorom alebo v laboratóriu je pod dovolené hranice, potom sa destilát samospádem alebo čerpadlom vypúšfa do sklených expedičných obalov, ktoré boli predtým zbavené prachových častíc. Pre prachové částice sú predpísané tieto kvalitativně ukazovatele:Pure acetic acid from glass flasks of 50 to 100 l is pumped by a glass pump (SIMAX glass) into a glass reservoir (SIMAX glass). From there it is dosed into a glass evaporator (SIMAX glass). It is distilled continuously or discontinuously, at reduced or atmospheric pressure. All seals on the distillation equipment are made of Teflon. The distillate is collected in a glass receiver (SIMAX glass). If the content of dust particles in the distillate determined by the analyzer or in the laboratory is below the permissible limits, then the distillate is discharged by gravity or by a pump into glass shipping containers that have been previously freed from dust particles. The following quality indicators are prescribed for dust particles:
laž 5 μΐη 20 000 dm~3 až 25 μτα 3 000 dm-3 nad 25 μΐη 500 dm3 lie 5 μΐη 20,000 dm~ 3 to 25 μτα 3,000 dm -3 above 25 μΐη 500 dm 3
Ak je obsah prachových častíc vyšší ako uvedené hodnoty, destilát sa čerpadlom tlačí na filtráciu. Filtračně zariadenie pozostáva zo súpravy nerezových filtračných držiakov, ktoré slúžia na napnutie filtračného· materiálu. Materiál mikrofiltra musí odolávat rozpúšťacím účinkom kyseliny •octovej. Pórovitost mikrofiltrov, je 0,8 μπι, 0,45 μτα a 0,2 μτα. Takto přefiltrovaný destilát sa plní do· sklených expedičných obalov.If the dust content is higher than the specified values, the distillate is pumped for filtration. The filtration device consists of a set of stainless steel filter holders, which serve to tension the filter material. The microfilter material must withstand the dissolving effects of acetic acid. The porosity of the microfilters is 0.8 μm, 0.45 μm and 0.2 μm. The distillate filtered in this way is filled into glass shipping containers.
Kyselina octová kvality p. a. sa analyzuje podlá ČSN 68 6310, ktorá je doplněná o stanovenie kovov alkalických zemin atómovou absorpčnou spektrometriou. Uvedené sú najdóležitejšie parametre kvality pre mikroelektroniku a ako druhý údaj namerané hodnoty u použitej suroviny.Acetic acid of quality p. a. is analyzed according to ČSN 68 6310, which is supplemented by the determination of alkaline earth metals by atomic absorption spectrometry. The most important quality parameters for microelectronics are listed and, as a second piece of information, the measured values of the raw material used.
Cu 0,02 ppmCu 0.02 ppm
Ni 0,02 ppmNi 0.02 ppm
Obsah prachových častíc:Dust particle content:
1000 litrov suroviny sa přečerpá do varáka destilačnej kolony (sklo triedy SIMAX) a destiluje sa pri tlaku 17 kPa. Odoberá sa frakcia pri teplote 66 °C. Výtažok procesu destilácie bol 80 Ψο vzhladom na nástrek suroviny. Destilát sa filtruje na mikrofiltroch s pórovitosťou od 0,8 μΐη po 0,2 μπι.1000 liters of raw material are pumped into the distillation column reboiler (SIMAX glass) and distilled at a pressure of 17 kPa. A fraction is taken at a temperature of 66 °C. The distillation process yield was 80 Ψο with respect to the feed of raw material. The distillate is filtered on microfilters with a porosity of 0.8 μΐη to 0.2 μπι.
Získaný destilát sa analyzuje. Produkt má tieto kvalitativně parametre:The obtained distillate is analyzed. The product has the following quality parameters:
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS87269A CS259587B1 (en) | 1987-01-15 | 1987-01-15 | Process for preparing pure acetic acid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS87269A CS259587B1 (en) | 1987-01-15 | 1987-01-15 | Process for preparing pure acetic acid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS26987A1 CS26987A1 (en) | 1988-03-15 |
CS259587B1 true CS259587B1 (en) | 1988-10-14 |
Family
ID=5334525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS87269A CS259587B1 (en) | 1987-01-15 | 1987-01-15 | Process for preparing pure acetic acid |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS259587B1 (en) |
-
1987
- 1987-01-15 CS CS87269A patent/CS259587B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS26987A1 (en) | 1988-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6252110B1 (en) | Methods for recovering acrylic acid | |
KR100878174B1 (en) | How to prepare alcohol | |
CN102245554B (en) | Method for purifying acetone | |
EP1218291A1 (en) | Method for producing high-purity hydrochloric acid | |
US4385965A (en) | Process for the recovery of pure methylal from methanol-methylal mixtures | |
TW473468B (en) | Process for the production of n-butanol | |
EP2370388B1 (en) | Method for purifying acetone | |
US7825281B2 (en) | Method for producing electronic grade 2,2′-aminoethoxyethanol | |
EP0701985B1 (en) | Method of purifying fluoromethyl 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ether | |
CS259587B1 (en) | Process for preparing pure acetic acid | |
DE4432434A1 (en) | Process and apparatus for enriching and purifying aqueous hydrogen peroxide solutions | |
JPS61239628A (en) | Method for cleaning semiconductor substrates | |
JPH07116079B2 (en) | Method for producing high quality isopropyl alcohol | |
JPS6354402B2 (en) | ||
DE19725851A1 (en) | Process for the preparation of high-purity, aqueous hydroxylamine solutions | |
DE1233380B (en) | Process for the separation of ethers from residues of the oxo synthesis | |
CS248224B1 (en) | Process for the preparation of high purity n-butyl acetate | |
JP2000001305A (en) | Method for producing purified hydrogen peroxide aqueous solution | |
RU2828879C1 (en) | Method and apparatus for producing high-purity hydrazine from safe raw material | |
EP0211178B1 (en) | Process for eliminating n-butyraldehyde from a gas flow | |
JPH0840708A (en) | Concentrating purification of aqueous hydrogen peroxide solution | |
EP0085372A1 (en) | Process for the continuous recovery of propanol | |
CS247333B1 (en) | A method of preparing high purity acetene | |
EP4578824A9 (en) | Method of producing highly concentrated hydrogen peroxide | |
CS259584B1 (en) | Process for preparing high purity 2-propanol |