CS259377B1 - Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie - Google Patents

Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie Download PDF

Info

Publication number
CS259377B1
CS259377B1 CS862152A CS215286A CS259377B1 CS 259377 B1 CS259377 B1 CS 259377B1 CS 862152 A CS862152 A CS 862152A CS 215286 A CS215286 A CS 215286A CS 259377 B1 CS259377 B1 CS 259377B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
bath
chromium
dmf
water
complex
Prior art date
Application number
CS862152A
Other languages
English (en)
Slovak (sk)
Other versions
CS215286A1 (en
Inventor
Kveta Markusova
Original Assignee
Kveta Markusova
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kveta Markusova filed Critical Kveta Markusova
Priority to CS862152A priority Critical patent/CS259377B1/cs
Publication of CS215286A1 publication Critical patent/CS215286A1/cs
Publication of CS259377B1 publication Critical patent/CS259377B1/cs

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

259377
Vynález sa týká zloženia nekonvenčnéhogalvanického kúpela na pochrómovanie, kte-ré odstraňuje niektoré nedostatky doterazznámých podobných kúpelov (vývoj chlóruna anóde, nízká vodivost kúpela pqdmiene-ná tvorbou iónových párov) pri nezmenenejkvalitě získaných galvanických povlakov. V priemyeelnej praxi sa popři klasickýchvodných chrómovacích kúpeloch na bázešesťmocného chrómu zavádzajú a používa-jú (v zahraničí) aj vodné a nevodné kúpe-le na báze trojmocného chrómu [prehladviď W. Immel, Galvanotechnik, 719 (1979)495). Kúpele na báze Cr(III) majú rad vý-hod oproti klasickým kúpelom na bázeCr(VI), lebo bolo konstatované [-L. Giane-los, Plating and Surface Finishing, 69 (1982)30; J. J. B. Ward. I. R. A. Christie, Ttransac-tions of the Institute of Metal Finishing, 49,(1971) 148], ž,e kúpele na báze Cr(III): 1. Pracujú pri prúdových hustotách zhru-ba o polovicu nižších a podstatné (ažpaťkrát) rýchlejšie ako klasické kúpelena báze Cr(VI). 2. Nepotrebujú rožne úpravy na zlepšeniehíbkovej účinnosti a nebol pozorovanývznik „spálenin“. 3. Majů lepšiu rozptylovú schopnost’. 4. Bahko sa s nimi manipuluje, nepredsta-vujú nebezpečenstvo požiaru. 5. Neobsahujú toxický šesťmocný chróm anevytvárajú žiadne páry a hmly s vyso-kým obsahom chrómu. 6. Vyžadujú nižšiu koncentráciu chrómu aprinášajú zjednodušenia pri čistění od-padových vód, lebo vyžadujú iba neutra-lizáciu na vyzrážanie Cr(OH)3. 7. Poskytujú lesklé povlaky, nezávisle odtoho, či sa počas pokovovanie prúd pře-rušil a nevyžadujú zdroje jednosměrné-ho prúdu. 8. Z hladiska štruktúry vylučovaných po-vlakov je potřebné poznamenat, že narozdiel od klasických kúpelov, ktoré kzískaniu mikrodiskontinuálnych povla-kov používajú speciálně procedúry, súdepozity z kúpelov na báze Cr(III) samyo sebe mikrodiskontinuálne. V prospěch kúpelov na báze Cr(III) za-váži aj fakt, že podlá viacročných lekárs-kych výskumov, robených na zamestnancochpodniku, ktorý chromovali s kúpefmi obsa-hujúcimi iba trojmocný chróm, neboli pozo-rované nijaké škody na zdraví pracovníkov[U. Korallus, E. Ehrlicher, E. Wústefeld,Arbeitsmedizin, Sozialmedizin, Práventivme-dizin, 9 (1974) 51, 76 248],
Dobré výsledky sa vo svete dosiahli sozmesnými vodno-organickými kúpefmi nabáze Cr(III). Ako organické zložky kúpefovsa najčastejšie používajú dimetylované ami-dy, najmá Ν,Ν-diraetylformamid (ďalejDMF), chróm sa do kúpelov přidává vo for-mě chloridu chromitého (ďalej CrCl3)(Brit. Patent 1 144 913; USA Patent 3 772 167; USA Patent 3 772 170; USA Patent 3 788 957),výnimočne vo formě síranu chromitého[ďalej Cr2(SO4)3], ale s přídavkem chloriduamonného (ďalej NH4C1) (USA Patent3 833 485).
Nevýhodou všetkých doteraz používanýchkúpelov na báze CrCl3 (alebo s prídavkomchloridu v inej formě) je jednak vývoj chló-ru na anóde počas elektrolýzy, jednak sa-motný charakter a vlastnosti elektroaktív-nych chlorokomplexov chromitých v kúpe-foch. Prvý z uvedených nedostatkov sa člas-točne odstráni zavedením poréznej přepáž-ky, oddefujúcej katodický priestor ód ano-dického (napr. rit. Patent 1 144 913).
Zavedenié diafragmy však má za násle-dek zvýšenie celkového odporu systému,takže elektrolýza prebieha pri vyššom na-patí, čo je z ekonomického hladiska nevý-hodné. Problematickým ostává naďalej ko-rozívny účinok chlóru, vyvíjajúceho sa naanóde a jeho nepriaznivý vplyv z hladiskaochrany zdravia pracujúcich a ekologické-ho vóbec.
So zretelom na uvedené výhody a nedo-statky jestvujúcich kúpeloch na báze Cr(III)(patentovaných v zahraničí) sa našli mož-nosti získavania galvanických povlakov svlastnosťami, ktoré by spínali požiadavkypraxe nielen z technického a ekonomickéhohladiska, ale aj z hladiska ochrany život-ného prostredia.
Podstatou vynálezu je použitie chlorista-nu chromitého [ďalej Cr(C104)3] na přípra-vu vodno-organického chrómovacieho kú-pela. Táto chromitá sol' je v zmesiachDMF — voda o· róznych pomeroch) dosta-točne rozpustná pre účely galvanického po-chrómovania. Do chrómovacieho kúpela saďalej pridávajú: chloristan amónny (ďalejNH4C104) na zvýšenie stability kúpela, chlo-ristan sodný (ďalej NaC104) a kyselina bo-ritá (ďalej H3BO3) na zvýšenie prúdovej ú-činnosti. Rozpúšťadlo tvoří zmes DMF a vo-dy.
Bola připravená séria chrómovacích kú-pelov s vyššie uvedenými zložkami, pričomsa měnili koncentrácie jednotlivých zložiek.Pokovovacie skúšky ukázali, že kvalitně zr-kadlovolesklé až kovolesklé povlaky s dob-rou prilnavosťou a húževnatesťou sa vylu-čujú z kúpelov, kde koncentračně rozme-dzie jednotlivých anorganických zložiek jév medziach
Cr(C104)3i 0,3-0,8 mól. dm"3, s výhodou0,6-0,6 mól. dm"3,
NaClO4 0,5-0,7 mól. dm"3, s výhodou0,6-0,7 mól. dm"3, NH4C1O4 0,4-0,6 mól. dm"3, s výhodou0,5-0,6 mól. dm"3, H3BO3 0,08—0,12 mól. dm-3, s výhodou0,1 mól. dm"3.
Namiesto NaC104 je možné použit aj LíC104 (chloristan lítny). Výhovujúce zlože- 259377 5 nie zmesného rozpúšťadla DMF — voda jev rozraedzí pomerov (objemových) 30 : 70až 90 : 10, s výhodou však 50 : 50 až 75 :: 25.
Poznamenáváme, že všetky chloristany(chromitý, amónny aj sodný, připadne lít-ny) sa do kúpefa přidávájú vo formě hyd-rátov, a nakolko sa jedná o značné množ-stvá týchto látok, vo vyššie udanej výsled-nej hodnotě poměrného zloženia zmesnéhorozpúšťadla DMF — voda je zahrnutá ajhydrátová (kryštálová aj koordinačná) vo-da, přidaná s uvedenými anorganickými so-fami.
Cerstvo připravený kúpel', pozostávajúci zvyššie uvedených zložiek sa nedá okamži-té použiť na galvanické pochrómovanie, le-bo v čerstvom kúpeli sa všetok trojmocnýchróm nachádza vo formě akvokomplexov[Cr(H2O)g]3+. Povlaky s vyhovujúcimi vlast-nosťami sa vylučujú až po minimálně 10dňovom státí kúpefa pri teploíe vyššej ako273 K (najlepšie medzi 288 až 298 X). Vý-hodné je nechať kúpel' postáť 15 dní. Tátodoba je potřebná, aby v kúpeli prebehla vdostatočnej miere ligandová výměna [Cr(H2O)g]3+ + 6 DMF -> [Cr(DMF)e] + 6 HzO (1)
Reakcia (1) prebieha pomaly, ale spon-tánně, lebo molekuly DMF majú podstatnésilnejšie donorové vlastnosti ako molekulyH2O (V. Gutmann, Coordination Chemistryin Non-Aqueous Solutions, Springer Verlag,Wien — New York, 1968, str. 19).
Vylučovanie chrómu z kúpefa obsahujú-ceho komplex [Cr(DMF)e]3+ je výhodnejšie,ako vylučovanie z kúpefa obsahujúceho ibakomplex [Cr(H2O)6]3+ z týchto dóvodov: a) Komplex [Cr(DMF)6]3+ sa redukuje pripozitivnějších potenciálech (asi o 200mV) a reverzibilnejšie ako komplex[Cr(H2O)s]3+- b) Po redukcii komplexu [Cr(DMF)6]3+ avylúčení kovového chrómu na katodě, u-vofnené ligandy DMF prispievajú k puf-rovaniu roztoku v okolí elektrody (zatial1čo pri redukcii a vylučovaní chrómu zkomplexu [Cr(H2O)6]3+ sa uvofňujú mo-lekuly vody, ktoré majú nepriaznivý vplyvna utváranie pH v okolí elektrody, pri-čom móže dójsť aj k súčasnému vylučo-vaniu vodíka s chrómom, čo vedie kzhoršeniu kvality povlakový Třeba zdórazniť, že komplex [Cr(DMF)6]3+vzniká iba v takom případe, keď roztok ne-obsahuje molekuly alebo ióny s takými sil-nými donorovými vlastonsťami (komplexo-tvorné), ktoré by mohli konkurovat' mole-kulovým ligandom DMF, ako napr. chloridy(Cl-). V opačnom případe — a to je pří-pad všetkých vyššie uvedených (citovaných)patentových kúpefov na báze CrCl3 v zmes-nom rozpúšťadle DMF — voda — sa tvoriaheterokomplexy so zmiešanými chloridový-mi a dimetyiformamidovými ligandami, le-bo donorová sila ligandov DMF a Cl" je při-bližné rovnaká (V. Gutmann, CoordinationChemistry in Non-Aqueous Solutions, Sprin-ger Verlag, Wien — New York, 1968, str. 168). V případe kúpefa na báze CrCl3 podlábrit. patent 1114 913 sme zistili tvorbu kom-plexov [Cr(DMF)4Cl2]+ a [Cr(DMF)3Cl3í].
Navrhovaný kúpel' na báze Cr(C104)3 vy-kazuje aj viacnásobne vyššiu vodivost opro-ti kúpefu na báze CrCl3 (brit. patent1 144 913) pri rovnakom molárnom pomerepříslušných elektrolytov [Cr(C104)3, NH4C1,NaC104 a H3BO3i, resp. CrCl3, NH4C1, NaCl aH3BO3] v rovnakom zmesnom rozpúšťadleDMF — voda. Túto skutočnosť móžeme vy-světlit' zvýšenou tvorbou iónových párov vroztokoch obsahujúcich chloridy. Je známenapr., že hodnota asociačnej konstanty tóno-vého páru {[Cr(DMF)g]3+, CI~{ je viac ako30krát vyššia, ako hodnota asociačnej kon-štanty tónového páru {[Cr(DMF)g]3+, C1O4-}.[S. T. D. Lo T. W. Swaddle, Inorg. Chem.,15, (1976) 1881).
Na základe skúseností s navrhovaným kú-pefom na báze Cr(C104)3 móžeme konstato-vat, že k vyššie vyměňovaným všeobecnýmprednostiam vodno-organických kúpefov nabáze Cr(III) oproti klasickým kúpefom nabáze Cr(VI) pristupujú výhody navrhované-ho kúpefa na báze Cr(C104)3oproti vyššie u-vedeným patentovým kúpefom na báze CrCl3ktoré spočívajú v nasledovnom: a) Pri práci s kúpefom na báze Cr(C104)3sa na anóde neuvofňuje chlór. b) Vylučovací potenciál komplexu [Cr(DMF)6]3+ z kúpefa na báze Cr(C104)3je podstatné pozitivnější, ako vylučova-cie potenciály chlorokomplexov [Cr(DMF)4Cl3j + a [Cr(DMF)3Cl3] z kú-pefov na báze CrCl3. c) Experimentálně bolo potvrdené, že kú-pef na báze Cr(C104)3 je podstatné vo-divější ako kúpel' na báze CrCl3, v kto-rom sa vo vyššej miere uplatňuje tvorbaiónových párov. 239377
Majúc na zřeteli body b, c, pri použití na-vrhovaného kúpeia na báze Cr(C104)3 sapředpokládá podstatné nižšia spotřeba elek-trické] energie (oproti kúpelu na báze
CrCl3).
Experimentálně výsledky v laboratórnommeradle ukázali, že kvalita galvanických po-vlakov získaných z navrhovaného kúpeiana báze Cr(C104)3 sa vyrovná kvalitě povla-kov získaných zo zahraničného patentova-ného- kúpel'a na báze CrClj s prídavkamiNH4C1, NaCl a H:!BO3l (brit. patent 1 144 913],
Pokovovacie skúšky sa uskutečňovali vdvojelektródovom zapojení, pričom katodupředstavovala disková elektroda zo skelné-ho grafitu, zasadená v teflone (dodává sak rotačnej elektróde RDE, Laboratorní pří-stroje Praha).
Katoda bola před vlastným pochromová-ním vyleštěná a poměděná, alebo iba vyleš-těná. Okrem uvedenej katody s presne de-finovanou geometrickou plochou sa použí-vali aj měděné plieškové katody. Kvalitagalvanicky vylúčeného povlaku nezávise-la od materiálu katody. Velkoplošná uhlí-ková anoda bola od katodického priest-oruoddělená sklenou fritou (S lj. Pracovalo saza přístupu vzduchu a pri teplote okolia.Kvalitně zrkadlovolesklé až kovolesklé po-vlaky s výbornou prilnavosťou a húževna-tosťou sa vylučovali pri prúdových husto-tách v intervale od 800 po· 2 000 A . m-2. Primikroskopickom pohlade (pomocou elek-tronového mikroskopu pri 2 000—3 000 ná-sobnom zvačšení) sa potvrdil mikrodisperz-ný charakter získaných povlakov.
Pri prúdových hustotách mimo uvedené-ho intervalu sa vizuálny vzhlad povlakovzhoršuje: strácajú lesk a tmavnu.
Je třeba ešte poznamenat, že kvalita gal-vanických povlakov, získávaných z navrho-vaného kúpeia na báze Cr(C104)3, sa ne-zhoršuje s jeho vekom. Funkčnost kúpeia,ktorého povodně zloženie je uvedené v pří-klade 1, sa opatovne kontrolovala po jed-noročnom a po dvojročnom státí pri teplo-tě okolia (kolísalo' medzi 288 a 298 K). Kva-lita získaných povlakov ostala nezmenenánapriek tomu, že časom sa z kúpeia vy-krystalizovalo nezanedbatelné množstvo kom-plexnej soli [Cr(DMF)6] (C1O4,)3. (Rozpust-nost [Cr(DMF)e] (C1O4)3 v čistom DMF je asi130 g . dm-3, t. j. asi 0,15 molu . dm-3, v čis-tej vodě táto sol nie je vůbec rozpustná}.
Ked reakciou výměny ligandov (1) vznik-ne váčšie množstvo komplexu [Cr(DMF)6]3+,než aké je schopné rozpustit sa v prísluš-nej zmesi DMF — voda, z presýteného roz-toku (kúpeia) sa nadbytočný komplex vy-lúči vo formě kryštálov [Cr(DMF)e] (C1O4)3.Úbytok elektroaktívneho komplexu
I
[Cr(DMF)6]3+, vyvolaný galvanickým vy-lučováním chrómu z kúpeia sa potom do-píňa jednak chemickou reakciou (1), jed-nak rozpúšťaním kryštalického [Cr(DMF)fij-(C1O4);;, a tým sa predížuje životnost kúpe-1'a. Příklad 1 0,6 molu . dm"3 Cr(ClO4)3, 0,5 mólu . dm-3NH4C1O4, 0,6 mólu . dm-3 NaC104 a 0,1 mó-lu . dm"3 H3BO3 rozpustíme za miešania vzmesi DMF — voda o objemovom pomere 50 : : 50 a necháme postát 15 dní. (Po tomto ča-se sa z kúpeia vylučujú kvalitně galvanicképovlaky.) Elektrolýza prebieha za přístupuvzduchu pri teplote okolia (298 K). Katódaje měděná alebo zo skelného uhlíka, anodaje grafitová, katodický a anodický priestorsú od seba oddělené fritou (Sl). Kvalitněgalvanické povlaky sa vylučujú v intervaleprúdových hustót 800—2 000 A . m~2. Příklad 2 0,5 mólu . dm"3 Cr(C104)3, 0,6 mólu . dm"3NH4C1O4, 0,7 mólu. dm"3 NaClO4 a 0,1 mó-lu . dm~3 H3BO3 rozpustíme za miešania vzmesi DMF — voda o objemovom pomere75 : 25 a necháme pestátť 15 dní. Použité e-lektródy ako v příklade 1. Kvalitně galva-nické povlaky sa vylučujú v intervale prú-dových hustot 800—1 800 A . m"2. Příklad 3 0,3 mólu . dm"3 Cr(C104)3, 0,4 mólu . dm-3NH4C1O4, 0,5 mólu. dm"3 NaClO4 a 0,08 mo-lu . dm~3 H3;BO3 rozpustíme za miešania vzmesi DMF — voda o objemovom pomere90 : 10 a necháme postát 15 dní. Použité e-lektródy ako v příklade 1. Kvalitně galva-nické povlaky sa vylučujú v intervale prú-dových hustot 600—1 500 A . m"2. Počas e-lektrolýzy sa kúpel mierne zahrieva. Příklad 4 0,8 mólu . dm '3 Cr (C1O4 )3, 0,6 mólu . dm ’3NH4C1O4, 0,7 mólu. dm"3 NaC104 a 0,12 mó-lu . dm"3 H3BO3 rozpustíme za miešania vzmesi DMF — voda o objemovom pomere30 : 70 a necháme postát 20 dní. Použité e-lektródy ako v příklade 1. Kvalitně galva-nické povlaky sa vylučujú v intervale prú-dových hustot 550—900 A . m"2.
Vodno-organický galvanický kúpel' pre pochrómovanie pódia vynálezu sa může po- užit na také účely, pri ktorých sa vyžadujú mikrodiskontinuálne povlaky, vyznačujúce sa lepšou odolnosťou voči korózii.

Claims (2)

259377 9 10 PREDMET
1. Vodno-organický galvanický kúpel' nabáze Cr(III) pře pochrómovanie, vyznaču-júci sa tým, že pozostáva z chloristanu chro-mitého o tooncentrácii 0,3 až 0,8 mólu . dm-3,chloristanu amonného o koncentrácii 0,4až 0,6 mólu. dm-3, chloristanu sodného a-lebo lítneho o koncentrácii 0,5 až 0,7 mólu. . dm“3 a kyseliny boritej o koncentrácii 0,08až 0,12 mólu. dm-3, rozpuštěných v zmes-nom rozpúšťadle dimetylformamid — voda,pričom zloženie zmesného rozpúšťadla di-metylformamid — voda je v rozmedzí obje-mových pomerov 30 : 70 až 90 : 10.
2. Vodno-organický galvanický kúpel' na VYNALEZU báze Cr(III) pre pochrómovanie podlá bo-du 1, vyznačujúci sa tým, že s výhodou po-zostáva z chloristanu chromitého o koncen-trácii 0,5 až 0,6 mólu. dm"·3, chloristanu a-mónneho o koncentrácii 0,5 až 0,6 mólu.. dm-3, chloristanu sodného alebo lítneho okoncentrácii 0,6 až 0,7 mólu . dm-3 a kyseli-ny boritej o koncentrácii 0,1 mólu. dm“3rozpuštěných v zmesnom rozpúšťadle dime-tylformamid — voda, pričom zloženie zmes-ného rozpúšťadla dimetylformamid — vodaje v rozmedzí objemových pomerov 50 : 50až 75 : 25.
CS862152A 1986-03-27 1986-03-27 Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie CS259377B1 (sk)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS862152A CS259377B1 (sk) 1986-03-27 1986-03-27 Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS862152A CS259377B1 (sk) 1986-03-27 1986-03-27 Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS215286A1 CS215286A1 (en) 1988-03-15
CS259377B1 true CS259377B1 (sk) 1988-10-14

Family

ID=5357822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS862152A CS259377B1 (sk) 1986-03-27 1986-03-27 Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS259377B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS215286A1 (en) 1988-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4417955A (en) Method of and solution for electroplating chromium and chromium alloys and method of making the solution
JPWO2019117178A1 (ja) 3価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法
US4157945A (en) Trivalent chromium plating baths
TWI402381B (zh) 使用離子液體電沈積金屬之方法
Fink et al. The electrodeposition of tungsten from aqueous solutions
BR112016018584A2 (pt) processo de banho continuo de cromo trivalente
US2990343A (en) Chromium alloy plating
US4141803A (en) Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition
JPS5887291A (ja) クロム電気メツキ液
US4212708A (en) Gold-plating electrolyte
CS259377B1 (sk) Vodno-organický galvanický kúpel' na báze Cr(III) pre pochrómovanie
Reddy et al. Electrodeposition of ruthenium
US3772167A (en) Electrodeposition of metals
CA1123370A (en) Electroplating chromium and its alloys using chromium thiocyanate complex
KR102054101B1 (ko) 황(s) 성분이 없는 시안-카르복시기 복합제로 이루어진 전기도금액용 3가 크롬 이온의 2가 산화 방지제 및 이를 포함하는 3가 크롬 전기 도금액
GB1144913A (en) Electrodeposition of chromium
SU583209A1 (ru) Электролит серебрени
Tsurtsumia et al. Study of the influence of the electrolysis parameters on Mn-Zn, Mn-Cu and Mn-Cu-Zn alloys coating from electrolytes containing complexing ligands
US3733346A (en) Werner chromium complexes and method for their preparation
CN106435671A (zh) 一种新型电镀锡钴合金工艺
Nambiar et al. Anion-exchange separation of cobalt from nickel
GB2033429A (en) Electrolyte for Cathodic Deposition of Alloys of Nickel with Molybdenum
Kasaaian et al. Chromium--Iron Alloy Plating From a Solution Containing Both Hexavalent and Trivalent Chromium
SU1425257A1 (ru) Электролит хромировани
Kenoffel Electrolytic Deposition of Iron