CS252633B1 - Zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu - Google Patents
Zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu Download PDFInfo
- Publication number
- CS252633B1 CS252633B1 CS863212A CS321286A CS252633B1 CS 252633 B1 CS252633 B1 CS 252633B1 CS 863212 A CS863212 A CS 863212A CS 321286 A CS321286 A CS 321286A CS 252633 B1 CS252633 B1 CS 252633B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- transilluminated
- rasterized image
- electron
- aperture
- parallel scanning
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Podstatou zařízení je, že pod zkoumaným
objektem v ose elektronového svazku
a v difrakční rovině objektivu je suvně
uspořádán polovodičový detektor, například
PIN dioda, opatřená otvorem tvořícím
clonu, která je spojena přes zesilovací
řetězec s monitorem.
Description
Vynález se týká zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu.
Dosavadní elektronové mikroskopy neumožňují souběžné snímání prozářeného a rastrovaného obrazu pozorovaného objektu. A tedy neumožňuji souběžné srovnání obrazů kvalitativně jiných typů kontrastů.
Dosavadní nevýhody odstraňuje zařízeni k souběžnému snímání prozářeného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu, jehož podstatou je, že pod zkoumaným objektem, v ose elektronového svazku a v difrakčni rovině objektivu je suvně uspořádán polovodičový detektor, například PIN dioda opatřená otvorem tvořícím clonu, která je spojena přes zesilovací řetězec s monitorem.
Hlavní předností vynálezu je možnost souběžného pozorování jak prozařovaného obrazu na stínítku mikroskopu, tak i rastrovaného obrazu na stínítku monitoru, přičemž detektor vytváří současně funkční činnost clony. Zařízeni umožňuje pozorování i změnu pozorování jak v rastrovacím systému, tak i v prozařovacím systému.
Vynález blíže objasňuje přiložený výkres, na kterém je schéma optické soustavy v osovém řezu. Optická soustava sestává z autoemisního zdroje 2 elektronového svazku, v jehož ose x jsou za sebou umístěny vychylovací cívky 2» zkoumaný objekt 2 a objektiv £.
V difrakčni rovině objektivu £, která je vyznačena osou y je umístěn polovodičový detektor 5, spojený přes zesilovací řetězec 7_ s monitorem 2· Polovodičový detektor 2 3® opatřen otvorem 6, který nahrazuje v požadovaném případě funkci clony. Pozorovací stínítko 2 elektronového mikroskopu ukončuje optickou soustavu. Detektor 2 lze vytvořit použitím například PXN diody.
Zařízeni pracuje za provozu elektronového mikroskopu takto: Po seřízení elektronového mikroskopu uvedeme do činnosti rastrovací adaptér a detektor 2 tvořící clonu vsuneme na optickou osu x systému tak, aby svazek odpovídající světlému poli procházel otvorem 2 detektoru 5.
V tomto případě vzniká na stínítku 2 prozařovacího mikroskopu v čase rozvinutý obraz ve světlém poli, jehož zorné pole je dáno rozkmitem rastrovacího adaptéru a z detektoru tvořícího clonu je možno snímat v čase rozvinutý elektrický signál, získaný dopadem elektronů, zkoumaným objektem 2 rozptýlených, tedy signál v temném poli, který po zpracování videotrasou monitorujeme na televizní obrazovce monitoru 2·
Při přesunutí detektoru 2 mimo optickou osu x snímáme z detektoru 2 převážně signál odpovídající světlému poli a na stínítku 2 prozařovacího mikroskopu pozorujeme v čase rozložený obraz v temném poli.
Vynález je určen pro elektronově optická zařízení.
Claims (1)
- Zařízeni k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu, vyznačené tím, že pod zkoumaným objektem (3) v ose elektronového svazku a v difrakčni rovině (y) objektivu (4) je suvně uspořádán polovodičový detektor (5), napříkladPIN dioda opatřená otvorem tvořícím clonu, která je spojena přes zesilovací řetězec (7) s monitorem (8).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS863212A CS252633B1 (cs) | 1986-05-04 | 1986-05-04 | Zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS863212A CS252633B1 (cs) | 1986-05-04 | 1986-05-04 | Zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS321286A1 CS321286A1 (en) | 1987-02-12 |
CS252633B1 true CS252633B1 (cs) | 1987-09-17 |
Family
ID=5371545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS863212A CS252633B1 (cs) | 1986-05-04 | 1986-05-04 | Zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS252633B1 (cs) |
-
1986
- 1986-05-04 CS CS863212A patent/CS252633B1/cs unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS321286A1 (en) | 1987-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4211924A (en) | Transmission-type scanning charged-particle beam microscope | |
US4441124A (en) | Technique for inspecting semiconductor wafers for particulate contamination | |
CN107123584B (zh) | 在带电粒子显微镜中研究动态样本行为 | |
US6797954B2 (en) | Patterned wafer inspection method and apparatus therefor | |
CN110849926B (zh) | 使用带电粒子显微镜检查样品的方法 | |
US4720191A (en) | Method and apparatus for light span microscopic dark-field display of objects | |
US4929041A (en) | Cathodoluminescence system for use in a scanning electron microscope including means for controlling optical fiber aperture | |
EP1953791A1 (en) | Apparatus for observing a sample with a particle beam and an optical microscope | |
US6553323B1 (en) | Method and its apparatus for inspecting a specimen | |
US20040016888A1 (en) | Semiconductor device inspecting apparatus | |
KR20230043199A (ko) | 하전 입자빔 장치 및 시료 관찰 방법 | |
JP2000161948A (ja) | 回路パターン検査装置、および回路パターン検査方法 | |
CN111627787B (zh) | 多射束扫描透射带电粒子显微镜 | |
JP2021162590A (ja) | 電子エネルギー損失分光検出器を備えた透過型荷電粒子顕微鏡 | |
US3872305A (en) | Convertible scanning electron microscope | |
CS252633B1 (cs) | Zařízení k souběžnému snímání prozařovaného a rastrovaného obrazu v elektronovém mikroskopu | |
DE69211378T2 (de) | Raster Reflektions-Beugungselektronenmikroskop | |
Wilke | Laser scanning in microscopy | |
US3155827A (en) | Electron microscope with a secondary electron source utilized for electron probe analysis | |
JP7676719B2 (ja) | 透過型荷電粒子顕微鏡を使用して試料を画像化する方法 | |
US12183542B2 (en) | Transmission electron microscope and imaging method | |
DE112017007498B4 (de) | Ladungsträgerstrahlvorrichtung | |
GB1588234A (en) | Transmission type beam nicroscopes utilising a scanning technique | |
JP4045058B2 (ja) | 多重荷電粒子検出器、及びそれを用いた走査透過電子顕微鏡 | |
Kimoto et al. | Scanning electron microscope as a tool in geology and biology |