CS252292B1 - Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného - Google Patents

Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného Download PDF

Info

Publication number
CS252292B1
CS252292B1 CS856957A CS695785A CS252292B1 CS 252292 B1 CS252292 B1 CS 252292B1 CS 856957 A CS856957 A CS 856957A CS 695785 A CS695785 A CS 695785A CS 252292 B1 CS252292 B1 CS 252292B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
impurities
trichloride
phosphorus pentoxide
decomposition
admixtures
Prior art date
Application number
CS856957A
Other languages
English (en)
Other versions
CS695785A1 (en
Inventor
Josef Pola
Vaclav Chvalovsky
Original Assignee
Josef Pola
Vaclav Chvalovsky
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Josef Pola, Vaclav Chvalovsky filed Critical Josef Pola
Priority to CS856957A priority Critical patent/CS252292B1/cs
Publication of CS695785A1 publication Critical patent/CS695785A1/cs
Publication of CS252292B1 publication Critical patent/CS252292B1/cs

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného rozkladem těchto příměsí na produkty, které lze od trichloridu oxidu fosforečného oddělit snáze, spočívající v tom, ze rozklad příměsí se indukuje fokusovaným zářením kontinuálního C02 laseru o vlnové délce 10,5 až 10,8/um v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilátoru infračerveného záření.

Description

Vynález se týká způsobu odstraňováni příměsí organických halogenidu z trichloridu oxidu fosforečného·
Je známo, že komerčně dostupný trichlorid oxid fosforečný obsahuje kromě anorganických příměsi i organické halogenidy, hlavně trichlormethan, bromdichlormethan, tribrommethan, 1,1,2-trichlorethan a 1,1,2,2-tetrachlorethan (Metody Poluch. Anal. Veschestv Osoboi Chist., Tr. Vses. Konf., Gorkii 1968} Vysoce čisté látky pro sklovitá vlákna, literární rešerše ÚACH ČSAV, Praha) v množstvích desítek mg/kg.
V trichloridu oxidu fosforečném, používaném jako dopant pro přípravu křemenných světlovodných vláken o nízkém útlumu je třeba obsah těchto nečistot snížit na minimum.
Dosavadní technika přípravy trichloridu oxidu fosforečného o čistotě vhodné pro optická vlákna, pomocí které lze obsah organických příměsí snížit spočívá ve chloraci příměsí (J. Electrochem. Soc. 131, 361 (1984); Vysoce čisté látky pro světlovodná vlákna, zpráva ÚACH ČSAV Praha, 1984) a jejich převedení na méně těkavé perchlorované produkty. Nevýhodou této techniky je práce s agresivním chlorem, který může být potenciální zdroj dalších nečistot.
Tyto nevýhody odstraňuje podle vynálezu způsob odstraňování organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného selektivní, laserem indukovanou pyrolýzou těchto příměsí, která probíhá výhradně v malém objemu plynné fáze s vyloučením reakcí na stěnách reaktoru, které zůstávají během pyrolýzy chladné. Ve srovnání s konvenční pyrolýzou je laserová pyrolýza výhodnější, neboť zabraňuje interakci mezi korosivním trichloridem oxidem fosforečným a stěnami reaktoru. Ukládání perchlorovaných netěkavých produktů pyrolýzy na studených stěnách reaktoru navíc
- 2 252 292 neovlivňuje průběh laserové pyrolýzy, třebaže při konvenční pyrolýze vede ke spojité změně charakteru horkých stěn a ke zhoršeni kontroly teplotního režimu.
Jeho podstata spočívá v tom, že fotosenzibilovaný rozklad příměsí trichloridu oxidu fosforečného se indukuje fokusovaným zářením kontinuálního COg laseru pracujícího na vlnové délce
10,5 až 10,8 jtua s výkonem vyšším než 5 W v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilátoru infračerveného záření.
Podle vynálezu lze odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného jejich selektivním, COg laserem fotosenzihilovaným (SFg) rozkladem uskutečnit ozařováním komerčně dostupného POCl^ ve statickém nebo průtokovém zařízení, přičemž velikost horké zóny i maximální teplota tohoto objemu a tím i distribuce produktů a rychlost,pyrolýzy jsou regulovatelné volbou parametrů záření a parciálním tlakem senzibilátoru. OJypický COg laser poskytující uspokojivé výsledky je kontinuální COg-He-Ng laser o výkonu vyšším než 3 W, pracující na vlnové délce 10,5 až 10,8 um, jehož zářeni je fokusováno. Komerční trichlorid oxid fosforečný je ozařován ve vhodné kovové nebo skleněné nádobě opatřené vstupním okénkem z materiálu propustným pro záření laseru. Tento reaktor je součástí aparatury, umožňující následnou separaci ve srovnáni s původními nečistotami těkavějších pyrolytických produktů mechanickými nebo destilačními pochody. Při celkovém tlaku směsi POCl^-SPg menším než 103 ^Pa (statické uspořádání) nebo vhodných průtokových rychlostech (dynamické uspořádání) probíhá laserem fotosenzibilovaný rozklad příměsí trichloridu oxidu fosforečného vedoucí v krátkém reakčním čase k vysokým konverzím.
Uvedený způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného COg laserem fotosenzihilovaným (SFg) rozkladem těchto příměsí je především významný tím, že je výhodnější alternativou dosud používané chlorace příměsí a může se uplatnit jako stadium přípravy velmi čistého trichloridu oxidu fosforečného v množstvích potřebných pro výrobu světlovodných vláken.
Příklad
Reaktor válcového tvaru (objem 125 ml) opatřený NaCl okénkem byl napuštěn trichloridem oxidem fosforečným (1,1 kPa), flu252 292 oridem sírovým (0,5 kPa) a ethylchloridem (1,1 kPa) a tato směs byla ozařována 15 s fokusovaným zářením (ohnisková vzdálenost germaniové Čočky 100 mm) kontinuálního C0o laseru o vlnočtu
-1 K
944,2 om o výkonu 26 W. Analýza směsi 10 spektrometrií prokázala téměř kompletní rozklad ethylchloridu na chlorovodík a ethylen.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného rozkladem těchto příměsí na produkty, které lze od trichloridu oxidu fosforečného oddělitz vyznačený tím, že rozklad příměsí se indukuje fokusovaným zářením kontinuálního COg-laseru o vlnové délce 10,5 až 10,8ýum v přítomnosti fluoridu sírového jako senzibilátoru infračerveného záření.·
CS856957A 1985-09-28 1985-09-28 Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného CS252292B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS856957A CS252292B1 (cs) 1985-09-28 1985-09-28 Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS856957A CS252292B1 (cs) 1985-09-28 1985-09-28 Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS695785A1 CS695785A1 (en) 1987-01-15
CS252292B1 true CS252292B1 (cs) 1987-08-13

Family

ID=5417795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS856957A CS252292B1 (cs) 1985-09-28 1985-09-28 Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS252292B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS695785A1 (en) 1987-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5326729A (en) Transparent quartz glass and process for its production
Prochaska et al. Matrix photodissociation and photoionization of carbon tetrahalides with noble gas resonance radiation
JPS5567533A (en) Production of glass base material for light transmission
Emeleus et al. Effect of light on the ignition of monosilane-oxygen mixtures
US3128169A (en) Process for making quartz glass casings
JP2980510B2 (ja) 紫外線ランプ用高純度シリカガラスおよびその製造方法
US2904713A (en) Casings for gas discharge tubes and lamps and process
JPS6351977B2 (cs)
US2307552A (en) Controlled hydrohalogenation of unsaturated organic compounds
US3870497A (en) Method eliminating discontinuities in a quartz article
US4060469A (en) Preparation of 1,1,1-trifluoro-2,2-dichloroethane
KR20070018884A (ko) 카르보닐 플루오라이드의 제조
CS252292B1 (cs) Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z trichloridu oxidu fosforečného
Podolske et al. Rate of the resonant energy-transfer reaction between molecular oxygen (1. DELTA. g) and perhydroxyl (HOO)
US4539032A (en) SF6 Process for dehydration of fluoride glasses
US5085748A (en) Process for enriching carbon 13
GB2185494A (en) Vapour phase deposition process
JP3368932B2 (ja) 透明石英ガラスとその製造方法
US1271790A (en) Photochemical apparatus.
JPH0469572B2 (cs)
US2566163A (en) Manufacture of tetrachlorodifluoroethane
CS239998B1 (cs) Způsob odstraňováni příměsi organických halogenidů z chloridu germaničitého
CS239955B1 (cs) Způsob odstraňování příměsí organických halogenidů z chloridu boritého
US20250091868A1 (en) Apparatus and method for producing trifluoramine oxide
JPS61134343A (ja) アクリル酸あるいはアクリル酸エステルの光塩素化方法