CS248343B1 - Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS - Google Patents

Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS Download PDF

Info

Publication number
CS248343B1
CS248343B1 CS184085A CS184085A CS248343B1 CS 248343 B1 CS248343 B1 CS 248343B1 CS 184085 A CS184085 A CS 184085A CS 184085 A CS184085 A CS 184085A CS 248343 B1 CS248343 B1 CS 248343B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
rene
ion source
graphite lid
radius
bbrnas
Prior art date
Application number
CS184085A
Other languages
English (en)
Inventor
Miroslav Janata
Jan Petrovic
Original Assignee
Miroslav Janata
Jan Petrovic
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miroslav Janata, Jan Petrovic filed Critical Miroslav Janata
Priority to CS184085A priority Critical patent/CS248343B1/cs
Publication of CS248343B1 publication Critical patent/CS248343B1/cs

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS má obdélníkový tvar ae zaoblením (2) poloměru r na kratších stranách obdélníka. Z vnější strany (7) má grafitové víko válcové vybrání (6) poloměru R. Podstata řešení spočívá v tom, že výstupní štěrbina má zmenšenou délku sražené hrany (5). čímž vznikne plošné ukončení okrajů (8) výstupní štěrbiny grafitového víka.

Description

(54) Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS má obdélníkový tvar ae zaoblením (2) poloměru r na kratších stranách obdélníka. Z vnější strany (7) má grafitové víko válcové vybrání (6) poloměru R. Podstata řešení spočívá v tom, že výstupní štěrbina má zmenšenou délku sražené hrany (5). čímž vznikne plošné ukončení okrajů (8) výstupní štěrbiny grafitového víka.
(51) Int. ClA
H 01 L 21/265
248 543
248 343
Vynález se týká grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS používaného například v iontovém implantátoru, u něhož se řeží zvýšení životnosti při dodržení zaručovaných parametrů vycházejícího iontového svazku, jehož kritériem je ostrost, plošná homogenita a dosahovaný iontový proud.
Dosud známé řešení grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS má výstupní štěrbinu, jejíž okraje jsou opracovány do sražené hranjr která je velmi choulostivá na mechanické poškození. Za provozu dochází k odprašování materiálu z vnitřní plochy a k současnému nanášení frakcí zdrojových plynů, nebo naprašování tantalu ze žhavené katody, které je nutné pravidelně odstraňovat. Odprašováním a čištěním dochází k rozšiřování výstupní štěrbiny. Životnost grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje týpu RENE BERNAS je určena maximálním povoleným opotřebením, nebo-li rozšířením výstupní štěrbiny.
Uvedené nedostatky odstraňuje grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že výstupní štěrbina má zmenšenou délku sražená hrany, čímž vznikne plošné ukončení okrajů výstižní štěr biny.
U grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS, kterého výstupní Štěrbina má vlivem zmenšení dálky sražené hrany plošné ukončení okrajů, dochází při opotřebení nejdříve ke zmenšování šířky plošného ukončení okrajů výstupní Štěrbiny, čímž se dosahuje absolutní prodloužení životnosti a až pak dochází k rozšiřování výstupní štěrbiny.
- 3 248 343
Na přiložených výkresech je na obr. 1 znázorněno grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS, na obr. 2 jeho bokorys, na obr. 3 je původní provedení opracování okrajů výstupní Štěrbiny a na obr. 4 je provedení opracování okrajů výstupní štěrbiny podle vynálezu.
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS 1 má obdélníkový tvar se zaoblením 2 poloměru r na kratších stranách obdélníka. Z vnější strany 7 má grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje válcové vybrání 6 poloměru R. Uprostřed je výstupní štěrbina 2» jejíž okraje 4 jsou opracovány do sražené hrany Zmenšením délky sražené hrany vznikne plošné ukončení okrajů 8 výstupní štěrbiny 2·
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS se využívá zvláště u iontových implantátorů.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    I
    248 343
    Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS obdélníkového tvaru se zaoblením poloměru r na kratších stranách obdélníka s válcovým vybráním poloměru R z vnější strany* vyznačené tím, že výstupní štěrbina /3/ má zmenšenou délku sražené hrany /5/, čímž vznikne plošné ukončení okrajů /8/ výstupní štěrbiny/3/.
    1 výkres
CS184085A 1985-03-18 1985-03-18 Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS CS248343B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS184085A CS248343B1 (cs) 1985-03-18 1985-03-18 Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS184085A CS248343B1 (cs) 1985-03-18 1985-03-18 Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS248343B1 true CS248343B1 (cs) 1987-02-12

Family

ID=5353775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS184085A CS248343B1 (cs) 1985-03-18 1985-03-18 Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS248343B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3582617D1 (de) Geraet zur ionenstrahlbearbeitung.
DE3174272D1 (en) Cutting insert for deep grooving
ATE119015T1 (de) Künstliches spondylodese-implantat.
ATE363249T1 (de) Wirbelkäfigimplantat
EP0105694B1 (en) Charged particle beam exposure apparatus
DE3875257D1 (de) Massenspektrometer fuer positive und negative ionen.
US4258982A (en) Lens cell
CS248343B1 (cs) Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS
SG81331A1 (en) Rotatable workpiece support including cylindrical workpiece support surfaces for an ion beam implanter
GB1279449A (en) Apparatus for ion implantation
US3676911A (en) Holding tool
GB1328320A (en) Charged-particle beam-forming and imaging sytems
EP0439220A3 (en) Device for the ionization of metals having a high melting point, which may be used on ion implanters of the type using ion sources of freeman or similar type
GB8319949D0 (en) Electron beam lithography
CN101322216B (zh) 在离子植入机中提供成段的静电透镜的技术
EP0397226A1 (en) Electric lamp and holder for such a lamp
GB9025085D0 (en) Electrostatic multipole lens for charged-particle beam
JPS57123639A (en) Method for monitoring ion current for ion implantation apparatus
KR200156134Y1 (ko) 반도체소자제조용 이온주입 장비의 포커싱 플레이트
US4947041A (en) Analyzer tube for mass spectrometry
ATE99840T1 (de) Elektrischer kontakt.
Tetel'baum et al. Mechanism of long-range action in the case of the irradiation of solid bodies
US6346155B1 (en) Laser bar clamp
CN111627788A (zh) 弯曲的后扫描电极的离子植入机系统设备
JPH0517912U (ja) イオン源電極調整治具