CS248343B1 - Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS - Google Patents
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS Download PDFInfo
- Publication number
- CS248343B1 CS248343B1 CS184085A CS184085A CS248343B1 CS 248343 B1 CS248343 B1 CS 248343B1 CS 184085 A CS184085 A CS 184085A CS 184085 A CS184085 A CS 184085A CS 248343 B1 CS248343 B1 CS 248343B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- rene
- ion source
- graphite lid
- radius
- bbrnas
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS má obdélníkový tvar ae zaoblením (2) poloměru r na kratších stranách obdélníka. Z vnější strany (7) má grafitové víko válcové vybrání (6) poloměru R. Podstata řešení spočívá v tom, že výstupní štěrbina má zmenšenou délku sražené hrany (5). čímž vznikne plošné ukončení okrajů (8) výstupní štěrbiny grafitového víka.
Description
(54) Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS má obdélníkový tvar ae zaoblením (2) poloměru r na kratších stranách obdélníka. Z vnější strany (7) má grafitové víko válcové vybrání (6) poloměru R. Podstata řešení spočívá v tom, že výstupní štěrbina má zmenšenou délku sražené hrany (5). čímž vznikne plošné ukončení okrajů (8) výstupní štěrbiny grafitového víka.
(51) Int. ClA
H 01 L 21/265
248 543
248 343
Vynález se týká grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS používaného například v iontovém implantátoru, u něhož se řeží zvýšení životnosti při dodržení zaručovaných parametrů vycházejícího iontového svazku, jehož kritériem je ostrost, plošná homogenita a dosahovaný iontový proud.
Dosud známé řešení grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS má výstupní štěrbinu, jejíž okraje jsou opracovány do sražené hranjr která je velmi choulostivá na mechanické poškození. Za provozu dochází k odprašování materiálu z vnitřní plochy a k současnému nanášení frakcí zdrojových plynů, nebo naprašování tantalu ze žhavené katody, které je nutné pravidelně odstraňovat. Odprašováním a čištěním dochází k rozšiřování výstupní štěrbiny. Životnost grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje týpu RENE BERNAS je určena maximálním povoleným opotřebením, nebo-li rozšířením výstupní štěrbiny.
Uvedené nedostatky odstraňuje grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že výstupní štěrbina má zmenšenou délku sražená hrany, čímž vznikne plošné ukončení okrajů výstižní štěr biny.
U grafitového víka ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS, kterého výstupní Štěrbina má vlivem zmenšení dálky sražené hrany plošné ukončení okrajů, dochází při opotřebení nejdříve ke zmenšování šířky plošného ukončení okrajů výstupní Štěrbiny, čímž se dosahuje absolutní prodloužení životnosti a až pak dochází k rozšiřování výstupní štěrbiny.
- 3 248 343
Na přiložených výkresech je na obr. 1 znázorněno grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS, na obr. 2 jeho bokorys, na obr. 3 je původní provedení opracování okrajů výstupní Štěrbiny a na obr. 4 je provedení opracování okrajů výstupní štěrbiny podle vynálezu.
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS 1 má obdélníkový tvar se zaoblením 2 poloměru r na kratších stranách obdélníka. Z vnější strany 7 má grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje válcové vybrání 6 poloměru R. Uprostřed je výstupní štěrbina 2» jejíž okraje 4 jsou opracovány do sražené hrany Zmenšením délky sražené hrany vznikne plošné ukončení okrajů 8 výstupní štěrbiny 2·
Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS se využívá zvláště u iontových implantátorů.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZUI248 343Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BERNAS obdélníkového tvaru se zaoblením poloměru r na kratších stranách obdélníka s válcovým vybráním poloměru R z vnější strany* vyznačené tím, že výstupní štěrbina /3/ má zmenšenou délku sražené hrany /5/, čímž vznikne plošné ukončení okrajů /8/ výstupní štěrbiny/3/.1 výkres
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS184085A CS248343B1 (cs) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS184085A CS248343B1 (cs) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS248343B1 true CS248343B1 (cs) | 1987-02-12 |
Family
ID=5353775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS184085A CS248343B1 (cs) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS248343B1 (cs) |
-
1985
- 1985-03-18 CS CS184085A patent/CS248343B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3582617D1 (de) | Geraet zur ionenstrahlbearbeitung. | |
| DE3174272D1 (en) | Cutting insert for deep grooving | |
| ATE119015T1 (de) | Künstliches spondylodese-implantat. | |
| ATE363249T1 (de) | Wirbelkäfigimplantat | |
| EP0105694B1 (en) | Charged particle beam exposure apparatus | |
| DE3875257D1 (de) | Massenspektrometer fuer positive und negative ionen. | |
| US4258982A (en) | Lens cell | |
| CS248343B1 (cs) | Grafitové víko ionizační komůrky iontového zdroje typu RENE BBRNAS | |
| SG81331A1 (en) | Rotatable workpiece support including cylindrical workpiece support surfaces for an ion beam implanter | |
| GB1279449A (en) | Apparatus for ion implantation | |
| US3676911A (en) | Holding tool | |
| GB1328320A (en) | Charged-particle beam-forming and imaging sytems | |
| EP0439220A3 (en) | Device for the ionization of metals having a high melting point, which may be used on ion implanters of the type using ion sources of freeman or similar type | |
| GB8319949D0 (en) | Electron beam lithography | |
| CN101322216B (zh) | 在离子植入机中提供成段的静电透镜的技术 | |
| EP0397226A1 (en) | Electric lamp and holder for such a lamp | |
| GB9025085D0 (en) | Electrostatic multipole lens for charged-particle beam | |
| JPS57123639A (en) | Method for monitoring ion current for ion implantation apparatus | |
| KR200156134Y1 (ko) | 반도체소자제조용 이온주입 장비의 포커싱 플레이트 | |
| US4947041A (en) | Analyzer tube for mass spectrometry | |
| ATE99840T1 (de) | Elektrischer kontakt. | |
| Tetel'baum et al. | Mechanism of long-range action in the case of the irradiation of solid bodies | |
| US6346155B1 (en) | Laser bar clamp | |
| CN111627788A (zh) | 弯曲的后扫描电极的离子植入机系统设备 | |
| JPH0517912U (ja) | イオン源電極調整治具 |