CS247295B1 - Zariadenie na ohřev vo vákuu rotujúcich a fotopolovodivým materiálom naparovaných tenkostenných válcových podložiek - Google Patents

Description

247295

Vynález sa týká zariadenia na ohřev vovákuu rotujúcich a fotopolovodivým mate-riáloví naparovaných tenkostenných válco-vých podložiek.

Jedným z rozhodujúcich faktorov, urču-júcich kvalitu elektrografické] vrstvy je tep-lota tenkosiennej válcové] podložky počasvakuového naparovanla fotopolovodivéhomateriálu na túto podložku. Od teploty ten-kostennej válcové] podložky priamo závisívýsledná struktura naparenej elektrografic-ké] vrstvy -a tým a] je] elektrické vlastnos-ti- Preto- je velmi doležité udržiavať teplotutenkcsiteninej vlailcovef] podložky počas niapia-rovania fotopolovodivého materiálu na vo-pred zvo-lenej hodnotě.

Doteraz známe zariadenie na ohřev te-n-kostenných válcových podložiek používajú.ako teplonosné médium vodu alebo inú kv-a-p-alinu, privádzanú do dutého valca z ne-hirdizaveijú-ce-hio koivu, -totoirého vomlk-a-jší ipirie-mer je zhodný s vnútomým priemerom ten-kostennej valcovej podložky, ktorá sa natento- dutý válec nasunie. Predo-m zvolenáteplota kvapaliny sa udržuje pomo-cou ter-mostatu, cez ktorý tov-apalina cirkuluje. Tep-lo z kvapaliny do- tenkostennej valco-ve] pod-ložky sa privádza vedením cez stenu duté-ho valca.

Nevýhodou uvedených zariadení je: — nutnost přesného mechanického opraco-vania vnútorného povrchu tenkostennejvalcovej podložky, čím sa zvyšujú jej vý-robně náklady, — prípravok, kto-rého súčasťou je dutý ko-vový válec s teplonosnou kvapalinou jevýrobně zložitý a drahý, — prípravok zaberá v recipiente vela mies-ta -a vyžaduje si zabudo-vanie prechodiekpre kvap-alinu do steny, alebo- dna reci-pienta, — přítomnost potrubí s kvapalinou v reci-piente je z hladiska prevádzky vákuové-ho zariadenia poměrně nebezpečná akladie vysoké nároky n-a těsnost celéhosystému, — dutý válec s teplonosnou kvapalinou po-čas celého naparovacieho procesu v re-cipiente rotuje a pripojenie potrubí s tep-lonosnou kvapalinou k takémuto systé-mu je konstrukčně i technologicky -ná-ročné a z hl-adiska těsnosti systému ne-spolehlivé.

Vyššie uvedené nevýhody odstraňuje za-riadenie na o-hrev tenkostenných válcovýchpodložiek podl'a tohoto vynálezu, pozo-stá-vajúce z výhřevného telesa, odraznej plochya snímača teploty. Podstata vynálezu spo-čívá v tom, že výhřevné teleso- a odr-azná plo-cha sú nepohybli-vo umiestnené vo vnútritenkostennej v-alcovej podložky, kde výhřev-né teleso a snímač teploty sú súčasťou re-gulačného obvodu, pričom snímač teplotyje počas naparovacieho cyklu trvale mecha- nicky přitlačený k vnútornému povrchu ten-kostennej v-alcovej podložky a je vočl nejtrv-ale v relatívnom pokoji.

Zariadenie podl-a toho-to vynálezu umož-ňuje jednoduché a spolehlivé o-hrievanietenkostennej valcovej podložky v recipien-te, pričom — odpadá nutnost přesného mechanickéhoopracovania celého vnútorného povrchutenkostennej valcovej podložky, čím saznižujú výrobně nákl-ady, — prípravok na uchytenie žiariaceho tele-sa je velmi jednoduchý a priestorovonenáročný, — nehrozí nebezpečie vniknutia kvap-ailinydo vákuového systému, — regulácia teploty tenkostennej valcovejpodložky je po-hotovejšia, ako je tomu vpřípade vyhrie-vania teplonosnou kvapa-linou. Příklad uspori-adania tohoto zariadenia jeznázorněný na pripojenom výkrese v per-spektívnom pohlade.

Vo vnútri hliníko-vej tenkostennej valco-vej podložky 1 je na pevnej oske 2 nepo-hyblivo umiestnené výhřevné teleso- 3, tvo-řené v- tomto případe halogénovo-u ži-arov-kou, pričom po-zdížna os výhřevného tele-sa 3 je rovnoběžná s pozdíž-nou o-sou tenko-stennej valcovej podložky. 1. Na pev-nej os-ke 2 je ďailej nepohyblivo umiestnená od-razná plocha 4 a n-a ro-tujúco-m unášacomčele 5 je pevne uchytený no-sič snímača tep-loty 6.

Zariadenie po-dl'-a tohoto vynálezu pracu-je tak, že prechodom elektrického prúdu cezvýhřevné teleso 3 vzniká tepelná energia,kto-rú výhřevné teleso 3 odevzdává otáčajú-cej sa tenkostennej valcovej podložke 1 žia-rením. Rovnoměrnost ohřevu celej plochytenkostennej v-alcovej podložky 1 je zaiste-ná ro-táciou celej plochy tenkostennej v-al-covej podložky 1 je zaistená ro-táciou celejplochy okolo zdro-ja tepelnej energie a od-raznou plochou 4, ktorá žiarivý tok tepelnejenergie z výhřevného telesa 3 rovnoměrněusměrňuje.

Udržiavanie teploty tenkostennej valco-vej podložky 1 na požadovainej hodnotě sadeje prostredníctvo-m regulačného obvodu,ktorého súčasťou je elektronický regulátor,výhřevné teleso 3 a snímač teploty 6. Elek-tronický regulátor na základe signálu -sní-mača teploty 6, ktorý meria- teplotu ro-tu-júcej tenkostennej valcovej podložky 1, re-guluje příkon do výhřevného telesa 3 a týmzvyšuje alebo znižuje teplotu tenkostennejvalco-vej podložky 1.

Popísaný vynález možno využiť pri napa-rovaní fotopo-lovodivých elektrografickýchvrstiev na tenko-stenné válcové podložky, a-le tiež na o-hrev i-ných rotačných aj nerotač-ných ploch- vo vákuu.

Claims (2)

247235 PEEDMET

1. Zariadenie na ohřev vo vákuu rotujú-cich a fotopolovodivým materiálem naparo-vaných tenkostenných válcových podložiek,pozostávajúce z výhřevného telesa, odraz-né] plochy a snímača teploty, vyznačujúcesa tým, že výhřevné teleso (3] a odraznáplocha (4] sú nepohyblivo umiestnené vovnútri otáčajúcej sa tenkostennej válcové]podložky [1). VYNÁLEZU

2. Zariadenie pódia bodu 1 vyznačujúce satým, že výhřevné teleso (3] a snímač tep-loty (6) sú súčasťou regulačného obvodu,pričom snímač teploty [6] je počas naparo-vacieho cyklu trvale mechanicky přitlače-ný k vnútornému povrchu otáčajúcej sa ten-kostennej valcovej podložky (1) a je vočinej trvale v relatívnom pokoji. 1 list výkresov