CS244156B1 - Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev - Google Patents
Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev Download PDFInfo
- Publication number
- CS244156B1 CS244156B1 CS445184A CS445184A CS244156B1 CS 244156 B1 CS244156 B1 CS 244156B1 CS 445184 A CS445184 A CS 445184A CS 445184 A CS445184 A CS 445184A CS 244156 B1 CS244156 B1 CS 244156B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- layer
- recipient
- mpa
- oxygen
- antireflective layers
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Způsob výroby vícenásobných antiref-< lexních vrstev napařováním v recipientu vakuové napařovací aparatury spočívá v tom, že se recipient před napařováním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při napařování vrstvy exidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 53,3 mPa a dalším připouštšním kyslíku ss tento tlak udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm.s-^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatého MgPg ee kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje v intervalu 0,5 až 5,0 nm.s”1.
Description
Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev
Způsob výroby vícenásobných antiref-< lexních vrstev napařováním v recipientu vakuové napařovací aparatury spočívá v tom, že se recipient před napařováním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při napařování vrstvy exidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 53,3 mPa a dalším připouštšním kyslíku ss tento tlak udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm.s-^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatého MgPg ee kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje v intervalu 0,5 až 5,0 nm.s”1.
244 156 (51) Int a.*
C 03 c 17/34
- 1 244 156
Vynález se týká způsobu výroby- vícenásobných antlreflexních vrstev naparováním vrstev fluoridu horečnatého MgPg a oxidu titanlčitého TÍO2 v recipientu vakuové napařovací aparatury na optických sklech*
Pro zvýšení propustnosti a snížení parazitního světla u optických soustav se využívají antireflexní vrstvy. K tonuto účelu se nejčastěji používá vrstva fluoridu horečnatého, jejíž účinnost je však závislá na použitém podložním skle a dosahuje nižší hodnoty reflexe než 1 % pouze u některých druhů skel v úzkém spektrál ním intervalu* Z tohoto důvodu se ke snižování reflexních ztrát používají vícenásobné antireflexní vrstvy* Nejširšíhe praktického využití dosáhly syntézy připravované ze tří a více druhů napařovacích materiálů, což však velmi komplikuje technologickou přípravu vrstev*
Další možnost přípravy antlreflexních vrstev spočívá v použití pouze dvou druhů materiálů s nízkým a vysokým indexem lomu* které se periodicky střídají a mají rozdílné optické tlouštky. Teoretická stavba těchto systémů je již známá* avšak velkým problé mem těchto systémů vrstev je jejich praktická realizace* neboť se u nich vyskytují vrstvy s velmi malou optickou tloušťkou* takže roprodukovatelnost výroby je značně nízká a navíc vykazují vysokou zbytkovou absorpci* Například v současné době nejčastěji používaná materiálová báze z oxidů titanu a křemíku* připravovaných reaktivním naparováním v kyslíkové atmosféře podle čs* AO 180 401* se při aplikacích již ve čtyřnásobné antireflexní vrstvě neosvědču je z důvodů úzkého pásma antireflexe a vysoké zbytkové absorpce* Kvalita vrstvy* získaná z této materiálové báze* je závislé do značné míry na druhu podložního skla* což znemožňuje její univerzální použitelnost*
Je proto úkolem navrhnout takový způsob výroby vícenásobných antlreflexních systémů* které by umožnily zhotovení účinných
244 158 antireflexních vrstev složených pouze ze dvou druhů materiálů a které by vykazovaly současně výrazný antlreflexní účinek na všech druzích optických skel při zachování malé absorpce*
Tento úkol řeší předmět vynálezu, kterým je způsob výroby
Claims (1)
- vícenásobných antireflexních vrstev naparováním vrstev fluoridu horečnatého MgPg a oxidu titaničitého T102 v recipientu vakuové napařovací aparatury na optických skel*Podstata vynálezu spočívá v tom, že se recipient před napa*· řeváním každé vrstvy vyčerpá na tlak menší než 4 mPa a při naparování vrstvy oxidu titaničitého TiOg se do recipientu připouští kyslík do tlaku 26,3 až 33,3 mPa a na této hodnotě se neustálým připouštěním kyslíku udržuje při rychlosti napařování v intervalu 0,1 až 1,0 nm·®^ a při napařování vrstvy fluoridu hořečnatéhoMgPo se kyslík nepřipouští a napařovací rychlost se pohybuje < —i v intervalu 0,3 až 3,0 nm,s .Výroba vícenásobných antireflexních vrstev spočívá tedy v použití netradiční kombinace materiálů s nízkým a vysokým indexem lomu pro vakuové napařování· Při jejich aplikaci na výrobu antireflexních vrstev z materiálů o dvou indexech lomu dochází vlivem menších tlouštěk a rozladěnosti použitých konstrukčních sestav ke kompenzaci vnitřních pnutí ve vrstvách, což zamezuje popraskání připravené antlreflexní vrstvy. Současně js zaručena časová stabilita a použitelnost při běžných provozních podmínkách u všech optických skel.Tuto skutečnost dokumentují přiložené výkresy, kde je znázorněno na obr, 1 grafický průběh výsledného antireflexního účinku na vyznačených druzích optických skel j obr· 2 výsledný antlreflexní účinek šestinásobné antlreflexní vrstvy jednotkové optické tloušiky 160 nm·Postup při výrobě vícenásobných antireflexních vrstev podle vynálezu je následující.i sIik . Recipient se vyčerpá na tlak 2 mPa a připouští se do něj kyt “že se hodnota tlaku zvýší na 33 mPa· Při této hodnotě se naparuje vrstva oxidu titaničitého TiOg napařovací rychlostí 0,3 nm.»1 po dobu potřebnou pro vytvoření optické tloušKky vrstvy, která244 156 vyplývá z konstrukční sestavy systému vrstev* Pote se proces přeruší a naparuje se vrstva fluoridu hořečnatého MgFg napařovací rychlostí 2 rinue1 opět po dobu, která je potřebná k vytvořeni požadované optické tloušťky* Opakuje-li se tento postup dvakrát za sebou při přípravě konstrukční sestavy systému vrstev typu1/1*0021 0.318H 0*3371 O.257H/nS kde 1 značí vrstvu fluoridu hořečnatého MgFg 0 optické tloušťce 160 nmH značí vrstvu oxidu titaničitého TiOg o optické tlouštce 160 nm n& index lomu podložního skla, dosáhne se antireflexního účinku, vyjádřeného na obr* 1*Na něm křivka, vyznačená plnou Čarou, platí pro lehká koruntová
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS445184A CS244156B1 (cs) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS445184A CS244156B1 (cs) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS244156B1 true CS244156B1 (cs) | 1986-07-17 |
Family
ID=5387276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS445184A CS244156B1 (cs) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS244156B1 (cs) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ304081B6 (cs) * | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Vysoká skola chemicko-technologická v Praze | Zpusob prípravy antireflexní vrstvy na povrchu výrobku z kremicitých a boritokremicitých skel a antireflexní vrstva |
-
1984
- 1984-06-13 CS CS445184A patent/CS244156B1/cs unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ304081B6 (cs) * | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Vysoká skola chemicko-technologická v Praze | Zpusob prípravy antireflexní vrstvy na povrchu výrobku z kremicitých a boritokremicitých skel a antireflexní vrstva |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4188452A (en) | Heat-reflecting glass pane | |
| US3410625A (en) | Multi-layer interference film with outermost layer for suppression of pass-band reflectance | |
| JPH05254887A (ja) | 透明な積層基板、その使用方法および積層方法、基材への積層方法および装置、ならびに酸化窒化ハフニウム | |
| RU97105847A (ru) | Стеклопанель, снабженная пленкой, которая является проводящей и/или имеет низкую эмиссионную способность | |
| JPS5522704A (en) | Multilayer antireflecting film | |
| GB1526171A (en) | Silicon solar cell construction having two layer anti-reflection coating | |
| CN113151783A (zh) | 一种组合型反射膜及其制备方法 | |
| JPS5860701A (ja) | 反射防止膜 | |
| CS244156B1 (cs) | Způsob výroby vícenásobných antireflexních vrstev | |
| JPH06184730A (ja) | 中程度の屈折率の光学コーテイング製造用の蒸気析出素材 | |
| JP3560655B2 (ja) | 光学薄膜の製造方法 | |
| JP2566634B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| GB1328298A (en) | Production of a highly refractive oxide layer permeable to lihgt | |
| JPS6128903A (ja) | 反射体 | |
| JPH07501160A (ja) | 酸化ガリウムから成る薄膜及びその製造方法 | |
| JPH02154201A (ja) | 反射防止膜作成法 | |
| US3421811A (en) | Coated optical devices | |
| JPS59148654A (ja) | 熱線遮断部材 | |
| JPS5926704A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP3253065B2 (ja) | 光学薄膜 | |
| JPH0553001A (ja) | 合成樹脂製光学部品の多層反射防止膜 | |
| JPS5689701A (en) | Half mirror | |
| US3421810A (en) | Coated optical devices | |
| JPS56162702A (en) | Manufacture of reflecting mirror | |
| CN1008558B (zh) | 冷光片 |