CS244051B1 - Zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu - Google Patents
Zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu Download PDFInfo
- Publication number
- CS244051B1 CS244051B1 CS841772A CS177284A CS244051B1 CS 244051 B1 CS244051 B1 CS 244051B1 CS 841772 A CS841772 A CS 841772A CS 177284 A CS177284 A CS 177284A CS 244051 B1 CS244051 B1 CS 244051B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- inputs
- outputs
- coordinates
- arithmetic circuit
- input
- Prior art date
Links
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Zapojení pro korekci polohových
souřadnic ja vytvořeno s minimálním počtem
aritmetických obvodů.
Podstatou je zapojení rozdělené na přípravný
blok a tři stupně výpočtu korigovaných
souřadnic. Přípravný blok obsahuje
osm sečitaček pro digitální operaci A.
B, jejichž vstupy A isou spojeny s prvním
souborem korekčních výstupů datového
systému a jejich vstupy B s druhým souborem
korekčních výstupů datového systému.
První výpočtový stupeň je pak tvořen
čtyřmi aritmetickými obvody pro operaci
A + B. C a prvními dvěma registry.
Druhý stupeň je tvořen pátým a šestým
aritmetickým obvodem a třetím a čtvrtým
registrem, přičemž třetí stupeň tvoři
devátá a desátá sečítačka, jejíž výstupy
tvoří korigované souřadnice x a y.
Description
Vynález se týká zapo jeniprčrkorekcTpolohcvých souřadnic s minimálním počtem aritmetických obvodů.
V* elektronovém litografu vektorového typu je elektronový exponující svazek natvarován do obecně obdélníkového průřezu o proměnných rozměrech a pak je elektrostatickým nebo elektromagnetickým polem vychylován v rámci expozičního pole. Po definitivním umístění svazku je provedena expozice jednoho elementárního razítka, z nichž je sestavena celé exponovaná kresba masky jedné technologické vrstvy integrovaného obvodu. Na vychylování exponujícího svazku jsou kladeny velmi přísné požadavky - umístění vztažného bodu elementárního razítka musí být reprodukovatelně nastavitelné a absolutně přesné s odchylkou zhruba celého rozsahu výchylky. Mimo to je třeba s toutéž přesností přizpůsobit souřadný systém vychylování ke struktuře již vytvořené na exponovaném substrátu, která je zachycena ve vztažných značkách, obvykle čtyřech v rámci jednoho expozičního pole · V režimu přímé expozice masek na křemíkovou desku může být tato předchozí struktura dokonce deformována vlivem již provedených technologických operací. Uvedené požadavky vyplývají z nutnosti dosáhnout dokonalého navazování sousedních expozičních polít dokonalého soukrytu jednotlivých technologických vrstev a rovněž navazování a soukrytu částí struktur exponovaných elektronovým litografem, s částmi struktur nebo technologickými vrstvami exponovanými jiným způsobem, .např. fotolitograficky · Jedinou cestou nevylučující dosažení potřebné přesnosti je digitální řízení výchylky s použitím vysoce přesných 16-ti a více bitových číslicově analogových převodníků.
- 2 244 051
Névrh vysoce přesného digitálně řízeného bloku vychylování elektronového svazku přináší řadu problémů* které jsou zejména dále komplikovány požadavkem na extrémní rychlost vychylování a tedy produktivitu expozice. Avšak i překonání všech těchto problémů vede jenom k částečnému výsledku* a totiž k získání reprodukovatelné nastavítelnosti a absolutní přesnosti výstupní elektrické veličiny vychylovacího bloku* t.j. napětí na vychylovacích deskách* respektive proudu ve vychylovacích cívkách. Transformace této elektrické veličiny v geometrické souřadnice exponujícího svazku v expozičním poli je zatížena dalšími rušivými faktory. Část z nich* jako jsou mimoosové aberace elektronově optického systému elektronového litografu* lze do jisté míry^ stěží však s potřebnou přesností teoreticky postihnout. Zbývající faktory* jako jsou vnější rušivá elektromagnetická pole* výrobní tolerance součástí elektronově optického systému a různé drifty* mají však náhodný a zčásti dokonce průměrný charakter. Stejné povahy jsou i dodatečné deformace předchozích exponovaných struktur* t.j. sítě vztažných značek. Ze všech těchto okolností vyplývá nezbytnost korekce vlastního souřadného systému elektronového litografu na základě proměřování kalibračního etalonu. Při proměřování kalibračního etalonu tvořeného přiměřeně hustou sítí značek je využíván elektronový litograf v režimu rastrovacího elektronového mikroskopu^ obraz kalibračního etalonu je automaticky vyhodnocován a jsou zjištovóny rozdíly naměřených a nominálních poloh sílových bodů kalibračního etalonu. Tyto rozdíly lze sestavit do dvourozměrné kalibrační matice* v níž pak můžeme opravu libovolné polohy exponujícího svazku vyhledat interpolací.
Kalibrační matice korekcí poloh elektronového svazku v diskrétních bodech odpovídajících síti značek kalibračního etalonu zajištuje reprodukovatelnou nastavitelnost při provádění rekalibrace dostatečně častém vzhledem k proměnnosti rušivých faktorů i absolutní přesnost těchto diskrétních hodnot souřadnic. Korigované souřadnice v místech mimo kalibrační body je ovšem třeba zjišlovat výpočtem. Samotnou kalibrační matici musíme ještě pro každé expoziční pole upravit tak* aby zachycovala přizpůsobení ideálních kartézských souřadnic, reprezentovaných kalibračním etalonem na předchozí naexponovanou strukturu reprezentovanou vztažnými značkami.
- 5 ~
244 051
Vlastní korekci souřadnic budeme provádět podle vztahů x* = x + Ρχ(χ, y) = x + (βχ + bxx + ΟχΥ + άχχγ) y* = y + Py(x> y) s y + <&y + + cyx + dyxy)
Tento rozsah korekčních polynomů obsahujících čtyři korekční konstanty a až d odpovídá čtvercové síti značek kalibračního polynomu a rovněž čtyřem vztažným značkám v expozičním poli. Korekční konstanty určíme z podmínek souhlasu souřadnic s polohami značek v rozích daného políčka sítě kalibračního etalonu* respektive s polohami vztažných značek* takže máme v obou případech k dispozici řešitelnou soustavu 8 rovnic, souhlas obou souřadnic pro všechny čtyři značky , pro 8 neznámých a až d a a až d .
Jestliže výše uvedené rovnice vyjadřují korekci souřadnic uvnitř políčka kalibrační sítě s korekčními konstantami, odpovídajícími tomuto políčku * pak rovnice téhož tvaru * * * . -n* f * * \ x = x + px(x > y ) y = y + Py(x > y ) vyjadřují korekci souřadnic na předchozí strukturu reprezentovanou vztažnými značkami. Postupnost transformace souřadnic x—> x*-> x** je dána tím, že vztažné značky jsou proměřovány s již zkalibrováným vychylováním elektronového svazku.
Lze dokázat, že v aproximaci prvního řádu, která svojí přesností odpovídá použitému rozsahu korekčních polynomů, lze při přímé transformaci x->x** prostě sečíst v korekčních polynomech stejnolehlé konstanty. Pro výsledné souřadnice x**, y** korigované na kalibrační etalon i na předchozí strukturu tedy platí x** = x + Ρχ*(χ, y) = x + [\βχ + βχ) + (bx + bx)x + + (cx + c*)y + (dx + d*)xyj y** = y + Py'(x* y) = y + Qay + aý) + (by + bý)y + + (cy + cý)x + (dy + dýM »
244 051 kde x, y jsou nominální souřadnice elementárního razítka v exponované struktuře* konstanty a až d a a až d jsou vypočteny pro daná políčka kalibračního etalonu a konstanty a* až d^ a až dý odpovídají vztažným značkám expozičního pole·
Úkolem řídícího systému elektronového litografu tedy je na základě občasného proměřování kalibračního etalonu a na základě proměřování vztažných značek v každém expozičním poli^ .pokud jsou v něm rozmístěny realizovat v reálném čase přepočet souřadnic x, y ze souboru expozičních dat do souřadnic x**, y** nastavovaných ve vychylovacích stupních. Vzhledem k vysoké frekvenci provádění elementárních expozic je nutné provádět tento přepočet maximální dosažitelnou rychlostí. Vzhledem ke složitosti transformačních rovnic to představuje vysoce náročný úkol.
Výpočet korigovaných souřadnic je možné zajistit programově v řídicím počítači elektronového litografu. Avšak ani optimalizovaný program v počítači s maximální dostupnou operační rychlostí nemůže korigovat jednu dvojici souřadnic v čase kolem 1/usec a méně* což je dosažitelná doba expozice elementárního razítka. Korekce souřadnic by se tak stala výrazně limitujícím faktorem pro produktivitu expozice. Pro řešení korekčních vztahů (3) lze také postavit specializovaný procesoi’, který může vyhovět z hlediska rychlosti. Toto řešení by však představovalo vývoj a výrobu velkého objemu unikátního hardware, což by bylo nevýhodné mimo jiné i z hlediska spolehlivosti a servisu.
Tyto dosavadní nedostatky řeší zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu, sestávající z deseti sečítaček pro digitální operaci AB, šesti aritmetických obvodů pro digitální operaci A + B . C a čtyř registrů. Podstatou zapojení je, že prvních osm sečítaček je spojeno vstupy s prvním souborem a vstupy s druhým souborem korekčních výstupů datového systému, přičemž výstupy první a druhé sečítačky jsou spojeny se vstupy prvního aritmetického obvodu, výstupy třetí a čtvrté sečítačky jsou spojeny se vstupy druhého aritmetického obvodu, výstupy páté a šesté sečítačky jsou spojeny se vstupy třetího aritmetického obvodu, výstupy sedmé a osmé sečítačky jsou spojeny se vstupy čtvrtého aritmetiekého obvodu, zatímco vstup souřadnic x je spojen se vstupy prvního a druhého aritmetického obvodu a prvního registru, jehož výstup je spojen se vstupem šestého aritmetického obvodu a přes třetí registr se vstupem deváté sečítačky s výstupem korigovaných souřadnic x, zatímco vstup souřadnic y je spojen se vstupy třetího a čtvrtého aritmetického obvodu a se vstupem druhého registru, jehož výstup je spojen se vstu pem pátého aritmetického obvodu a přes čtvrtý registr se vstu pem desáté sečítačky, přičemž výstupy prvního a druhého aritmetického obvodu jsou spojeny se vstupy pátého aritmetického obvodu, jehož výstup je spojen se vstupem deváté sečítačky, zatímco výstupy třetího a čtvrtého aritmetického obvodu jsou spojeny se vstupy šestého aritmetického obvodu, jehož výstup je spojen se vstupem desáté sečítačky s výstupem korigovaných souřadnic y.
Výhodou zapojení podle vynálezu je to, že je tvořeno kromě registrů pouze dvěma vícekrát zopakovanými jednoduchými typy aritmetických obvodů, což zvyšuje standardizaci hardware a dále to, že všechny obvody jsou sestaveny do tří stupňů postupného procesu pipe-line s možnosti sdílení času mezi těmito stupni, takže lze dosáhnout minimálního času provedení celé korekční procedury rovného času nejpomalejší operace, t.j. zpoždění v aritmetickém obvodu pro operaci A + B . C.
Zapojení podle vynálezu blíže objasní přiložený výkres, v němž je na obr. 1 znázorněno celé zařízení, rozdělené na přípravný blok a tři stupně výpočtu korigovaných souřadnic.
Přípravný blok obsahuje osm sečítaček £, .£,£,£»£.> £» 1» na jejichž vstupy A j*ou připojeny korekční konstanty prvního souboru korekčních výstupů datového systému, na vstupy £ korekční konstanty druhého souboru korekčních výstupů datového systému. První výpočtový stupeň obsahuje první čtyři aritmetické obvody 1.1 Ť 12« 13^ 14 pro operaci A + B . C a první dva registry 21. a 22. Přitom na vstup prvního registru 21 a na vstupy C, prvního a druhého aritmetického obvodu 21 a 22 je připojen vstup 17 souřadnice x. Na vstup druhého registru 22 a na vstupy £ třetího a čtvrtého aritmetického obvodu 12 a 1,4 je připojen vstup 1B souřadnice y. Na vstupy a B prvního a druhého aritmetického obvodu 1[1| a 12 jsou po244 051 stupně připojeny výstupy prvních čtyř sečítaček £ z přípravného bloku^ kdežto na vstupy £ a B třetího a čtvrtého aritmetického obvodu 13 a 14 v prvním stupni jsou postupně připojeny výstupy dalších čtyř sečítaček 5$ X> £· Bruhý stupeň je tvořen třetím a. čtvrtým registrem 2J, a 2£ a pátým a šestým aritmetickým obvodem 15 a .16, přičemž na vstup třetího registru 23 a na vstup G Šestého aritmetického obvodu 16 je připojen výstup prvního registru 21. Vstup čtvrtého registru 24 a vstup 2. pátého aritmetického obvodu 15 je spojen s výstupem druhého registru 22. Výstupy prvního a druhého aritmetického obvodu 11 a 12 jsou připojeny na vstupy A a 2 pátého aritmetického obvodu 15. Výstupy třetího a čtvrtého aritmetického obvodu u a 1A jsou připojeny na vstupy A a B šestého aritmetického obvodu 1.6. Třetí stupeň je tvořen devátou a desátou sečítačkou 2, a ,10f na jejichž vstupy A jsou připojeny výstupy třetího a čtvrtého registru 23 a 24.. kdežto na jejich vstupy £ jsou připojeny výstupy pátého a šestého aritmetického obvodu 15 a £6. Výstupy ££ a 20, deváté a desáté sečítečky £ a 10 ve třetím stupni popisovaného zapojení tvoří korigované výstupní souřadnice x a y.
Za provozu pracuje zapojení takto: Při expozici v rámci n-tého políčka sítě kalibračního etalonu jsou na první vstupy sečítaček £ až 8 přiváděny v digitálním tvaru příslušné korekční konstanty βχ až dx a ay až d v daném pořadí. Při expozici mezi vztažné značky jsou současně po celou dobu expozice jednoho expozičního pole na druhých vstupech sečítaček J, až 8 korekční konstanty βχ až dy zjištěné proměřením poloh vztažných značek. Na výstupech sečítaček £ až Q přípravného bloku jsou tedy k dispozici výsledné korekční konstanty a + a*> ······ dv + d*. V prvním stupni korekčního procesoru x x jr . y se provádí první krok zpracování souřadnic exponovaného elementárního razítka. V prvních čtyřech aritmetických obvodech UL až 14 se postupně vypočítávají údaje (a* + ψ + Ct>x + x (cx + c') + (d* + <) X <ay + ψ + (by + b*) y (oy + eý’ + <ay + Φ 7
244 051
Během tohoto výpočtu se hodnoty j a j zadržují v prvním a druhém registru 21 a 22. Po ukončení této operace se všechny tyto digitální údaje přenášejí do druhého stupně a první stupeň se tím zcela uvolňuje. V režimu sdílení času může ihned v prvním bloku začít zpracovávání dalších souřadnic ze vstupních svorek 17 a 18. Ve druhém stupni se déle zpracují výsledky prvního stupně tak, že v pátém aritmetickém obvodu 15 se vypočítává Px'(x* y) = [<ax + a') + <bx + b')x] + βοχ a v aritmetickém obvodu 16 pak Pý'(x« y) = E<ay + Ý + (by * b')y] * [<cy cx) + <ax + ax)x]y cý’ + <dy + aý)yl·
Současně se po dobu výpočtu udržují hodnoty χ a χ v třetím a čtvrtém registru 23 a 24 druhého stupně. Po přenosu všech těchto signálů do třetího stupně se druhý stupeň uvolňuje pro další zpracování následujících mezivýsledků prvního stupně, který může bezprostředně začít zpracovávat třetí dávku souřadnic ze vstupních svorek 17 a 18. Ve třetím stupni se provádí konečné sečtení χ = χ + p**(x, y) y = y + Pý'<x> y) ' a výstup korigovaných souřadnic x** a y** na svorky 19 a 20.
V okamžiku výstupu, respektive po ukončení aritmetických operací v prvním a druhém stupni, které jsou delší a určují frekvenci strobovacích signálů pro přenos mezi jednotlivými stupni, se korigované souřadnice realizují v bloku vychylovéní elektronového svazku a do korekčního bloku současně vstupují čtvrté souřadnice ze vstupních svorek 17 a 18. Zapojení podle vynálezu tedy zpožňuje expoziční data na výstupu vůči vstupu o tři dávky, přičemž doba mezi dvěma výstupy za sebou následujících korigovaných dat je rovna trvání nejdelší operace, t.j. zpoždění aritmetického bloku pro operaci A + B . C.
Zařízení podle vynálezu lze použít pro korekci digitálních souřadnic v elektronovém litografu a ve vyměřovacím rastrovacím elektronovém mikroskopu.
Claims (1)
- Zapojení pro korekci^souřaanic v elektronovém litografu, sestávající z deseti sečítaček pro digitální operaci AB, šesti aritmetických obvodů pro operaci A + B , C a čtyř registrů, vyznačené tím, že prvních osm sečítaček (1 až 8rspojen$*- vstupy (A) s prvním souborem a vstupy (B) s druhým souborem korekčních výstupů datového systému, přičemž výstupy první a druhé sečítačky (1 a 2) jsou spojeny se vstupy (A a B) prvního aritmetického obvodu (11), výstupy třetí a čtvrté sečítačky (3 a 4) jsou spojeny se vstupy (A a B) druhého aritmetického obvodu (12), výstupy páté a šesté sečítačky (5 a 6) jsou spojeny se vstupy (A a B) třetího aritmetického obvodu (13), výstupy sedmé a osmé sečítačky (7 a 8) jsou spojeny se vstupy (A a B) čtvrtého aritmetického obvodu (14), zatímco vstup (17) souřadnic x je spojen se vstupy (C) prvního a druhého aritmetického obvodu (11 a 12) a prvního registru (21), jehož výstup je spojen se vstupem (C) šestého aritmetického obvodu (16) a přes třetí registr (23) se vstupem (A) deváté sečítačky (9) s výstupem (19) korigovaných souřadnic x, zatímco vstup (18) souřadnic y je spojen se vstupy (C) třetího a čtvrtého aritmetického obvodu (13 a 14) a se vstupem druhého registru (22), jehož výstup je spojen se vstupem (C) pátého aritmetického obvodu (15) a přes čtvrtý registr (24) se vstupem (A) desáté sečítačky (10), přičemž výstupy prvního a druhého aritmetického obvodu (11 a 12) jsou spojeny se vstupy (A a B) pátého aritmetického obvodu (15), jehož výstup je spojen se vstupem (B) deváté sečítačky (9), zatímco výstup třetího a čtvrtého aritmetického obvodu (13 a 14) jsou spojeny se vstupy (A a B) šestého aritmetického obvodu (16), jehož výstup je spojen se vstupem (B) desáté sečítačky (10) s výstupem (20) korigovaných souřadnic y„
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS841772A CS244051B1 (cs) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | Zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS841772A CS244051B1 (cs) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | Zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS177284A1 CS177284A1 (en) | 1985-09-17 |
CS244051B1 true CS244051B1 (cs) | 1986-07-17 |
Family
ID=5352972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS841772A CS244051B1 (cs) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | Zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS244051B1 (cs) |
-
1984
- 1984-03-13 CS CS841772A patent/CS244051B1/cs unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS177284A1 (en) | 1985-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3666267B2 (ja) | 荷電粒子ビーム走査式自動検査装置 | |
JP2008085120A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数算出方法及び荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数更新方法 | |
US8779379B2 (en) | Acquisition method of charged particle beam deflection shape error and charged particle beam writing method | |
US5968686A (en) | Charged-beam exposure mask and charged-beam exposure method | |
JP2750069B2 (ja) | 電子ビーム投射偏向装置 | |
US6741732B2 (en) | Exposure method and device manufacturing method using this exposure method | |
CS244051B1 (cs) | Zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu | |
JP3094927B2 (ja) | 電子線露光装置及びその露光方法 | |
JPS58121625A (ja) | 電子ビ−ム露光装置 | |
JPH10256122A (ja) | パターン形成装置 | |
JP2907527B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光装置および露光方法 | |
KR19980019015A (ko) | 전자빔 노광 보정 방법(Method for compensating electron beam exposure) | |
JP3152776B2 (ja) | ホトリソグラフィーの露光量算出方法 | |
JPH1154418A (ja) | 信号波形補正方法および装置 | |
JP5010513B2 (ja) | アライメントマーク判定装置、アライメントマーク生成装置、描画装置及び描画方法 | |
EP4060409A1 (en) | Novel interface definition for lithographic apparatus | |
JP3468604B2 (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
JP3394233B2 (ja) | 荷電粒子線描画方法及び装置 | |
JP2010073909A (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | |
JPH05175111A (ja) | 荷電粒子ビーム露光方法 | |
US6521903B1 (en) | Deflection noise reduction in charged particle beam lithography | |
KR20230147100A (ko) | 리소그래피 장치에 대한 신규 인터페이스 규정 | |
JP3293863B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光装置,その偏向データ作成方法及び荷電粒子ビーム露光方法 | |
JPS5742128A (en) | Exposing method by electron beam | |
JP2778123B2 (ja) | 露光方式 |