CS244051B1 - Wiring for correction of position coordinates in electron lithograph - Google Patents
Wiring for correction of position coordinates in electron lithograph Download PDFInfo
- Publication number
- CS244051B1 CS244051B1 CS841772A CS177284A CS244051B1 CS 244051 B1 CS244051 B1 CS 244051B1 CS 841772 A CS841772 A CS 841772A CS 177284 A CS177284 A CS 177284A CS 244051 B1 CS244051 B1 CS 244051B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- inputs
- coordinates
- input
- correction
- outputs
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Zapojení pro korekci polohových souřadnic ja vytvořeno s minimálním počtem aritmetických obvodů. Podstatou je zapojení rozdělené na přípravný blok a tři stupně výpočtu korigovaných souřadnic. Přípravný blok obsahuje osm sečitaček pro digitální operaci A. B, jejichž vstupy A isou spojeny s prvním souborem korekčních výstupů datového systému a jejich vstupy B s druhým souborem korekčních výstupů datového systému. První výpočtový stupeň je pak tvořen čtyřmi aritmetickými obvody pro operaci A + B. C a prvními dvěma registry. Druhý stupeň je tvořen pátým a šestým aritmetickým obvodem a třetím a čtvrtým registrem, přičemž třetí stupeň tvoři devátá a desátá sečítačka, jejíž výstupy tvoří korigované souřadnice x a y.The circuit for correcting position coordinates is created with a minimum number of arithmetic circuits. The essence is a circuit divided into a preparatory block and three stages of calculating the corrected coordinates. The preparatory block contains eight adders for the digital operation A. B, whose inputs A are connected to the first set of correction outputs of the data system and their inputs B to the second set of correction outputs of the data system. The first calculation stage is then formed by four arithmetic circuits for the operation A + B. C and the first two registers. The second stage is formed by the fifth and sixth arithmetic circuits and the third and fourth registers, while the third stage is formed by the ninth and tenth adders, whose outputs form the corrected coordinates x and y.
Description
Vynález se týká zapo jeniprčrkorekcTpolohcvých souřadnic s minimálním počtem aritmetických obvodů.The invention relates to the connection of positional coordinates with a minimum number of arithmetic circuits.
V* elektronovém litografu vektorového typu je elektronový exponující svazek natvarován do obecně obdélníkového průřezu o proměnných rozměrech a pak je elektrostatickým nebo elektromagnetickým polem vychylován v rámci expozičního pole. Po definitivním umístění svazku je provedena expozice jednoho elementárního razítka, z nichž je sestavena celé exponovaná kresba masky jedné technologické vrstvy integrovaného obvodu. Na vychylování exponujícího svazku jsou kladeny velmi přísné požadavky - umístění vztažného bodu elementárního razítka musí být reprodukovatelně nastavitelné a absolutně přesné s odchylkou zhruba celého rozsahu výchylky. Mimo to je třeba s toutéž přesností přizpůsobit souřadný systém vychylování ke struktuře již vytvořené na exponovaném substrátu, která je zachycena ve vztažných značkách, obvykle čtyřech v rámci jednoho expozičního pole · V režimu přímé expozice masek na křemíkovou desku může být tato předchozí struktura dokonce deformována vlivem již provedených technologických operací. Uvedené požadavky vyplývají z nutnosti dosáhnout dokonalého navazování sousedních expozičních polít dokonalého soukrytu jednotlivých technologických vrstev a rovněž navazování a soukrytu částí struktur exponovaných elektronovým litografem, s částmi struktur nebo technologickými vrstvami exponovanými jiným způsobem, .např. fotolitograficky · Jedinou cestou nevylučující dosažení potřebné přesnosti je digitální řízení výchylky s použitím vysoce přesných 16-ti a více bitových číslicově analogových převodníků.In a vector-type electron lithography, the electron exposing beam is shaped into a generally rectangular cross-section of variable dimensions and then deflected within the exposure field by an electrostatic or electromagnetic field. After the final positioning of the beam, exposure of one elementary stamp is performed, from which the entire exposed mask drawing of one technological layer of the integrated circuit is assembled. Very strict requirements are placed on the deflection of the exposing beam - the location of the reference point of the elementary stamp must be reproducibly adjustable and absolutely accurate with a deviation of approximately the entire range of deflection. In addition, it is necessary to adapt the deflection coordinate system with the same accuracy to the structure already created on the exposed substrate, which is captured in the reference marks, usually four within one exposure field. In the mode of direct exposure of masks to a silicon wafer, this previous structure may even be deformed due to the influence of technological operations already performed. The above requirements result from the need to achieve perfect alignment of adjacent exposure fields and perfect overlap of individual technological layers, as well as alignment and overlap of parts of structures exposed by electron lithography with parts of structures or technological layers exposed in another way, e.g. photolithographically. The only non-exclusive way to achieve the required accuracy is digital deflection control using highly accurate 16-bit or more digital-to-analog converters.
- 2 244 051- 2,244,051
Névrh vysoce přesného digitálně řízeného bloku vychylování elektronového svazku přináší řadu problémů* které jsou zejména dále komplikovány požadavkem na extrémní rychlost vychylování a tedy produktivitu expozice. Avšak i překonání všech těchto problémů vede jenom k částečnému výsledku* a totiž k získání reprodukovatelné nastavítelnosti a absolutní přesnosti výstupní elektrické veličiny vychylovacího bloku* t.j. napětí na vychylovacích deskách* respektive proudu ve vychylovacích cívkách. Transformace této elektrické veličiny v geometrické souřadnice exponujícího svazku v expozičním poli je zatížena dalšími rušivými faktory. Část z nich* jako jsou mimoosové aberace elektronově optického systému elektronového litografu* lze do jisté míry^ stěží však s potřebnou přesností teoreticky postihnout. Zbývající faktory* jako jsou vnější rušivá elektromagnetická pole* výrobní tolerance součástí elektronově optického systému a různé drifty* mají však náhodný a zčásti dokonce průměrný charakter. Stejné povahy jsou i dodatečné deformace předchozích exponovaných struktur* t.j. sítě vztažných značek. Ze všech těchto okolností vyplývá nezbytnost korekce vlastního souřadného systému elektronového litografu na základě proměřování kalibračního etalonu. Při proměřování kalibračního etalonu tvořeného přiměřeně hustou sítí značek je využíván elektronový litograf v režimu rastrovacího elektronového mikroskopu^ obraz kalibračního etalonu je automaticky vyhodnocován a jsou zjištovóny rozdíly naměřených a nominálních poloh sílových bodů kalibračního etalonu. Tyto rozdíly lze sestavit do dvourozměrné kalibrační matice* v níž pak můžeme opravu libovolné polohy exponujícího svazku vyhledat interpolací.The design of a highly accurate digitally controlled electron beam deflection block brings a number of problems* which are further complicated by the requirement for extreme deflection speed and thus exposure productivity. However, even overcoming all these problems leads only to a partial result*, namely to obtaining reproducible adjustability and absolute accuracy of the output electrical quantity of the deflection block*, i.e. the voltage on the deflection plates* or the current in the deflection coils. The transformation of this electrical quantity into the geometric coordinates of the exposing beam in the exposure field is burdened by other disturbing factors. Some of them*, such as off-axis aberrations of the electron-optical system of the electron lithographer*, can to some extent^ be theoretically captured with the necessary accuracy, but it is difficult to theoretically capture them. The remaining factors*, such as external disturbing electromagnetic fields*, manufacturing tolerances of the parts of the electron-optical system and various drifts*, however, have a random and partly even average character. The same nature is also the additional deformations of the previously exposed structures*, i.e. the network of reference marks. All these circumstances imply the necessity of correcting the own coordinate system of the electron lithographer based on the measurement of the calibration standard. When measuring the calibration standard consisting of a reasonably dense network of marks, the electron lithographer is used in the scanning electron microscope mode^ the image of the calibration standard is automatically evaluated and the differences between the measured and nominal positions of the force points of the calibration standard are detected. These differences can be compiled into a two-dimensional calibration matrix* in which we can then find the correction of any position of the exposing beam by interpolation.
Kalibrační matice korekcí poloh elektronového svazku v diskrétních bodech odpovídajících síti značek kalibračního etalonu zajištuje reprodukovatelnou nastavitelnost při provádění rekalibrace dostatečně častém vzhledem k proměnnosti rušivých faktorů i absolutní přesnost těchto diskrétních hodnot souřadnic. Korigované souřadnice v místech mimo kalibrační body je ovšem třeba zjišlovat výpočtem. Samotnou kalibrační matici musíme ještě pro každé expoziční pole upravit tak* aby zachycovala přizpůsobení ideálních kartézských souřadnic, reprezentovaných kalibračním etalonem na předchozí naexponovanou strukturu reprezentovanou vztažnými značkami.The calibration matrix of corrections of the electron beam positions at discrete points corresponding to the network of marks of the calibration standard ensures reproducible adjustability when performing recalibration sufficiently frequently with respect to the variability of disturbing factors, as well as absolute accuracy of these discrete coordinate values. However, the corrected coordinates at locations outside the calibration points must be determined by calculation. The calibration matrix itself must still be adjusted for each exposure field so that it captures the adaptation of the ideal Cartesian coordinates, represented by the calibration standard, to the previously exposed structure represented by the reference marks.
- 5 ~- 5 ~
244 051244,051
Vlastní korekci souřadnic budeme provádět podle vztahů x* = x + Ρχ(χ, y) = x + (βχ + bxx + ΟχΥ + άχχγ) y* = y + Py(x> y) s y + <&y + + cyx + dyxy)The actual correction of the coordinates will be carried out according to the relations x* = x + Ρ χ (χ, y) = x + (β χ + b x x + ΟχΥ + ά χ χγ) y* = y + Py(x> y) s y + <&y + + cyx + d y xy)
Tento rozsah korekčních polynomů obsahujících čtyři korekční konstanty a až d odpovídá čtvercové síti značek kalibračního polynomu a rovněž čtyřem vztažným značkám v expozičním poli. Korekční konstanty určíme z podmínek souhlasu souřadnic s polohami značek v rozích daného políčka sítě kalibračního etalonu* respektive s polohami vztažných značek* takže máme v obou případech k dispozici řešitelnou soustavu 8 rovnic, souhlas obou souřadnic pro všechny čtyři značky , pro 8 neznámých a až d a a až d .This range of correction polynomials containing four correction constants a to d corresponds to the square grid of calibration polynomial marks and also to the four reference marks in the exposure field. The correction constants are determined from the conditions of agreement of the coordinates with the positions of the marks in the corners of the given grid field of the calibration standard* or with the positions of the reference marks* so that in both cases we have at our disposal a solvable system of 8 equations, agreement of both coordinates for all four marks, for 8 unknowns a to d and a to d .
Jestliže výše uvedené rovnice vyjadřují korekci souřadnic uvnitř políčka kalibrační sítě s korekčními konstantami, odpovídajícími tomuto políčku * pak rovnice téhož tvaru * * * . -n* f * * \ x = x + px(x > y ) y = y + Py(x > y ) vyjadřují korekci souřadnic na předchozí strukturu reprezentovanou vztažnými značkami. Postupnost transformace souřadnic x—> x*-> x** je dána tím, že vztažné značky jsou proměřovány s již zkalibrováným vychylováním elektronového svazku.If the above equations express the correction of coordinates within the calibration grid field with correction constants corresponding to this field * then the equations of the same form * * * . -n* f * * \ x = x + p x (x > y ) y = y + P y (x > y ) express the correction of coordinates to the previous structure represented by the reference marks. The sequence of coordinate transformation x—>x*-> x** is given by the fact that the reference marks are measured with the already calibrated electron beam deflection.
Lze dokázat, že v aproximaci prvního řádu, která svojí přesností odpovídá použitému rozsahu korekčních polynomů, lze při přímé transformaci x->x** prostě sečíst v korekčních polynomech stejnolehlé konstanty. Pro výsledné souřadnice x**, y** korigované na kalibrační etalon i na předchozí strukturu tedy platí x** = x + Ρχ*(χ, y) = x + [\βχ + βχ) + (bx + bx)x + + (cx + c*)y + (dx + d*)xyj y** = y + Py'(x* y) = y + Qay + aý) + (by + bý)y + + (cy + cý)x + (dy + dýM »It can be proven that in the first-order approximation, which corresponds in its accuracy to the used range of correction polynomials, in the direct transformation x->x**, it is possible to simply add up the co-ordinate constants in the correction polynomials. For the resulting coordinates x**, y** corrected to the calibration standard and to the previous structure, x** = x + Ρ χ *(χ, y) = x + [\β χ + β χ ) + (b x + b x )x + + (c x + c*)y + (d x + d*)xyj y ** = y + P y '(x* y) = y + Qa y + aý) + (b y + bý)y + + (c y + c ý )x + (d y + d ýM »
244 051 kde x, y jsou nominální souřadnice elementárního razítka v exponované struktuře* konstanty a až d a a až d jsou vypočteny pro daná políčka kalibračního etalonu a konstanty a* až d^ a až dý odpovídají vztažným značkám expozičního pole·244 051 where x, y are the nominal coordinates of the elementary stamp in the exposed structure* the constants a to d and a to d are calculated for the given fields of the calibration standard and the constants a* to d^ and a to dý correspond to the reference marks of the exposure field.
Úkolem řídícího systému elektronového litografu tedy je na základě občasného proměřování kalibračního etalonu a na základě proměřování vztažných značek v každém expozičním poli^ .pokud jsou v něm rozmístěny realizovat v reálném čase přepočet souřadnic x, y ze souboru expozičních dat do souřadnic x**, y** nastavovaných ve vychylovacích stupních. Vzhledem k vysoké frekvenci provádění elementárních expozic je nutné provádět tento přepočet maximální dosažitelnou rychlostí. Vzhledem ke složitosti transformačních rovnic to představuje vysoce náročný úkol.The task of the electron lithography control system is therefore, based on occasional measurements of the calibration standard and on measurements of reference marks in each exposure field^ .if they are located in it, to perform in real time the conversion of the x, y coordinates from the exposure data set into the x**, y** coordinates set in the deflection steps. Due to the high frequency of elementary exposures, it is necessary to perform this conversion at the maximum achievable speed. Due to the complexity of the transformation equations, this represents a highly demanding task.
Výpočet korigovaných souřadnic je možné zajistit programově v řídicím počítači elektronového litografu. Avšak ani optimalizovaný program v počítači s maximální dostupnou operační rychlostí nemůže korigovat jednu dvojici souřadnic v čase kolem 1/usec a méně* což je dosažitelná doba expozice elementárního razítka. Korekce souřadnic by se tak stala výrazně limitujícím faktorem pro produktivitu expozice. Pro řešení korekčních vztahů (3) lze také postavit specializovaný procesoi’, který může vyhovět z hlediska rychlosti. Toto řešení by však představovalo vývoj a výrobu velkého objemu unikátního hardware, což by bylo nevýhodné mimo jiné i z hlediska spolehlivosti a servisu.The calculation of the corrected coordinates can be provided programmatically in the control computer of the electron lithographer. However, even an optimized program in a computer with the maximum available operating speed cannot correct one pair of coordinates in a time of about 1/usec or less*, which is the achievable exposure time of an elementary stamp. The correction of coordinates would thus become a significant limiting factor for the productivity of the exposure. A specialized process can also be built to solve the correction relations (3), which may be satisfactory in terms of speed. However, this solution would involve the development and production of a large volume of unique hardware, which would be disadvantageous, among other things, in terms of reliability and service.
Tyto dosavadní nedostatky řeší zapojení pro korekci polohových souřadnic v elektronovém litografu, sestávající z deseti sečítaček pro digitální operaci AB, šesti aritmetických obvodů pro digitální operaci A + B . C a čtyř registrů. Podstatou zapojení je, že prvních osm sečítaček je spojeno vstupy s prvním souborem a vstupy s druhým souborem korekčních výstupů datového systému, přičemž výstupy první a druhé sečítačky jsou spojeny se vstupy prvního aritmetického obvodu, výstupy třetí a čtvrté sečítačky jsou spojeny se vstupy druhého aritmetického obvodu, výstupy páté a šesté sečítačky jsou spojeny se vstupy třetího aritmetického obvodu, výstupy sedmé a osmé sečítačky jsou spojeny se vstupy čtvrtého aritmetiekého obvodu, zatímco vstup souřadnic x je spojen se vstupy prvního a druhého aritmetického obvodu a prvního registru, jehož výstup je spojen se vstupem šestého aritmetického obvodu a přes třetí registr se vstupem deváté sečítačky s výstupem korigovaných souřadnic x, zatímco vstup souřadnic y je spojen se vstupy třetího a čtvrtého aritmetického obvodu a se vstupem druhého registru, jehož výstup je spojen se vstu pem pátého aritmetického obvodu a přes čtvrtý registr se vstu pem desáté sečítačky, přičemž výstupy prvního a druhého aritmetického obvodu jsou spojeny se vstupy pátého aritmetického obvodu, jehož výstup je spojen se vstupem deváté sečítačky, zatímco výstupy třetího a čtvrtého aritmetického obvodu jsou spojeny se vstupy šestého aritmetického obvodu, jehož výstup je spojen se vstupem desáté sečítačky s výstupem korigovaných souřadnic y.These previous shortcomings are solved by the circuit for correcting position coordinates in the electron lithography, consisting of ten adders for the digital operation AB, six arithmetic circuits for the digital operation A + B . C and four registers. The essence of the connection is that the first eight adders are connected by their inputs to the first set and by their inputs to the second set of correction outputs of the data system, while the outputs of the first and second adders are connected to the inputs of the first arithmetic circuit, the outputs of the third and fourth adders are connected to the inputs of the second arithmetic circuit, the outputs of the fifth and sixth adders are connected to the inputs of the third arithmetic circuit, the outputs of the seventh and eighth adders are connected to the inputs of the fourth arithmetic circuit, while the input of the x coordinates is connected to the inputs of the first and second arithmetic circuits and the first register, the output of which is connected to the input of the sixth arithmetic circuit and through the third register to the input of the ninth adder with the output of the corrected x coordinates, while the input of the y coordinates is connected to the inputs of the third and fourth arithmetic circuits and to the input of the second register, the output of which is connected to the input of the fifth arithmetic circuit and through the fourth register to the input of the tenth adder, while the outputs of the first and second arithmetic circuits are connected to the inputs of the fifth arithmetic circuit, the output of which is connected to the input of the ninth adder, while the outputs of the third and fourth arithmetic circuits are connected to the inputs of the sixth arithmetic circuit, the output of which is connected to the input of the tenth adder with the output of the corrected y coordinates.
Výhodou zapojení podle vynálezu je to, že je tvořeno kromě registrů pouze dvěma vícekrát zopakovanými jednoduchými typy aritmetických obvodů, což zvyšuje standardizaci hardware a dále to, že všechny obvody jsou sestaveny do tří stupňů postupného procesu pipe-line s možnosti sdílení času mezi těmito stupni, takže lze dosáhnout minimálního času provedení celé korekční procedury rovného času nejpomalejší operace, t.j. zpoždění v aritmetickém obvodu pro operaci A + B . C.The advantage of the circuit according to the invention is that, in addition to the registers, it consists of only two simple types of arithmetic circuits repeated several times, which increases the standardization of the hardware, and furthermore, that all the circuits are assembled into three stages of a sequential pipe-line process with the possibility of time sharing between these stages, so that it is possible to achieve a minimum execution time of the entire correction procedure equal to the time of the slowest operation, i.e. the delay in the arithmetic circuit for the operation A + B . C.
Zapojení podle vynálezu blíže objasní přiložený výkres, v němž je na obr. 1 znázorněno celé zařízení, rozdělené na přípravný blok a tři stupně výpočtu korigovaných souřadnic.The circuit according to the invention will be explained in more detail in the attached drawing, in which Fig. 1 shows the entire device, divided into a preparation block and three stages of calculating corrected coordinates.
Přípravný blok obsahuje osm sečítaček £, .£,£,£»£.> £» 1» na jejichž vstupy A j*ou připojeny korekční konstanty prvního souboru korekčních výstupů datového systému, na vstupy £ korekční konstanty druhého souboru korekčních výstupů datového systému. První výpočtový stupeň obsahuje první čtyři aritmetické obvody 1.1 Ť 12« 13^ 14 pro operaci A + B . C a první dva registry 21. a 22. Přitom na vstup prvního registru 21 a na vstupy C, prvního a druhého aritmetického obvodu 21 a 22 je připojen vstup 17 souřadnice x. Na vstup druhého registru 22 a na vstupy £ třetího a čtvrtého aritmetického obvodu 12 a 1,4 je připojen vstup 1B souřadnice y. Na vstupy a B prvního a druhého aritmetického obvodu 1[1| a 12 jsou po244 051 stupně připojeny výstupy prvních čtyř sečítaček £ z přípravného bloku^ kdežto na vstupy £ a B třetího a čtvrtého aritmetického obvodu 13 a 14 v prvním stupni jsou postupně připojeny výstupy dalších čtyř sečítaček 5$ X> £· Bruhý stupeň je tvořen třetím a. čtvrtým registrem 2J, a 2£ a pátým a šestým aritmetickým obvodem 15 a .16, přičemž na vstup třetího registru 23 a na vstup G Šestého aritmetického obvodu 16 je připojen výstup prvního registru 21. Vstup čtvrtého registru 24 a vstup 2. pátého aritmetického obvodu 15 je spojen s výstupem druhého registru 22. Výstupy prvního a druhého aritmetického obvodu 11 a 12 jsou připojeny na vstupy A a 2 pátého aritmetického obvodu 15. Výstupy třetího a čtvrtého aritmetického obvodu u a 1A jsou připojeny na vstupy A a B šestého aritmetického obvodu 1.6. Třetí stupeň je tvořen devátou a desátou sečítačkou 2, a ,10f na jejichž vstupy A jsou připojeny výstupy třetího a čtvrtého registru 23 a 24.. kdežto na jejich vstupy £ jsou připojeny výstupy pátého a šestého aritmetického obvodu 15 a £6. Výstupy ££ a 20, deváté a desáté sečítečky £ a 10 ve třetím stupni popisovaného zapojení tvoří korigované výstupní souřadnice x a y.The preparatory block contains eight adders £, .£,£,£»£.> £» 1» to whose inputs A j* are connected the correction constants of the first set of correction outputs of the data system, to the inputs £ the correction constants of the second set of correction outputs of the data system. The first computing stage contains the first four arithmetic circuits 1.1 Ť 12« 13^ 14 for the operation A + B . C and the first two registers 21. and 22. In this case, the input 17 of the x coordinate is connected to the input of the first register 21 and to the inputs C, of the first and second arithmetic circuits 21 and 22. The input 17 of the x coordinate is connected to the input of the second register 22 and to the inputs £ of the third and fourth arithmetic circuits 12 and 1,4 the input 1B of the y coordinate is connected. The inputs and B of the first and second arithmetic circuits 1 [ 1 | and 12 are connected in stages to the outputs of the first four adders £ from the preparatory block^, while the outputs of the next four adders 5$ X> £ are connected to the inputs £ and B of the third and fourth arithmetic circuits 13 and 14 in the first stage in turn. The second stage consists of the third and fourth registers 2J, and 2£ and the fifth and sixth arithmetic circuits 15 and .16, while the output of the first register 21 is connected to the input of the third register 23 and to the input G of the sixth arithmetic circuit 16. The input of the fourth register 24 and the input 2. of the fifth arithmetic circuit 15 is connected to the output of the second register 22. The outputs of the first and second arithmetic circuits 11 and 12 are connected to the inputs A and 2 of the fifth arithmetic circuit 15. The outputs of the third and fourth arithmetic circuits ua and 1A are connected to the inputs A and B of the sixth arithmetic circuit 1.6. The third stage is formed by the ninth and tenth adders 2, and ,10 f to whose inputs A are connected the outputs of the third and fourth registers 23 and 24.. while to their inputs £ the outputs of the fifth and sixth arithmetic circuits 15 and £6 are connected. The outputs ££ and 20, the ninth and tenth adders £ and 10 in the third stage of the described circuit form the corrected output coordinates x and y.
Za provozu pracuje zapojení takto: Při expozici v rámci n-tého políčka sítě kalibračního etalonu jsou na první vstupy sečítaček £ až 8 přiváděny v digitálním tvaru příslušné korekční konstanty βχ až dx a ay až d v daném pořadí. Při expozici mezi vztažné značky jsou současně po celou dobu expozice jednoho expozičního pole na druhých vstupech sečítaček J, až 8 korekční konstanty βχ až dy zjištěné proměřením poloh vztažných značek. Na výstupech sečítaček £ až Q přípravného bloku jsou tedy k dispozici výsledné korekční konstanty a + a*> ······ dv + d*. V prvním stupni korekčního procesoru x x jr . y se provádí první krok zpracování souřadnic exponovaného elementárního razítka. V prvních čtyřech aritmetických obvodech UL až 14 se postupně vypočítávají údaje (a* + ψ + Ct>x + x (cx + c') + (d* + <) X <ay + ψ + (by + b*) y (oy + eý’ + <ay + Φ 7During operation, the circuit works as follows: When exposing within the nth field of the calibration standard grid, the first inputs of the adders £ to 8 are fed in digital form with the corresponding correction constants β χ to d x and ay to d in a given order. When exposing between the reference marks, the correction constants β χ to dy determined by measuring the positions of the reference marks are simultaneously present at the second inputs of the adders J, to 8 for the entire duration of the exposure of one exposure field. The resulting correction constants a + a*> ······ d v + d* are therefore available at the outputs of the adders £ to Q of the preparation block. In the first stage of the correction processor xx jr . y the first step of processing the coordinates of the exposed elementary stamp is performed. In the first four arithmetic circuits UL to 14, the data (a* + ψ + Ct> x + x (c x + c') + (d* + <) X <a y + ψ + (b y + b*) y (o y + e ý' + <a y + Φ 7 are calculated sequentially.
244 051244,051
Během tohoto výpočtu se hodnoty j a j zadržují v prvním a druhém registru 21 a 22. Po ukončení této operace se všechny tyto digitální údaje přenášejí do druhého stupně a první stupeň se tím zcela uvolňuje. V režimu sdílení času může ihned v prvním bloku začít zpracovávání dalších souřadnic ze vstupních svorek 17 a 18. Ve druhém stupni se déle zpracují výsledky prvního stupně tak, že v pátém aritmetickém obvodu 15 se vypočítává Px'(x* y) = [<ax + a') + <bx + b')x] + βοχ a v aritmetickém obvodu 16 pak Pý'(x« y) = E<ay + Ý + (by * b')y] * [<cy cx) + <ax + ax)x]y cý’ + <dy + aý)yl·During this calculation, the values jaj are held in the first and second registers 21 and 22. After this operation is completed, all these digital data are transferred to the second stage and the first stage is completely released. In the time-sharing mode, the processing of further coordinates from the input terminals 17 and 18 can begin immediately in the first block. In the second stage, the results of the first stage are processed for a longer time so that in the fifth arithmetic circuit 15 P x' (x * y) = [< a x + a') + < b x + b')x] + βο χ is calculated and in the arithmetic circuit 16 P ý' (x « y) = E<ay + Ý + (b y * b')y] * [<c y c x ) + <a x + a x )x] y c ý' + <d y + a ý )y l·
Současně se po dobu výpočtu udržují hodnoty χ a χ v třetím a čtvrtém registru 23 a 24 druhého stupně. Po přenosu všech těchto signálů do třetího stupně se druhý stupeň uvolňuje pro další zpracování následujících mezivýsledků prvního stupně, který může bezprostředně začít zpracovávat třetí dávku souřadnic ze vstupních svorek 17 a 18. Ve třetím stupni se provádí konečné sečtení χ = χ + p**(x, y) y = y + Pý'<x> y) ' a výstup korigovaných souřadnic x** a y** na svorky 19 a 20.At the same time, the values of χ and χ are maintained in the third and fourth registers 23 and 24 of the second stage during the calculation. After transferring all these signals to the third stage, the second stage is released for further processing of the following intermediate results of the first stage, which can immediately start processing the third batch of coordinates from the input terminals 17 and 18. In the third stage, the final addition χ = χ + p**(x, y) y = y + Pý'<x> y) ' is performed and the corrected coordinates x** and y** are output to terminals 19 and 20.
V okamžiku výstupu, respektive po ukončení aritmetických operací v prvním a druhém stupni, které jsou delší a určují frekvenci strobovacích signálů pro přenos mezi jednotlivými stupni, se korigované souřadnice realizují v bloku vychylovéní elektronového svazku a do korekčního bloku současně vstupují čtvrté souřadnice ze vstupních svorek 17 a 18. Zapojení podle vynálezu tedy zpožňuje expoziční data na výstupu vůči vstupu o tři dávky, přičemž doba mezi dvěma výstupy za sebou následujících korigovaných dat je rovna trvání nejdelší operace, t.j. zpoždění aritmetického bloku pro operaci A + B . C.At the moment of output, or rather after the completion of the arithmetic operations in the first and second stages, which are longer and determine the frequency of the strobe signals for transmission between the individual stages, the corrected coordinates are implemented in the electron beam deflection block and the fourth coordinates from the input terminals 17 and 18 simultaneously enter the correction block. The circuit according to the invention therefore delays the exposure data at the output relative to the input by three doses, with the time between two consecutive outputs of corrected data being equal to the duration of the longest operation, i.e. the delay of the arithmetic block for operation A + B . C.
Zařízení podle vynálezu lze použít pro korekci digitálních souřadnic v elektronovém litografu a ve vyměřovacím rastrovacím elektronovém mikroskopu.The device according to the invention can be used for correction of digital coordinates in an electron lithography and in a measuring scanning electron microscope.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS841772A CS244051B1 (en) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | Wiring for correction of position coordinates in electron lithograph |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS841772A CS244051B1 (en) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | Wiring for correction of position coordinates in electron lithograph |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS177284A1 CS177284A1 (en) | 1985-09-17 |
| CS244051B1 true CS244051B1 (en) | 1986-07-17 |
Family
ID=5352972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS841772A CS244051B1 (en) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | Wiring for correction of position coordinates in electron lithograph |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS244051B1 (en) |
-
1984
- 1984-03-13 CS CS841772A patent/CS244051B1/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS177284A1 (en) | 1985-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3666267B2 (en) | Automatic charged particle beam scanning inspection system | |
| US5444538A (en) | System and method for optimizing the grid and intrafield registration of wafer patterns | |
| JP2867982B2 (en) | Semiconductor device manufacturing equipment | |
| JP2008085120A (en) | Method for calculating position correction coefficient of charged particle beam drawing apparatus and method for updating position correction coefficient of charged particle beam drawing apparatus | |
| KR20130113384A (en) | Method for obtaining deflection form error of charged particle beam and method of charged particle beam writing | |
| CS244051B1 (en) | Wiring for correction of position coordinates in electron lithograph | |
| US6741732B2 (en) | Exposure method and device manufacturing method using this exposure method | |
| JPH06110397A (en) | Electron beam projecting and deflecting device | |
| JPH10149972A (en) | Electron beam exposure device and its method | |
| KR20000076936A (en) | Electron Beam Lithographing Method and Apparatus Thereof | |
| US6538260B1 (en) | Position measuring method, and semiconductor device manufacturing method and apparatus using the same | |
| JPS58121625A (en) | Electron beam exposure equipment | |
| JPH10256122A (en) | Pattern forming equipment | |
| JP3221566B2 (en) | Charged beam writing method and charged beam writing system | |
| JP3152776B2 (en) | Exposure calculation method for photolithography | |
| JPH1154418A (en) | Signal waveform correction method and device | |
| EP4060409A1 (en) | Novel interface definition for lithographic apparatus | |
| JP3136218B2 (en) | Method and apparatus for evaluating photomask pattern | |
| US20240111214A1 (en) | Novel interface definition for lithographic apparatus | |
| JP2010073909A (en) | Charged particle beam-drawing method and charged particle beam-drawing apparatus | |
| US10809633B1 (en) | Overlay control with corrections for lens aberrations | |
| JPH07113854A (en) | Ic tester utilizing charged particle beam | |
| TWI715553B (en) | Method of forming integrated circuit | |
| JP3468604B2 (en) | Electron beam exposure system | |
| JPS6292315A (en) | Correction method and correction circuit for position of projection of charged beam |