CS233215B1 - Vyčistovací roztok pre prfpravu ofsetových tlačových foriem šablónovým postupom - Google Patents

Abstract

Vyčisťovací roztok na přípravu ofsetových tlačných foriem na anodicky oxidovanej hliníkovéj tlačovej platni Šablonovým postupom obsahuje tenzidy, organické zásady, komplexotvorné látky, alkalický hydroxid, inhibitor a destilovanú vodu. V alkalickom prštredí dochádza k naleptávaniu povrchu anodicky oxidovanej hjiníkovej platné á súčasne sa zoslabujú vazby adsorbovaných nejistčt. Organické látky napomáhájú vytesnovaniu nečistfit, fyzikálně a chemicky sa adsorbujú na uvolnenýgh reektívnych miestach povrchu, čím zabranujú redepozícii nečistčt a súčasne chemicky modifikujú povrch platné. Tým sa dosahuje zvýšenie adhézie tlačového laku k povrchu platné. Nadměrné leptanie je potlačené prídavkom látok s inhibičnjmi účinkami. Komplexotvorné látky zabranujú tvorbě nerozpustných- produktov a posúvaním reakčnej rovnováhy urýchl’ujú proces vyČisťovania.

Description

233215 2

Vynález sa týká vydisťovacieho roztoku pre přípravu ofsetových tladových foriem naanodicky oxidovanej hliníkovej tladovej podložke Šablonovým postupom.

Pri Sablonovom postupe sa na odistenú hliníková tladovú podložku nanesie negativnépracujúca kopirovacia vrstva. Po naexponovaní pozitívneho kopírovacieho podkladu savyvoláním odstráni kopirovacia vrstva z tladiacich oblastí. Netladiace oblasti sú pokrytéfotochemicky pozměněnou kopírovacou vrstvou. Na tladiace miesta sa po vydistení a vysušenínanesie tladový lak, ktorý tvoří samostatný tladový prvok.

Po c^stránení Šablony a následnej hydrofihzácii je tladová forma připravená k použi-tiu. Jej výdržnosť v tladi závisí od výdržnosti hydrofilných vlastností netladiacichmiest a výdržnosti oleofilných vlastností miest tladiacich. Táto je medzi iným i pevnosťouadhézneho spojenia filmu tladového laku s podložkou - hliníkom.

Povrch anodicky oxidovaných hliníkových platní je pokrytý řádové mikrónovou pórovitouvrstvidkou oxidu hlinitého, pridom priemer pórov sa v závislosti od podmienok anodizáciepohybuje najdastejSie medzi 10 až 20 nm. Povrch platné a póry oxidovanej vrstvy sú viacalebo menej znedistené reakdnými produktami, zvySkami pracovných elektrolytov použitýchpři elektrochemickom spracovaní. ZvySky kopírovacej vrstvy aj po dfikladnom vyvolaní avymytí áalej znečisťujú povrch platné. Přítomnost nedistet podstatné znižuje pevnostadhézneho spojenia tladového laku s povrchom platné. Úlohou operácie vydisťovania je odstrániť s povrchu tladiacich oblastí platné tuhéa rozpustné, fyzikálně a chemicky adsorbované látky, fyzikálně a chemicky modifikovatpovrch platné pre dobrý příjem tladového laku. Pre tento úděl sa používajú kyslé a zá-sadité vydisťovacie roztoky, ktoré svojím leptacím údinkom na oxidovaný hliníkový povrchplatné umožňujú odstrániť nedistoty, zvadSením pórov uTahdujú ich vydistenie a súdasnemodifikujú povrch. V literatúre popísané kyslé vydisťovacie roztoky, obsahujú zmes chloridov napr. chloridželezitý, ahlorid zinodnatý a kyselinu chlorovodíkovou. Tohto typu je napr. výrobok n.p.Grafotechna. Zásadité vydisťovacie roztoky obsahujú najdastejSie hydroxid sodný v kombi-nácii s kyselinou boritou. Pre zlepšenie zmádavosti sa přidává tenzid. Známe vydisťovacieroztoky sa vyznadujú dobrou vydisťovacou účinnoeťou, avSak ich nevýhodou je obmedzenépoužitie pre urditý typ kopírovacej vrstvy, tladového laku, alebo sú málo údinné prisilnejšie znedistených povrchoch tladových platní.

Uvedené nedostatky sa neprejavujú u vydisťovacieho roztoku podTa vynálezu, ktoréhopodstata spodíva v tom, že obsahuje 0,1 až 5 g tenzidu zo skupiny neiónových tenzidovtypu oxietylovaných amínov so stupňom oxidácie 7 až 20, alebo katiónových tenzidovtypu kvartérnych amóniových a kvartérnych pyridinových solí, 0.1 až 5 g organickéjzásady s hodnotou vyšSou ako 13 napr. modoviny, tiomodoviny, acetamidu, acetani- lidu, orto-nitroanilínu, 0,5 až 8 g komplexotvornej látky, napr. kyseliny diamínotetra-octovej, jej sodných solí, fluoridu sodného, trietanolamínu, kyseliny citrónovej, kyse-liny vinnej a ich solí, 1,5 až 3 g alkalického hydroxidu, 0,1 až 2 g látky s inhibidnýmúdinkom vodi leptaniu hliníka v alkalickom prostředí napr. alkalické kremiditany,alkalické boritany a fluoridy, zvyšok do 1 dm^ tvoří destilované voda, pH roztok je11,2 až 12,4. V alkalickom prostředí pH 11,8 - 0,6 dochádza k naleptávaniu povrchu anodickyoxidovanej hliníkovej platné a súdasne sa zoslabujú vazby adsorbovaných nedistet. Orga-nické látky podl’a predmetu vynálezu nepomáhájú~ vytesňovaniu nedistet, fyzikálně a che-micky sa adsorbujú na uvolněných reaktívnych miestach povrchu, dím zabraňujú redepozíciinedistet a súdasne chemicky modifikujú povrch platné. Tým sa dosahuje podstatné zvýSenieadhézie tladového laku k povrchu platné. Nadměrné leptanie, ktoré by mohlo viesť k sten-deniu medzibunkových stien oxidovanej vrstvy pod hranicu mechanickéj pevnosti, je potla-

Claims (1)

1. 3 233215 čené přidáním látok s inhibičným účinkem ako sú alkalické kremičitany, fluoridy a boritany.Xnhibičný účinok majú i vyggie uvedené organické zásady a tenzidy. Přidáním komplexotvornýchlátok, ktoré v alkalickom prostředí vytvárajú s hliníkom stabilné vodorozpustné komplexysa zabránilo tvorbě nerozpustných produktov a súčasne posunutím reakčnej rovnováhy saurýchlil proces vyčisťovania. Přikladl Navážia sa následovně množstvá 0,4 g oxietylované dodecylamínu so siedmimi mólmietylénoxidu, 0,5 g močoviny, 0,3 g metakremičitanu sodného, 1,5 g dvojsodnej soli ky-seliny diamínotetraoctovej, 2 g hydroxidu sodného a doplní sa destilovanou vodou do 1 dm^. Při príprave roztoku nezáleží na poradí prodávania látok. Roztok sa před použitímneriedí. Postup použitia je obvyklý. Příklad 2 Postup ako v přiklade 1 s tým, že sa naváži 1 g laurylamidoetyl pyridinium chloridu, 2 g metakremičitanu sodného, 5 g acetamidu, 8 g trietanolamínu, 3 g hydroxidu sodnéhoa doplní sa destilovanou vodou do 1 dm^. Příklad 3 Postup ako v příklade 1 s tým, že sa naváži 5 g oxietylovaného oktadecylamínu kvarteri-zovaného dimetylsulfátom, 0,1 g ortonitrianillnu, 5xg fluoridu sodného, 1,5 g hydroxidudraselného a doplní sa destilovanou vodou do 1 dm^. PREDMET VYNÁLEZU Vyčisťovací roztok pre přípravu ofsetových tlačových foriem Šablonovým postupomvyznačený tým, že obsahuje 0,1 až 5 g tenzidu, výhodné neiónového tenzidu typu oxietylo-váných amínov so stupňom oxidácie 7 až 20, katiónového tenzidu typu kvartérnych amónio-vých a kvartérnych pyridinových solí, 0 1 až 5 g organickéj zásady s Pka/B/ hodnotouvySSou ako 13, výhodné močoviny, tiomočoviny, acetamidu, acetahilidu, orto-nitroanilínu,0,5 až 8 g komplexotvornej látky, výhodné kyseliny etyléndiamíntetraoctovej a jejáodných solí, kyseliny citrónovej, kyseliny vinnej a ich solí, fluoridu sodného, 1,5 až3 g alkalického hydroxidu, 0 1 až 2 g látky s inhibičnými účinkami, výhodné alkalickýchkremičitanov, alkalických boritanov a fluóridov a destilovanej vody do 1 dnP.