CS232227B1 - Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu - Google Patents

Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu Download PDF

Info

Publication number
CS232227B1
CS232227B1 CS4883A CS4883A CS232227B1 CS 232227 B1 CS232227 B1 CS 232227B1 CS 4883 A CS4883 A CS 4883A CS 4883 A CS4883 A CS 4883A CS 232227 B1 CS232227 B1 CS 232227B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
electron beam
deflection
lithograph
settling time
electron
Prior art date
Application number
CS4883A
Other languages
English (en)
Inventor
Armin Delong
Vladimir Kolarik
Tomas Papirek
Petr Vasina
Original Assignee
Armin Delong
Vladimir Kolarik
Tomas Papirek
Petr Vasina
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Armin Delong, Vladimir Kolarik, Tomas Papirek, Petr Vasina filed Critical Armin Delong
Priority to CS4883A priority Critical patent/CS232227B1/cs
Publication of CS232227B1 publication Critical patent/CS232227B1/cs

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

Zapojení je určeno pro elektronově optická zařízení, zejména elektronový litograf ke zjištění doby ustálení elektronového svazku. Podstatou zapojení je, že vychylovací cívky pro směr x a směr y jsou spojeny přes vychylovací zesilovaS ae dvěma generátory, z nichž generátor impulsního napětí je vstupem spojen a generátorem pilovitého napětí. Vynález je určen k testování vychylovacího systému elektronového litografu.

Description

Vynález se týká zapojení k měření doby ustálení vychýlené« ho svazku v elektronovém litografu umožňující vizuální kontrolu za provozu.
Měření doby ustálení při magnetickém vychylování elektronového svazku v elektronovém litografu je složitý problém a zpravidla se řeší tak, že se elektronovým litografem naexponuje zkušební obrazec, který po vyvolání poskytuje informaci o době ustálení vychylovacího systému. Nevýhodou popsaného způsobu je to, že proces optimalizace vychylovací soustavy je velmi zdlouhavý, protože každou změnu lze kontrolovat pouze expozicí zkušebního obrazce na desku pokrytou citlivou vrstvou a po vyvolání.
Tyto dosavadní nevýhody odstraňuje zapojení pro měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu, jehož podstatou je, že vychylovací cívky ve směru osy x jsou spojeny s výstupem generátoru pilovitého napětí přes první vychylovací zesilovač, zatímco cívky ve směru osy y jsou spojeny přes druhý vychylovací zesilovač s generátorem impulsního napětí, jehož vstup je spojen s výstupem generátoru pilovitého napětí.
Předností zapojení podle vynálezu je rychlý postup zjišťování optimalizace o době ustálení vychylovacího systému elektronového litografu za provozu.
Praktické uspořádání podle vynálezu je znázorněno na
Generátor £ pilovitého napětí s opakovacím kmitočtem měn: telným v rozmezí 100 Hz až 100 kHz, který je v elektronovém litografu použit při rastrování, podobně jako v rastrovacím *2elektronovém mikroskopu, je připojen jednak na první vychylovací zesilovač 2, který je svým výstupem spojen s vychylovacími cívkami 2 vychylujícími ve směru osy x v elektronovém litografu 2 a jednak s generátorem J impulsního napětí, spouštěným zpětným během generátoru X pilovitého napětí. Výstup generátoru χ pilovitého napětí je spojen s druhým vychylovacím zesilovačem X, jehož výstup je spojen s vychylovacími cívkami 2 vychylujícími ve směru osy y v elektronovém litografu 2·
Za provozu pracuje uspořádání takto: Generátor X pilovitého napětí generuje napětí, které přes první vychylovací zesilovač 2 způsobuje ve vychylovacích cívkách 6 lineární změnu proudu, a tím i lineární změnu výchylky ve směru osy x v elektronovém litografu 2· Pilovité napětí z generátoru X je také přiváděno na generátor J impulsního napětí, který je spouštěn jeho zpětným během. Generátor J impulsního napětí má nastavitelnou dobu zpoždění od spouštěcího impulsu a nastavitelné úrovně před a po změně úrovně impulsního napětí. Výstupní napětí generátoru 2 impulsního napětí je přivedeno přes zesilovač X na vychylovací cívky 2 ve směru osy y v elektronovém litografu 2* Elektronový svazek v elektronovém litografu 2 3e tedy pilovitým.napětím vychylován lineárně ve směru osy x, přičemž ve směru osy y je vychylován průběhem, odpovídajícím odezvě druhého vychylovacího zesilovače χ a vychylovacích cívek 2 ve směru osy y na skokovou změnu napětí vytvořenou generátorem J impulsního napětí. Po dopadu na luminiscenční stínítko vytvoří tedy elektronový svazek stopu znázorňující časový průběh odezvy výchylky elektronového svazku na skokovou změnu vstupního napětí, podobně jako na stínítku osciloskopu. Světelný obraz elektronové stopy lze pozorovat optickým zvětšovacím systémem, přičemž volbou zvětšení lze volit měřítko přesnosti ustálení vychylovacího systému elektronového litografu a změnou úrovní před a po skokové změně napětí lze volit velikost skoku výchylky tak, aby přechodový děj, zvlášl jeho ustálení, byl stále zobrazen v zorném poli optického systému.
Popsaný vynález lze použít při testování a nastavování vychylovacího systému elektronově optických systémů, zvláště elektronového litografu.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT, VYNÁLEZU J 232 227
    Zapojení pro měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu, vyznačené tím, že vychylovací cívky (6) ve směru .osy x jsou spojeny s výstupem generátoru (1) pilovitého napětí přes první vychylovací zesilovač (2), zatímco vychylovací cívky (7) ve směru osy y jsou spojeny přes druhý vychylovací zesilovač (4) s generátorem (3) impulsního napětí, jehož vstup je spojen s výstupem generátoru (1) pilovitého napětí.
CS4883A 1983-01-05 1983-01-05 Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu CS232227B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS4883A CS232227B1 (cs) 1983-01-05 1983-01-05 Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS4883A CS232227B1 (cs) 1983-01-05 1983-01-05 Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS232227B1 true CS232227B1 (cs) 1985-01-16

Family

ID=5331987

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS4883A CS232227B1 (cs) 1983-01-05 1983-01-05 Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS232227B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6366100B1 (en) Apparatus and method for testing circuit board
US3531716A (en) Method of testing an electronic device by use of an electron beam
EP0189777B1 (de) Korpuskularstrahl-Messverfahren zum berührungslosen Testen von Leitungsnetzwerken
US4260897A (en) Method of and device for implanting ions in a target
JP2000133567A (ja) 電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置
JPS6255616A (ja) 走査型顕微鏡の作動方法および装置
US5369359A (en) Particle beam testing method with countervoltage or retarding voltage follow-up or feedback
JPS59124719A (ja) 電子ビ−ム露光装置
US4937458A (en) Electron beam lithography apparatus including a beam blanking device utilizing a reference comparator
US4264822A (en) Electron beam testing method and apparatus of mask
CS232227B1 (cs) Zapojení k měření doby ustálení vychýleného elektronového svazku v elektronovém litografu
JPH05121030A (ja) イオンビームを用いて電位測定を行うイオンビーム装置及び方法
US3909610A (en) Apparatus for displaying the energy distribution of a charged particle beam
Winkler et al. Flexible picosecond probing of integrated circuits with chopped electron beams
US4733176A (en) Method and apparatus for locating defects in an electrical circuit with a light beam
JPS61225831A (ja) 集積回路の非接触全ライン動的テスト装置
JPS62219534A (ja) 粒子ゾンデを使用する時間に関係する信号の測定方法と装置
US3543148A (en) Apparatus for automatic testing of electrical devices by testing their characteristic curves for excess of tolerance zones
JPS6231931A (ja) 電子ビ−ム照射装置および該装置による試験、測定方法
US6941006B1 (en) Method and system for calibrating the scan amplitude of an electron beam lithography instrument
Maguire et al. Visualization technique for low-density flow fields
Hagiwara et al. Aerial image sensor for self-calibration of wafer steppers
JPS6164135A (ja) 半導体解析装置
JPS6017049B2 (ja) ストリ−クカメラ装置
JPH049682A (ja) 集積回路の導電路上の電位測定方法