CS230896B1 - Frit for preparation of basic non-cobalt enamel for dry application in ectroststical field - Google Patents
Frit for preparation of basic non-cobalt enamel for dry application in ectroststical field Download PDFInfo
- Publication number
- CS230896B1 CS230896B1 CS237883A CS237883A CS230896B1 CS 230896 B1 CS230896 B1 CS 230896B1 CS 237883 A CS237883 A CS 237883A CS 237883 A CS237883 A CS 237883A CS 230896 B1 CS230896 B1 CS 230896B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- oxide
- concentration
- weight
- enamel
- frit
- Prior art date
Links
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 title claims description 16
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 title 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 5
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 5
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- IVAOQJNBYYIDSI-UHFFFAOYSA-N [O].[Na] Chemical compound [O].[Na] IVAOQJNBYYIDSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N tetraantimony hexaoxide Chemical compound O1[Sb](O2)O[Sb]3O[Sb]1O[Sb]2O3 YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000006424 Flood reaction Methods 0.000 description 1
- 229910020169 SiOa Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000469 dry deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
ŽÍSKOSLOVEN5KÁ SOCIALISTICKÁ
REPUBLIKA (18)
POPIS VYNALEZU
K AUTORSKÉMU OSVEDČENiU 230896 (11) (Bl)
(22) Přihlášené 05 04 83(21] (PV 2378-83] (51) Int. CL’C 03 C 7/02 (40) Zverejnené 30 12 83
tftftO PRO VYNÁLEZYA OBJEVY (45) Vydané 15 11 86 (75]
Autor vynálezu DUŠÁNEK ARTUR, MORAVČÍK ALFONZ ing. CSc., BRATISLAVA (54) Frita pre přípravu základného bezkobaltového smaltu k nanáianiuza sucha v elektrostatickom poli 1
Vynález sa týká frity pre přípravu základ-ného bezkobaltového smaltu k nanášaniu zasucha v elektrostatickom poli, vhodné] naj-ma pre sposob nanášania základného a kry-cieho smaltu s jedným vypalováním.
Podlá známého stavu techniky sa u frítpre přípravu základného smaltu k nanášaniuza sucha v elektrostatickom poli bolo povod-ně nutné používat ako prídržný činitel kys-ličník kobaltu. Další vývoj frít vedol k elimi-náci tohoto kysličníka ako nedostatkovej aekonomicky nevýhodnej suroviny. Napriekúspěšnému vývojů bezkobaltových frít, pri 2 ktorom tieto, resp. z nich vyrobené smaltypostupné nadobudli rad dóležitých vlastností,čo je dokumentované aj čs. autor, osved-čeníami č. 216 270 a 221 007, problém doko-nale] prídržnosti bezkobaltového smaltu nieje doposnial celkom uspokojivo vyriešený. Túto nevýhodu do značnej miery odstraňu-je frita pre přípravu základného bezkobalto-vého smaltu podlá vynálezu, ktorého podsta-ta spočívá v tom, že frita obsahuje nasledu-júce zložky v uvedenej hmotnostnej koncen-trácíi:
Kysličník křemičitý SiO2
Kysličník boritý B2O3
Kysličník sodný NažO
Kysličník draselný K2O
Kysličník hlinitý AI2O3
Kysličník vápenatý CaO
Kysličník fosforečný P2O5
Kysličník titaničitý T1O2
Kysličník nikelnatý NiO
Kysličník manganatý MnO
Kysličník litný L12O
Kysličník barnatý BaO
Kysličník antimonitý Sb2O3
Kysličník zinočnatý ZnO
Fluorid vápenatý GaFz 30 až 46 %14 až 25 %5 až 17 °/o0,1 až 4 %0,5 až 5 %3 až 9 %0,2 až 3 %0,2 až 3 %1,5 až 4 %0,5 až 3 %1 až 6 %0,5 až 6%0,1 až 3 °/o0,5 až 6 %3 až 10 °/o 230896
Claims (1)
- 4 230896 Výhodou frity podTa vynálezu popři tom,že je bezkobaltová a že má celý rad pozitív-nych vlastností dosiahnutých u frít podl'aznámých receptur je, že smaltový systémvytváraný základným a krycím smaltom mápo vypálení zvýšenu prídržnosť a odolností Kysličník křemičitý SiOa Kysličník boritý B2O3 Kysličník sodný NažO Kysličník draselný K2O Kysličník hlinitý AI2O3 Kysličník vápenatý CaO Kysličník fosforečný P2O5 Kysličník titaničitý T1O2 Kysličník nikelnatý NiO Kysličník manganatý MnO Kysličník litný L12O Kysličník barnatý BaO Kysličník antimonitý Sb2O3 Kysličník zinočnatý ZnO Fluorid vápenatý CaF2 Sposob aplikácie frity podl'a vynálezu jeobdobný sposobu aplikácie už známých fríttohoto druhu. Prášok z nej připravený mádobru elektrostatická prídržnosť, možno honanášať v širokom rozmedzí hrúbok, nevy-tvára na okrajoch hrubšie nánosy, odoláváv dostatečnej miere posobeniu relatívnejvlhkosti. S práškom možno pracovat v širo-kom rozmedzí granulometrického zloženia.Celkový vzhlad hotového vypáleného smal-tu alebo smaltového systému základný +krycí smalt vytvořeného z frity podlá vyná- voči mechanickým nárazom, čo je vzhladomna jej bezkobaltový charakter vlastnost mi-moriadne déležitá. V ďalšom je uvedený jeden z príkladovzloženia frity podlá vynálezu, ktorej zložkysú nevyjádřené v hmotnostnej koncentrácii: 40,80 %19,00 %10,00 «/o 2,00 %2,00 %5,00 %1,00 %1,00 %2,80 «/o0,90 %3,00 %2,00'%1,00 %1,50 %8,00 % lezu je hladký, lesklý, homogenný, bez vy-vřelin, vpichov a bublin, ktoré sa nevytvá-rajú ani vtedy, ked hrubka základného smal-tu prestúpí dvoj až štvornásobek oprotipredpísanej hrúbke. Vypálený smalt, alebosmaltový systém má napriek tomu, že sajedná o základná fritu bezkobaltová vysokáprídržnosť zrovnatefná s fritami obsahujá-cimi drahý a nedostatkový kysličník ko-baltu. Tieto vlastnosti frity podl'$ vynálezusá predpokladom pre jej rozsiahle možnostivyužitia v praxi. PREDMET Frita pre přípravu základného bezkobal-tového smaltu k nanášaniu za sucha v elek-trostatickou! poli, vyznačujúca sa tým, žeobsahuje kysličník křemičitý v hmotnostnejkoncentrácii 30 až 46 %, kysličník boritý vhmotnostnej koncentrácii 14 až 25 %, kyslič-ník sodný v hmotnostnej koncentrácii 5 až17 %, kysličník draselný v hmotnostnej kon-centrácii 0,1 až 4 °/o, kysličník hlinitý vhmotnostnej koncentrácii 0,5 až 5 %, kys-ličník vápenatý v hmotnostnej koncentrácii‘3 až 9 %, kysličník fosforečný v hmotnost- VYNALEZU nej koncentrácii 0,2 až 3 %, kysličník tita-ničitý v hmotnostnej koncentrácii 0,2 až'3 %, kysličník nikelnatý v hmotnostnejkoncentrácii 1,5 až 4 %, kysličník man-ganatý v hmotnostnej koncentrácii 0,5'až 3 %, kysličník litný v hmotnostnejkoncentrácii 1 až 6 %, kysličník barnatý vhmotnostnej koncentrácii 0,5 až 6 %, kys-ličník antimonitý v hmotnostnej koncentrá-cii 0,1 až 3 %, kysličník zinočnatý v hmot-nostnej koncentrácii 0,5 až 6 % a fluoridvápenatý v hmotnostnej koncentrácii 3 až10 %.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS237883A CS230896B1 (en) | 1983-04-05 | 1983-04-05 | Frit for preparation of basic non-cobalt enamel for dry application in ectroststical field |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS237883A CS230896B1 (en) | 1983-04-05 | 1983-04-05 | Frit for preparation of basic non-cobalt enamel for dry application in ectroststical field |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS230896B1 true CS230896B1 (en) | 1984-08-13 |
Family
ID=5360764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS237883A CS230896B1 (en) | 1983-04-05 | 1983-04-05 | Frit for preparation of basic non-cobalt enamel for dry application in ectroststical field |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS230896B1 (cs) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2127710C1 (ru) * | 1994-10-18 | 1999-03-20 | Мариупольский государственный концерн "Азовмаш" | Фритта грунтовой эмали для нанесения электростатическим методом |
-
1983
- 1983-04-05 CS CS237883A patent/CS230896B1/cs unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2127710C1 (ru) * | 1994-10-18 | 1999-03-20 | Мариупольский государственный концерн "Азовмаш" | Фритта грунтовой эмали для нанесения электростатическим методом |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7341964B2 (en) | Durable glass and glass enamel composition for glass coatings | |
| CA1333622C (en) | Lead-free glass frit compositions | |
| JPH0397633A (ja) | ガラス組成物及び用途 | |
| US4221824A (en) | Method for enameling ferrous objects | |
| MY106083A (en) | Glass composition for use in glazes or enamels. | |
| EP0086109A2 (en) | Low melting enamel frits | |
| CA2105206A1 (en) | Lead-free glass coatings | |
| GB2069993A (en) | Lead-free and cadmium-free frits | |
| ES2124604T3 (es) | Composicion de vidrio exenta de plomo y su uso. | |
| CA2122459A1 (en) | Non-lead sealing glasses | |
| FR2687997B1 (fr) | Frittes de verre contenant du zinc, exemptes de plomb et de cadmium - procede de fabrication et utilisation. | |
| GB1000062A (en) | Improvements in or relating to the manufacture of opaque glass | |
| EP0267154A1 (de) | Bleifreie Glasfrittenzusammensetzungen | |
| DE59700025D1 (de) | Schwarze Glasfritte, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung | |
| JPH0688810B2 (ja) | 鉛およびカドミウムを含有しない低温フリツト | |
| JPS6351984B2 (cs) | ||
| CS230896B1 (en) | Frit for preparation of basic non-cobalt enamel for dry application in ectroststical field | |
| SU391080A1 (cs) | ||
| PL160100B1 (en) | Basic enamel for only one fired multilayer coatings | |
| GB710064A (en) | Improvements in and relating to silicon enamel pigments | |
| US3906124A (en) | Method of applying vitreous enamel ground coat | |
| Prosser et al. | Litho‐ionomer cements and their technological applications | |
| GB2301100A (en) | Glass flux composition | |
| CS221007B1 (cs) | Frita pre přípravu základného smaltu k nanášaniu za sucha v elektrostatickom poli | |
| CS222875B1 (sk) | Frita pre přípravu základného smaltu k nanášaniu za sucha ' v elektrostatickom poli |