CS214436B1 - Způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11 - Google Patents
Způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11 Download PDFInfo
- Publication number
- CS214436B1 CS214436B1 CS66581A CS66581A CS214436B1 CS 214436 B1 CS214436 B1 CS 214436B1 CS 66581 A CS66581 A CS 66581A CS 66581 A CS66581 A CS 66581A CS 214436 B1 CS214436 B1 CS 214436B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- sinusoidal
- photoresist
- relief
- producing
- diffraction grating
- Prior art date
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Vynález se týká způsobu výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11. Uvedený způsob zajišťuje lineární proces záznamu sinusového interferenčního pole, vytvořeného laserem (argonový, He-C<) o vlnové délce pro kterou je fotorezist citlivý. Mřížky mohou být realizovány na ploše několika desítek centimetrů a optimalizovány pro požadované vlnové pásmo. Geometrický rozměr mřížky může být až několik desítek centimetrů. Maximální hodnota difrakční účinnosti 30 až 33 %.
Description
Vynález ее týká způsobu výroby difrakční mřížky ее sinusovým relieřem v pozitivním fotorezistuSCR 11. První úvahy o možnosti vytvářet difrakční mřížky záznamem interferenčního pole do vhodného materiálu publikoval již v roce 1927 A. A. Uichelson* Studios in Optics, Ghlcago University Prese, 1927· Experimentální tuto myšlenku ovéřil až v roce 1960 J. M. Burch* Research, 13 No· 2, 1960. Tehdy ještě nebyl к disposici výkonný zdroj koherentního sváti#· S objevem laseru, výkonného koherentního zdroje světla, byly splněny základní předpoklady к uskutečnění Michelsonových myšlenek. Mnohem později A. Labeyrie, J. Plamand* Optice Communlcation 16, No. 1, v r. 1969 a D. Rudollf a 0· Schmahl v r. 1970 (anglický patent 1206035) realizovali mřížky do vhodnějších záznamových materiálů jeko jsou dichromovaná želatina a fotorezisty. Takto vyrobené reliéfní difrakční mřížky vykazovaly nové kvalitativní vlastnosti oproti mřížkám mechanicky rytým do optických povrchů a v mnohých parametrech převyšovaly ryté mřížky.
Expozicí interferenčního pole do pozitivního fotorezistu a dalším zpracováním této vrstvy je zaznamenáno toto pole jako modulace reliéfu. Podstatnou charakteristikou záznamu je převodní charakteristika, která vyjadřuje závislost hloubky odleptání vrstvy fotorezistu na plošné hustotě světelné energie (platí-li reciproční zákon u záznamového media) pro dané parametry dalšího zpracování. Při vhodném způsobu expozice a dalšího zpracování exponované vrstvy lze měnit tvar profilu reliéfního záznamu·
Prostorovou frekvenci interferenčních mřížek lze snadno řídit úhlem, který svírají dva interferující svazky s vlnovou délkou.
Rozdělení intenzity interferenčního pole dvou rovinných vln má sinusový charakter.
Tvar profilu reliéfní mřížky podstatně ovlivňuje zejména jeden z nej důležitějších parametrů difrakční mřížky, a to difrakční účinnost· Předpokládá-li se, že h< λ , аД>Л , kde h je amplituda reliéfu mřížky, Λ periody mřížky a λ vlnová délka dopadající na mřížku, lze v?/jádřit difrakční účinnost reflexní difrakční mřížky v závislosti na profilu reliéfu mřížky, vlnové délce a úhlu dopadu v analytickém tvaru·
Pro obdélníkový symetrický profil je teoretická difrakční účinnost v i 1. řádu 40 %.
Pro sinusový profil je teoretická difrakční účinnost v - 1. řádu 33 %·
Vzhledem к tomu, že z fyzikálního hlediska není reálné vytvořit symetrický obdélníkový profil reliéfu, pak je nejvhodnější realizovat sinusový profil reliéfu. To však vyžaduje, aby převodní charakteristika byla alespoň v určitém rozsahu lineární·
К výrobě mřížek se sinusovým profilem reliéfu byl patentován způsob podle francouzského patentu 7437484 a anglického patentu 1280625, který využívá předexpozioi konstantní světelnou intenzitou, aby užitečná expozice byla posunuta do lineární oblasti převodní charakteristiky· Nevýhodou tohoto způsobu je složitý postup předexpozice, dávkování konstantní světelné energie, obvykle z dalšího zdroje na příklad výbojky·
Výše uvedené nevýhody nemá způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v positivním fotorezistu SCR 11, jehož podstata spočívá v tom, že po expozici vrstvy foto214 436 rezistu ' v sinusovém interferenčním' ’ poli vytvořeného argonovým He-Cd-laserem se dále vrstva zpracovává ve vývojce, tvořené vodním roztokem NaOH o konceetraci 0,5 až 2,5 %, s výhodou 1,5 %, při teploté 16 až 24 °C, s výhodou 21 °C, a dobš vyvolávání 10 až 50 sekund, s výhodou 30 sekund. Při způsobu podle vynálezu se optimlní arnppituda sinuaového reliéfu ho pro požadované vlnové pásmo s výhodou ureí ze vztahu h° » J”“ , načež maaimáání energie záření obou interferujících svazků se určí * pro optimlní amppitudu ho z . lineární převodní chaaaateeistiky. Vlnová délka Aodpovídá středu požadov váného vlnového pásma. Uvedený způsob zajiátuje, že převodní chaaaateeastika je linearizována už od nulové hodnoty plošné hustoty energie.
Výhoda způsobu podle vynálezu je v tom, že je odstraněn složitý postup předesqnooice, vyžadující přesné dávkování světelné energie, obvykle z dalšího světelného zdroje na příklad výboj ky.
Další přednootí způsobu podle vynálezu je jednodušší a snažší proces výroby ^frakční mížky se sinusovým reléfeem pro libovolné vlnové pásmo zejména pak v W-oUaasi spektra.
Na při^í^ejenj^^^m obrázku je zobrazena závislost účinnoosi G)) reflexní difrakční mížky se sinusovým reléfeem vyrobené podle vynálezu ve foeoreziseu SCR 11 na vlnové délce. Spojité křivky OolPβují teoretickou závislost difrakční účinnosti mížky na vlnové délce pro ampOieudu sinusového reliéfu 41,3 nm a prostorovou frekvenci 600 čar/mm. Vyznačené body jsou pak naměřené hodnoty Uifaakční účinnoosi vyaobené mížky pro
2 2 nultý, první i druhý řád (JQ, J J a J2). Výsledky měření se dobře shodní s teoretickýmiL křivkami, což dokazuje, že prooil vyrobené * mřížky je sinusový.
Příklad
Způsoby výroby difiakční mřížky se sinusovým reléfeem v pozitivním fotorezistu SCR 11 podle vynálezu byl experimentálně odzkoušen pri výrobě 10 ks reflexních mížek o ploše 30x35 mm* s prostorovou frekvencí 599,3 čar/nm - 0,7 čar/mm s ^Τι-ο! účinnoosi 30 až 33 % ve vlnovém pásmu 200 až 300 nm·
Bylo použito vývojky tvořené vodním roztokem * NaOH o koncennaaci 1,5 % při teplotě 21 °C a době vyvolání 30 sekund. Získané difrakční mřížky ш/Ií shodnou kvalitu s mížka/í, vyráběnými dosud známými postupy.
Claims (2)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZU1. Způsob výroby ϋη-Ο! mřížky se sinusovým íoIl^^^^/ v p^2^it:^^n^m fotorezistu SCR 11, vyzntlυUící se tím, že po exp<>ozci vrstvy fotorezistu v sinusovém interferenčním p^oi, vytvořeného argonovým He-Cd-laserem se dále vrstva zpracovává ve vývojce, tvořené vodním roztokem NaOH o koncertealcii 0,5 až 2,5 %, s výhodou 1,5 %, pri teplotě 16 až 24 °C, Θ výhodou 21 °C, a době vyvolávání 10 až 50 sekund, s výhodou 30 sekund.
- 2. Způsob podle bodu 1 vyznaluUící se tím, že optimální a/pOieuUa sinusového reliéfu hQ214 436 ~ pro požadované vlnové pásmo se středem Д se stanoví ze vztahu hA ---——· 9 načež maxi0 3,412 mální energie laserového záření obou interferujících svazků k dosažení amplitudy reliéfu hQ se dále určí z linearizované převodní charakteristiky·
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS66581A CS214436B1 (cs) | 1981-01-30 | 1981-01-30 | Způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS66581A CS214436B1 (cs) | 1981-01-30 | 1981-01-30 | Způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS214436B1 true CS214436B1 (cs) | 1982-04-09 |
Family
ID=5339192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS66581A CS214436B1 (cs) | 1981-01-30 | 1981-01-30 | Způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS214436B1 (cs) |
-
1981
- 1981-01-30 CS CS66581A patent/CS214436B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| George et al. | Holographic diffraction gratings | |
| KR20050051693A (ko) | 이차원적 구조물에 대한 시뮬레이션된 회절 신호의 생성 | |
| KR920003050A (ko) | 단결정 소재의 외부상 침전물의 검사방법 | |
| CS214436B1 (cs) | Způsob výroby difrakční mřížky se sinusovým reliéfem v pozitivním fotorezistu SCR 11 | |
| RU2221989C2 (ru) | Способ измерения толщины металлической пленки | |
| JPS5633621A (en) | Directional high cut space frequency filter | |
| Andreeva et al. | Transmissive volume holograms in a polymeric medium with phenanthroquinone | |
| Pascual et al. | A two-step method for recording holographic optical elements with partially coherent light | |
| Sypek | A new technique for the measurement of phase retardation | |
| JPH01292202A (ja) | 溝形状測定方法 | |
| JPS5587004A (en) | Surface-property measuring method | |
| RU2147764C1 (ru) | Способ получения резольвограмм с помощью спекл-структуры и резольвометр для его осуществления | |
| RU2001134569A (ru) | Способ измерения толщины металлической пленки | |
| RU2010221C1 (ru) | Способ определения температуропроводности материалов | |
| Hoshino et al. | Assessment of high accuracy 3D shape analysis | |
| Hoshino et al. | Reflectivity Analysis of Isolated Particle on a Substrate on Incoherent Light by RCWA | |
| JPS59210403A (ja) | 回折格子の作製法 | |
| JPS6310801B2 (cs) | ||
| Lymar et al. | Temporary evolution of the spontaneous gratings in thin photosensitive films AgCl-Ag | |
| RU2242776C2 (ru) | Дифракционная решетка и способ ее изготовления | |
| Boiko et al. | CO2 laser diffractive optics fabrication on photopolymer and performance evaluation | |
| Vikram et al. | Performance of Pre-or Postexposed Halograms | |
| Campion | Experimental Lab Report-The Fresnel Biprism | |
| KR100374039B1 (ko) | 파동광학 실험용 슬릿 제조방법 | |
| Shustin et al. | Investigation of the kinetics of fluctuation phenomena by a holographic method |