CS204792B1 - Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer - Google Patents

Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer Download PDF

Info

Publication number
CS204792B1
CS204792B1 CS631079A CS631079A CS204792B1 CS 204792 B1 CS204792 B1 CS 204792B1 CS 631079 A CS631079 A CS 631079A CS 631079 A CS631079 A CS 631079A CS 204792 B1 CS204792 B1 CS 204792B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
minutes
layer
procedure
hydrophilic
light sensitive
Prior art date
Application number
CS631079A
Other languages
English (en)
Inventor
Gabriel Ciz
Vlasta Luzakova
Anton Blazej
Milan Zuffa
Original Assignee
Gabriel Ciz
Vlasta Luzakova
Anton Blazej
Milan Zuffa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gabriel Ciz, Vlasta Luzakova, Anton Blazej, Milan Zuffa filed Critical Gabriel Ciz
Priority to CS631079A priority Critical patent/CS204792B1/cs
Publication of CS204792B1 publication Critical patent/CS204792B1/cs

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

POPIS VYNALEZU
REPUBLIKA
<19> K AUTORSKÉMU OSVEDČENIU
(61) (23) Výstavná priorita(22) Přihlášené 19 09 79(21) PV 6310-79 204 792 (11) (Bl) (51) Int. Cl.3 G 03 F 7/08
ÚŘAD PRO VYNÁLEZY
A OBJEVY (40) Zveřejněné 31 07 ®0 (45) Vydané 01 07 83 (75) CÍK GABRIEL ing.CSc., LUŽÁKOVÁ VLASTA ing.CSc.,
Autor vynálezu BLAŽEJ ANTON prof.ing.DrSc., ŽOFFA MILAN ing.,
BRATISLAVA (54)
Sposob přípravy svetlocitlivej negativna pracujúcej polymérnej vrstvy
Predmetom vynálezu je sposob přípravy svetlocitlivej negativné pracujúcej polymérnejvrstvy pre fotomechanickú reprodukciu.
Reprodukcia obrazu fotomechanickými postupmi je založená na kopírování požadovanejpředlohy do tenkého svetlocitlivého filmu, naneseného obyčajne na kovověj předložka,Ožiarením podlieha svetlocitlivá látka fotochemickým změnám, čo vedle k zmene rozpustnos-ti na miestach podadu ultrafialových lúčov. Takto vzniknutý latentný obraz sa potom vy-volá rozpuštěním svetlocitlivej látky na mestach kde nedopadlo ultrafialové žiarenie,alebo kde ultrafialové lúče fotochemickou reakciou sposibili zvýšenie rozpustnosti vběžných rozpúátadlách. Týmto sposobem možno aplikoval svetlocitlivé látky vo formě ten-kých vrstiev v elektrotechnickom priemysle pri výrobě plošných spojov a pri spracovanípolovodičov na tranzistory a integrované obvody, v polygrafickom priemysle pri přípra-vě tlačovej formy a v strojárenstve pri výrobě miniatúrnych súčiastok chemickým obrábě-ním a pri zhotovovaní stupnic, štítkov a dekoratívnych ozdob. Súčasné svetlocitlivé látky pre fotomechanickú reprodukciu sa prevažne pripravujúsynteticky, inkorporáciou fotoreaktívnych skupin (chromoforov) do polymérneho nosiča. U negativno pracujúclch svetlocitlivých polymérnych látok dochádza vplyvom ultrafialovéhožiarenia k sietovaniu polymérnych reťazcov, čím sa polymčr stává nerozpustným v rozpú-štadlách. Na vytvorenie volných radikálov, achopných vyvolat sietovaciu reakciu, savyužívajú látky, kroté vo svojom štruktúrnom vzorci obsahujú predovšetkým dvojité vazby,ako sú nenasýtené ketony, nenasýtené estery a látky obsahujúce azido - a diazo - skupinu. 204792 2 204 792
Podstata přípravy svetlocitlivej polymérnej vrstvy podlá vynálezu spočívá v tom,že na hydrofilný polymér, s výhodou karboxymetyl - alebo hydroxyetylcelulózy, sa v alka-lickom prostředí naviaže reaktivně farbivo vzorca o2ir. 0™= ~So3». SOglřa CH« A\l „Cl
N-C// \C N S-C7
Cl k získanému roztoku sa přidá fotosenzibilizátor, výhodné nitrovaný benzaldehyd, a taktopřipravený roztok sa nanesie v tenkej vrstvě na požadovaná podložku.
Tvorba obrazu vo fotomechanickej. reprodukci! podlá vynálezu spočívá na vyvolanísieťovacej reakcie vyfarbených vodorozpustných polymérov, schopných na seba chemickyviazat reaktivně azofarbivo výše uvedeného vzorca s československým obchodným označenímOstazínova žlť S-GR. Toto farbivo obsahuje vo svojom štrukturnom vzorci aktivovaná dvo-jitá vazbu nitroskupinou. Dvojitá vazba po interakci! s ultrafialovým žiarením podliehacyklodimerizácii, za tvorby vodonerozpustného polymérneho systému. Uvedený svetlocitlivýpolymérny systém možno po naneseni na lubovolná podložku vo formě tenkého filmu, využit'vo fotomechanickej reprodukci! v elektrotechnickom, polygrafickom a strojárenskom priemys-le. V případe potřeby možno svetlocitlivá vrstvu senzibilizovať tripletovými senzibili-zátormi. Výhoda námi navrhovaného postupu spočívá v tom, že základná svetlocitlivá kompozlciasa připravuje z vodného roztoku a pre vývojku postačuje mierne teplá voda, čo značnézlepšuje hygienicko-prevádzkové vlastnosti pri spracovaní vrstvy. Tmavá reakcia pre na-viazanie farbiva na polymér nevyžaduje zvýšené energertické nároky, lebo farbivo patřimedzi tzv, studené reaktivně farbivá. Ku spracovaniu vrstvy možno použit' běžné zariadeniapoužívané v polygrafických prevádzkach a v prevádzkach pre výrobu elektrotechnických vý-robkov. Navrhovaná svetlocitlivá vrstva sa vyznačuje vysokou rozlišovanou schopnostou,dobrou adhéziou na podložko a odolnosťou voči zriedeným kyselinám.
Praktické prevedenie sposob přípravy koplrovacej vrstvy podlá vynálezu je následu-jící:
Ostanzlnová žlť S-GR vo vodnom alkalickom prostředí na hydrofilný polymér. Taktomodifikovaný polymér sa po vyzrážaní alkoholem rozpustí vovode na požadovaná koncentráciua získaný svetlocitlivý roztok sa nanesie na kovová podložku v odstredlvke, poliatím,striekaním alebo clonovým poťahom. Získaný film sa nechá vyschnáť. Do svetlocitlivejvrstvy sa potom kopíruje obraz předlohy, ožiarením ultrafialovým svetlom. V kopírovanýobraz sa vyvolá teplou vodou a kópia sa dálej upraví podlá požadovanej technologie spra-covania. Příklad 1 5 g hydroxyetylcelulózy sa rozpustí v 25 g destilovanej vody. Do získaného polymér-ného roztoku sa postupné přidává za naustáleho miešania 1 g reaktlvneho farbiva Ostanzl-nová žlť S-GR po dobu 60 minut· Reakcia prebieha v alkamickom prostředí pri H = 10,5 až P 1 12. ktoré sa upraví přidáním 5ml roztoku chloridu sodného s koncentráciou. 60 g. 1~A, 10 mlroztoku uhličitanu sodného s koncentráciou 0,3 g. l“1 a 5 ml roztoku hydroxidu sodnéhos koncentráciou 0,6 g. l“\ Reakčná teplota sa pohybuje v rozmedzl 25 až 40 ®C. Získanýpolymér sa vyzráža etylalkoholom a rozpustí sa v 200 g destilovanej vody. Takto připrave-ný roztok sa nanáša na anodicky oxidovaný hliníkový povrchv v horizontálněj odstředivkopri 50 otáčkách za minutu. Ovrstvená platňa sa nechá vysušit* v sušiarni pri 40 °C po dobu5 minut, spojí sa s negativnou předlohou a prevedie sa kopírovanie obrazu v expozičnom

Claims (1)

  1. 3 204 792 zariadení ( 3000 W zdroj ultrafialového žiarenia, expozičná doba 10 minút). Vykopírovanýobraz sa vyvolá prúdom teplej vody. Příklad 2 Postup ako v příklade 1 s tým, že k základnému roztoku sa přidá 1 hmotu % fotosenzi-bilizátora (benzofenón,Hichlerov kotón, 2-nitrobenzaldehyd). Přidáním senzibilizátorasa expozidná doba skráti na 1 minutu. Příklad 3 Postup ako v příklade 1 s tým, že ako hydrofilný polymdr sa použije karboxymetylce-luloza. Rudným poliatím sa ovrství měděný plech. Expozícia sa uskutední ortutovou vý-bojkou o výkone 125 W zo vzdialenosti 25 cm za 60 minút. Platňa sa vyvolá prúdom teplejvody. Příklad 4 \ ' Postup ako v příklade 1 s tým, že ako hydrofilný plymér sa použije polyakrylamid.Ovrstvenie sa uskutední na horizontálněj odstředivko prí 50 otádkách za minutu na ano-dicky oxidovaný hliníkový plech. Získaný film sa nechá vysušit pri 40 °C, 5 minut. Pospojení s negetívnou předlohou sa kopirovanie uskutední ortuťovou výbojkou o výkone 125 W,zo vzdialenosti 25 cm po dobu 180 minút. Získaní kópia sa vyvolá teplou vodou. Příklad 5 Postup ako v příklade 1 s tým, že ako hydrofilný polymér sa použije polyvinylalkohol.Ovrstvenie na hliníkový plech sa uskutodní na horizontálněj odstředivko pri 50 otádkáchza minutu. Získaný film sa nechá vysušit' pri 40 °C po dobu 5 minút. Po spojeni s negatlvomsa kopíruje obraz 125 W ortuťovou výbojkou po dobu 120 minút, zo vzdialenosti 25 cm,Vyvolanie sa uskutodní teplou vodou. PREDMET VYNÁLEZU Sposob přípravy svetlocitlžvej negativné pracujúcej polymérnej vrstvy, vyznadujúcisa tým, že na hydrofilný polymér, s výhodou karboxymetyl- alebo hydroxyetyloelulózy, sav alkalickom prostředí naviaže reaktivně farbivo vzorca o2w
    CH=C1Í- -o<· N- C'í„ SOgNa SOgNa M- C— // X C ř\ /N—C Cl Cl k získanému roztoku sa přidá fotosenzibilizátor, výhodné nitrovaný benzaldehyd, a taktopřipravený roztok sa nanesie v tenkej vrstvě na požadovanú podložku.
CS631079A 1979-09-19 1979-09-19 Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer CS204792B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS631079A CS204792B1 (en) 1979-09-19 1979-09-19 Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS631079A CS204792B1 (en) 1979-09-19 1979-09-19 Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS204792B1 true CS204792B1 (en) 1981-04-30

Family

ID=5409849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS631079A CS204792B1 (en) 1979-09-19 1979-09-19 Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS204792B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4410621A (en) Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
CA1210547A (en) Photopolymerisable materials for use in producing stencils for screen printing
DE2028903C3 (de) Lichtempfindliche Masse
US2948610A (en) Light-sensitive compositions and their use in photomechanical processes
CA1065178A (en) Thiazoline or selenazoline derivatives as sensitizers for photocrosslinkable polymers
US4596759A (en) Dry film resist containing two or more photosensitive strata
US3502470A (en) Composition and process for photochemical cross-linking of polymers
JPH10500169A (ja) ビニルベンジルチミン単量体およびそれから造られた重合体および製品
US3984250A (en) Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic elements
CA1330896C (en) Photopolymers
US3073699A (en) Addition polymerizable dye-forming compositions, elements, and processes
Merrill et al. Photosensitive azide polymers
JPH0762048B2 (ja) 感光性樹脂
JPS6117141A (ja) スクリーン製版用感光性樹脂組成物
USRE27922E (en) Image-forming elements containing cross- linkable polymer compositions and processes for their use
US3467518A (en) Photochemical cross-linking of polymers
JPH0336215B2 (cs)
US3702765A (en) Alkali-soluble light sensitive polymers and compositions and processes for using such polymers
US2729562A (en) Process for producing images
US3617278A (en) Azide sensitizers and photographic elements
CS204792B1 (en) Method of preparation of the light sensitive negativly working polymere layer
CA1099849A (en) Acid-resistant copolymer and photographic element incorporating same
US3881935A (en) Photosensitive polymer composition
US3487764A (en) Photothermographic process and element
EP0035917B1 (en) A photosensitive composition, an article comprising the composition and the use of the composition as a photoresist