CS199358B1 - Method of preparation of light-sensitive copying layer for photomechanical negative press plates - Google Patents
Method of preparation of light-sensitive copying layer for photomechanical negative press plates Download PDFInfo
- Publication number
- CS199358B1 CS199358B1 CS356676A CS356676A CS199358B1 CS 199358 B1 CS199358 B1 CS 199358B1 CS 356676 A CS356676 A CS 356676A CS 356676 A CS356676 A CS 356676A CS 199358 B1 CS199358 B1 CS 199358B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- light
- photomechanical
- preparation
- sensitive copying
- press plates
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 3
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical group ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNQWHYWLSGTMSL-OUKQBFOZSA-N [(e)-3-phenylbut-1-enyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)\C=C\C1=CC=CC=C1 GNQWHYWLSGTMSL-OUKQBFOZSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- HZVVYGOMBYKZGF-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbut-2-enylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C)=CCC1=CC=CC=C1 HZVVYGOMBYKZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDINXYLAVFUHSA-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbutan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)CCC1=CC=CC=C1 PDINXYLAVFUHSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 azides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N trans-but-2-ene Chemical compound C\C=C\C IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 229960002415 trichloroethylene Drugs 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
POPIS VYNÁLEZU
K AUTORSKÉMU OSVEDČENIU ČESKOSLOVENSKÁ SOCIALISTICKÁ
REPUBLIKA ('19 ) 199 358 (11) (Bl)
(61) (23) Výstavná priorita
(51) Int. Cl? G °5 F 7/10
ÚŘAD PRO VYNÁLEZY
A OBJEVY (40) Zverejnené 31 10 79 (45) Vydané Q1 11 82 (75) LAřČÍK ÍOBOMÍR doc. ing. CSc., ČÍK GABRIEL ing., LAZÁR MILAN log. DrSc.,
Autor vynálezu ANTON prof.ing. DrSc., PANÁK JAN log., BRATISLAVA VALÁŠEK JAROSLAV ing., LAZY POD MAKYTOU, MARKUS STANISLAV ing. CSc., REVIÍCA,
REISER VLADIMÍR ing. CSc. a PELIKÁN PETER ing., BRATISLAVA (54) Sposob přípravy svatlocitlivaj kopírovacaj vrstvy pra fotomachanické negativnatlačové došky 1
Vynález sa týká sposobu pripravy svatlocitlivej kopírovacaj vrstvy pra fotomecha-nické negativna tlačové došky.
Tvorba kopírovaného obrazu je založená na prasiateni linaárnych makromolakúl prí-rodnóho, alebo syntetického kaučuka biradikálnych oxidačných produktov buténu - 1,buténu - 2 a butánu. V súčasnom období sa na výrobu kopírovacích vrstiav používajú zložité polymarné kom-pozícia. Optický záznam ja sprostradkovaný zosietaním račazových molekúl polymatov naosvatelaných miastach fotoraaktívnym siaíovacím činidlom. Hustota vznikajúcaj sieta závisíod množstva absorbovaných svatalných kvánt. Ako siaíovacia činidlá sa používajú zložitéorganické zlúčaniny ako azidy, diazidy a spiropyrány. Závažným nadostatkom dotaraz používaných postupov je zložitosí využívaných kompozí-cii, ich náročná příprava z hládiska konkrótnaj tahcnológia a vysoká cena.
Tiato nedostatky v podstatnaj miara odstraňuje sposob přípravy svatlocitlivaj kopí-rovacaj vrstvy pra fotomachanickó negativna tlačové došky podlá vynálezu, ktorého podsta-ta spočívá v tom, ža sa svatlocitlivá vrstva připraví z polybutadianu, polychloropénu akopolymórov butadianu posobaním difanyldarlvatov butánu a buténu v množstva 1 až 10 %hmotnostných. 199 358 199 3S8 Připravený svetlocitlivý roztok se nanesie aa upravený povrch budúcej tlačovejplatné a vrstva sa nechá vyschnúí. Do vrstvy sa kpíruje žiadaný obraz UV žiarením. Vy-kopirovaný obraz sa vyvolá vhodnou vývojkou· Přiklad 1 2%ný roztok chloroprénového kaučuku v tetraohlórmetáne a 1,3 - difenyl - 1 - buténv množstvo 2,5 % vzhíadom na-hmotnosťpolyméru sa dokladné zhomogenizujú a uchovávajúbez pristupu světla· Svetlocitlivý roztok sa nanesie na hliníkový eloxovaný povrch štan-darndnej tlačovej platné v horizontálněj odstředivko pri 5θ otáčkách za minutu. Navrst-vená deska sa vysuší při teploto miestnosti ta 1/2 hodiny. Vykopírovanie obrazu sa pro-vedle prosvietenim vybraného negativu intenzívnym zdrojom (4000 W) zo vzdialenosti 90 cm.Expozičná době je 2 minúty. Osvetelná vrstva sa tepelná spracuje vyhrievanim v termosta-te vy temperovanom na teplotu 110 °0 po dobu 10 minút. Vykopírovaný obraz sa vyvolávávývojkou, ktorej podstatná čas? tvoria chloroform a trichloretylén. Přiklad 2
Polymérna zložka svetlocitlivého roztoku je rovnaká ako v přiklade 1. Druhou zlož-kou je 2,4 difenyl - 2 - butén v množstva 2% hmotnostných. Vzhíadom na chloroprénovýkaučuk. Podobné ako v predchádzajucom, v tomto aj v nasledujúcich prikladoch je potřeb-né uchovává? svetlocitlivé roztoky v trne. Ovrstvený hliníkový podklad sa ozařuje vysoko-tlakovou Hg výbojkou (200 w) zo vzidalenosti 30 cm po dobu 2 minut. Vykopírovaný obrazsa spracuje rovnako ako v příklade 1. Příklad 3 2,5%hý roztok polybutadiénu a 1,3 - difenylbutánu v množstve 3 % , vzhíadom na poly-mér sa zmiešajú v benzéne. Hliníkový podklad tlačovej došky sa ovrství poliatím a vysu-šením rozpúěíladla. Kopírovanie negativného obrazu sa prevádza zdrojom UV žiarenida (4000W) zo vzdialenosti 90 cm po dobu 90 sekúnd. Vykopírovaný obraz sa tepelne spracuje přiteploto 130 °0 po dobu 5 minút. Nezosietená polymérna zložka sa odstrání z povrchu platnérozpúátaním v toluéne, čím sa vykopírovaný obraz vyvolá. Přiklad 4
Kopolymér butadiénu so styrenom obsahujúci 23 % hmotnostných styrénu sa rozpustív chloroforme na 3%ný roztok, ku ktorému sa přidá chloroformový roztok i,3 - difenyl - 1buténu v množstve odpovedajúcom 5 % hmotnostných vzhíadom na kopolymér. Ovrstvenie platnésa prevedie v horizontálněj odstradivke. Vykopírovanie, tepelné spracovanie a vyvolávanieobrazu sa prevádzra postupom zhodným ako v příklade 3· Výhodou navrhovaného sposobu podía vynálezu je jednoduchost přípravy svetlocitlivejkompozície, nízká cena a jednoduchá manipulácia. K ovrstveniu možno využít už jestvujúcezariadenia polygrafických prevádzok. Navrhovaná kompozicia sa vyznačuje veíkou ostrostou
Claims (1)
199 358 kresby, vsokou mechanickou pavnosťou získaného reliéfného obrazu a jednoduchosťou vyvolá-vacieho postupu. PRBDMBT VYNÁLEZU Sposob přípravy svetlocitlivaj kopírovacaj vrstvy pra fotomechanické negativna tla-čové došky, vyznačujúoe sa tým, že sa svetlocitlivá vrstva připraví z polybutadiénu,polychloroprénu a kopolymarov butadienu posobeaím difenylderivátov butánu a buténu vmnožstva 1 až 10 % hmotnostných.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS356676A CS199358B1 (en) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | Method of preparation of light-sensitive copying layer for photomechanical negative press plates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS356676A CS199358B1 (en) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | Method of preparation of light-sensitive copying layer for photomechanical negative press plates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS199358B1 true CS199358B1 (en) | 1980-07-31 |
Family
ID=5376117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS356676A CS199358B1 (en) | 1976-05-28 | 1976-05-28 | Method of preparation of light-sensitive copying layer for photomechanical negative press plates |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS199358B1 (cs) |
-
1976
- 1976-05-28 CS CS356676A patent/CS199358B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3515552A (en) | Light-sensitive imaging sheet and method of using | |
| DE2327513C3 (de) | Lichtempfindliches gegebenenfalls auf einen Schichtträger aufgebrachtes Gemisch | |
| US3788849A (en) | Negative-working photographic process utilizing heat bleachable thin layer of a dye | |
| US4431723A (en) | Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates | |
| US3649268A (en) | Process for forming images by photohardening and applying a colorant | |
| US4482624A (en) | Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and process for improving sensitivity by sequestering oxygen | |
| US3574657A (en) | Polymeric images formed by heat | |
| US4356252A (en) | Photosensitive negative-working tonable element | |
| EP0031566B2 (en) | Photosensitive negative-working tonable element | |
| US3607264A (en) | Image reproduction process involving photohardening and delamination | |
| EP0096572B1 (en) | Photosensitive materials for use in making dry transfers | |
| JPH07234515A (ja) | フレキソ印刷版用アジリジン下塗剤 | |
| JPH04342258A (ja) | 溶媒耐性が改善された感光性エラストマー部材 | |
| US3563742A (en) | Novel photosensitive elements and processes | |
| US3236647A (en) | Photographic reproduction process using photopolymerizable resins and new images obtained | |
| JPS5692536A (en) | Pattern formation method | |
| US3493371A (en) | Radiation-sensitive recording material | |
| US3957515A (en) | Photographic process for producing colored polymerized images | |
| US3836368A (en) | Photopolymerizable element comprising a conjugated diacetylene layer on the photopolymer layer | |
| US3904411A (en) | Photoimaging and color proofing | |
| US3591378A (en) | Process for making positive-working relief plate | |
| US4906551A (en) | Process for the post-treatment of developed relief printing forms for use in flexographic printing | |
| CS199358B1 (en) | Method of preparation of light-sensitive copying layer for photomechanical negative press plates | |
| US3650745A (en) | Printing plate carrying a photoactive layer | |
| EP0052806B1 (en) | Dot-enlargement process for photopolymer litho masks |