CN87105154A - 压力变动式吸附法中产品纯度控制的方法和设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种自动控制压力变动式吸附过程中产品纯度的方法和设备，该方法包括检测顺流降压过程得出的流出物的性能，以及根据检测结果采取校正行动。任何行动，只要能有效地改变产品气体中杂质的浓度，使其朝向获取所希望的产品纯度所需要的方向转化，都可加以采取。适当的校正行动有以下几种：(1)调节吸附工序时间，以控制各吸附剂床的杂质含量；(2)调节顺流降压终止压力，以控制各吸附剂床产品端的杂质临界值；和/或(3)调节各吸附剂床所接收的吹洗气体量，以控制再生程度。

Description

本发明涉及压力变动式吸附（pressure    swing    adsorption）系统中产品纯度的控制，更详细地说，涉及一种自动控制产品纯度的方法和设备，该方法和设备既不致因原料改变而使产品中杂质含量达到不能容许的临界值，又能快速反应且高度稳定。

压力变动式吸附法（PSA）是分离至少含有两种不同吸附性能气体的多组分气体流极其有效而经济的方法。可吸附性较强的气体可以是要从作为产品排出的可吸附性较弱的气体中加以清除的杂质，也可以是我们所希望获得的从可吸附性较弱的气体中分离出来的产品。例如，我们可能希望从含氢的供料流中清除一氧化碳和轻质烃，以制备纯度达99+%的氢气流，供氢化裂解或其它催化过程之用，在这些场合下，这些杂质对催化剂或反应是会产生不好的影响的。另一方面，我们可能希望从原料气中回收可吸附性较强的气体（例如乙烯），以生产出富乙烯的产品。

在压力变动式吸附法中，通常是将多组分气体在高压下送入多个吸附床的一个床层中，在该高压下，可以有效地吸附其中一个组分，同时令至少另一个组分通过。到达某一规定时间时，停止往吸附器中进料，通过一次或多次顺流降压工序将床层减压，使压力降到某一规定水平，足以将分离出来的仍然停留在床层中吸附较弱的一个或多个组分从床层中抽出，这时抽出的气体中吸附性较强的组分的浓度就不太大。然后通过逆流降压工序令床层降压，即沿供料流相反的方向将脱附出来的气体抽出，进一步降低床层中的压力。在多床式装置中，一般还有其它步骤，上述各步骤可以分阶段进行。专利授予喜代永（kiyomaga）的美国专利3，176，444、专利权授予付德勒（Fuderer）等人的美国专利3，986，849和专利权授予瓦格纳的美国专利3，430，418尤其介绍了采用顺流和逆流降压的多床式绝热压力变动式吸附系统，这里全面介绍了这些专利的内容，仅供参考。

众所周知，控制（譬如说）吸附性较弱的组分中产品的杂质使其达到容许的最高含量，可以使系统达到最高的效率。控制产品杂质含量的主要措施是调节各吸附器在吸附工序中所花的时间这也是众所周知的。若产品杂质含量过高，则缩短吸附工序，过低则延长吸附工序。但当处理性能不定的原料时（例如由若干不同料流组成而这些料流不会始终存在的原料），要在原料不断变化的情况下控制产品纯净浓度而不致使杂质达到不能容许的临界值就有困难。

在普通方法中，操作人员监视着产品杂质含量，用人工调节吸附工序的时间。这种人工调节过程可通过反馈控制系统使其自动化。在这种系统中，产品杂质含量经过检测，由控制根据杂质含量实际值与规定值的差值调节吸附工序的时间。但这种系统具有一般反馈控制所固有的缺点，即只有在不希望有的事件（产品杂质含量过高或过低）发生之后才能采取校正行动。

前馈控制系统可以单独使用或与上述反馈控制系统联合使用。前馈控制系统更是复杂得多。供料组成和供料量需要在线测定，并将测定结果输入工艺模拟装置中，以确定校正量。前馈系统有若干缺点，其中包括：（1）前馈控制系统的稳定性本来就比反馈控制系统差。（2）能准确分析多组分体系各组分浓度的系统，不仅极端复杂而且价昂。（3）由于受到实际工艺程序控制系统的限制，不得不采用过于简单和不准确的工艺模拟装置。

目前仍然需要有一种能自动控制压力变动式吸附系统中产品质量的方法和设备，这种方法和设备，不仅应在供料的组成恒定时，而且还应在供料的组成和/或供料量、压力大小或温度改变，以及在系统以其它可变的工艺参数下操作时，都能使系统能达到最高效率。

本发明提供一种控制包括顺流降压工序的压力变动式吸附过程中产品纯度的方法和设备。该方法包括：检测从所述顺流降压过程中获得的流出物的性能，并根据检测到的性能采取校正行动，所述校正行动应能有效地在获取所希望的产品纯度所需的方向上改变产品气体中的杂质浓度。该设备包括：检测所述性能用的装置和采取所述校正行动用的装置。

迫使顺流降压气体中的杂质实际含量达到目标含量应采取的校正行动包括，但不局限于，下列各项：（1）调节吸附阶段时间或其它变量，以控制各吸附剂床层的杂质量。（2）调节顺流降压终止压力，以控制各吸附剂床层产品端的杂质临界值和/或（3）调节各吸附剂层接收到的吹洗气体量，以控制再生程度。

顺流降压气体中的目标杂质含量或其它物理性能达到规定的容许值范围之后，最好测定一下产品气体的杂质含量。若产品气体的杂质含量达不到所希望的值，就应用杂质含量实际值与规定值的差值计算出顺流降压气体中杂质含量新的目标值。差值越大，目标值的变化越大。

这种级联控制可以免除事前确定目标值，而且能适应由于供料组成改变而引起的顺流降压气体和产品气体中杂质含量正确比值的变化。

本发明的控制系统兼有反馈和前馈控制系统的一切优点，而不存在它们所具有的缺点。在产品气体制成之前，顺流降压气体中总会存在不能容许的杂质临界值，而本发明的校正行动是在发生不希望有的事件之前采取的。本控制系统不依赖于供料组成的正确分析，也不依赖于工艺模拟装置，它还比前馈系统更为稳定。

本发明使压力变动式吸附装置的内部操作参数可自动进行调节，从而在操作条件变化的情况下保持产品的纯度。顺流降压流出物的物理性能（例如顺流降压工序将近结束时的杂质浓度）经过测定，通过循环时间和/或其它达到目标值进行的调节加以控制。确定目标值，使产品达到规定的杂质含量。

参照附图阅读下面的详细说明，即可以更好地理解本发明的内容及其优点，附图中：

图1是单式吸附床系统的示意图，显示了在单个操作循环各阶段被吸附气体典型的加料情况;

图2是单式吸附床系统单个操作循环中的压力分布曲线图;

图3是四床压力变动式吸附系统的示意图;

图4是四床压力变动式吸附系统整个操作循环的典型程序表。

压力变动式吸附过程是一种基本上绝热的过程，用以分离含至少一种可有选择地加以吸附的组分的多组分流体。从图1可以看到，含有杂质和产品流体的混合物的供料流体流10流入吸附区12，吸附区12中装有吸附剂床层14，该吸附剂能从供料流体流中有选择地吸附杂质。

“杂质”一词是指处理过程中吸附性较强的一种或多种组分。因此被说成是杂质的物质并不局限于普通所指的不想要或准备予以废弃的物质。“产品”一词表示供料流体流中吸附性较弱的物质，不一定说明这种组分是从该处理过程中想获得的组分。

床层由于装有吸附剂料的填料，因而含有非选择性孔隙。供料流体流在第一高压下引入并在吸附区一个入口端16与床层接触，从而在吸附剂料中吸附杂质，并在各孔隙中截获部分产品流体。已除去杂质的产品流体18是从吸附区另一端20排出的。

随着往床层供料的不断进行，在吸附区入口端形成一个杂质吸附面，在纵向逐步通过吸附区朝出料端方向移到区内的预定料面22上。这时就终止供料流体的引入过程。

然后令吸附区从第一高压顺流降压到较低而仍然是很高的压力，将截获在各孔隙中的产品流体经由吸附区出料端20除去。此顺流降压过程促使杂质吸附面朝床层出料端向前移到新的料面26上。在顺流降压过程中最好也包括一个或多个压力均衡的中间工序，使杂质吸附面移到料面24上，同时在最后的顺流降压工序使杂质吸附面前移至料面26上。在多床式系统中，在顺流降压工序再生中的床层通吹洗气体。因此，这个工序可称之为吹洗工序，图4中即采用了此术语。

根据本发明的作法，先检测所述顺流降压过程产生的流出物的性能，再根据检测出的性能采取校正行动。校正行动可以是任何行动，只要能有效地改变产品气体中的杂质浓度，使其朝获得所希望产品纯度所需要的方向转化即可。能迫使顺流降压气体中的实际杂质含量朝目标杂质含量的方向转化可采取的校正行动有以下几个方面：（1）调节吸附工序的时间或其它变量，以控制各吸附剂床层的杂质承载量。（2）调节顺流降压终止压力，以控制各吸附床层产品端的杂质临界值，和/或（3）调节各吸附床所接收的吹洗气体量，以控制再生程度。还可以采取其它行之有效的行动。

本发明能使压力变动式吸附装置在操作条件变化的情况下（例如供料组成变化）自动调节内部操作诸参数，保持产品达到一定的纯度。顺流降压流出物的物理性能经过测定，通过循环时间和/或其它方面的调节进行控制，使其达到目标值。目标值是这样确定，使其可以达到所希望的产品杂质含量。可以测定任何与流出物的纯度有关的物理性能，例如密度、杂质含量、导热率或产品组分的纯度等。特别应加以测定的性能是杂质浓度。

本发明的一个好处是可以在发生不希望有的事件之前采取校正行动。通过判明不能容许的杂质临界值或其它物理性能测定值系首先在顺流降压流出物中，特别是在接近该阶段终了时出现，且其值会大于所希望的产品杂质含量，本发明就可以根据对顺流降压气体的分析结果控制产品的杂质含量。

顺流降压气体中的目标杂质含量或其它物理性能的水平总是高于所希望的产品杂质含量。对生产99+克分子百分数纯度氢的压力变动式吸附系统来说，气体对产品气体杂质浓度的一般比值约为10∶1。但此比值随循环的类型、供料条件、产品纯度等因数而变化，在某些情况下（例如供料组成变化的情况下）要进行预测特别困难。因此在顺流降压气体中的目标杂质含量或其它物理性能达到某规定容许值范围内之后最好测定一下产品气体的杂质含量。若产品气体杂质含量达不到所希望的值，就应用产品杂质含量实际值与规定值的差值计算出顺流降压气体杂质含量新的目标值。差值越大，目标值的变化就越大。

这种级联控制可以免除事前确定目标值，而且能适应由于供料组成或其它系统参数改变而引起的顺流降压气体和产品气体中杂质含量正确比值的变化。

再参看图1，检测在管线18中流动的流体物理性能用的装置32适当安置在一定的位置，以便对管线18中的流体进行取样。此外还设有装置34，用以根据检测出来的性能采取校正行动，即进行必要的对照物对比、计算和行动。在一个实例中，该检测器是一个气体分析器（例如红外分析仪），它能测定富氢气流中一氧化碳杂质的浓度。在图示的单床式系统中，单个分析器可兼作顺流降压流出物和成品分析之用;但应该考虑到的是，在某些系统中，各部分可能至少需用单独的检测器。

作为控制程序的第一步，装置32检测从顺流降压工序中得出的流出物中一氧化碳的含量。此检测值然后由装置34（例如一个过程控制计算机或可编程序控制器）加以处理，由包括一个控制算法的适当软件进行操作。装置34接着根据检测出来的性能控制校正动作。例如可以给出供料阀36定时，使其在下一个吸附阶段过程中提前或延迟关闭。这个动作可有效的改变顺流降压气体中的杂质浓度，使其朝达到所希望的目标杂质含量的方向转化。在此杂质含量达到规定容许值范围内之后，最好也由装置32检测产品气体的纯度，然后由装置34控制校正动作，该校正动作一般涉及改变顺流降压流出物中杂质的目标值。

紧接着顺流降压程序之后，进一步降低床层中的压力，并在16处抽出脱附后的气体，将吸附区沿与供料流相反的方向进行脱附。此工序使杂质吸附面移到料面28上。最后将床层用来自另一个床的顺流降压流出物吹洗，或用纯产品吹洗，使杂质吸附面移到料面30上。图2是单式床各阶段的典型时间及各阶段的有关压力曲线图。

实例

本实例说明图3所示四床式压力吸附系统的操作过程，这是净化水蒸汽转化炉出来的富氢气体（一般以克分子计含75%氢、4%甲烷、3%一氧化碳、0.5%氮，其余为二氧化碳，且为水份所饱和）以制取一氧化碳低到小于百万分之十浓度的99+克分子百分比氢气的一个系统。四台床个个都有一个装活性碳的下层，和一个装沸石的顶层，而且在整个操作循环中经历着上述各个操作阶段。但本发明还是适用于其它多床式系统的，还可用于吸附性较强的气体系作为产品气体的场合。

图4的图表展示了图3所示各床中在循环各阶段的流程方向以及各床在整整一个吸附和再生的循环中的操作程序。

图4是基于15分钟循环时间绘制的。循环时间的定义是所有四个吸附器通过吸附和再生整个循环所需的时间。图4详细说明了各吸附器在一个完整循环期间所经历的十二个时段。某一单个工艺工序可能要经历若干时段。图4中各箭头表示第一时段的流通方向。随着各时段按下述方式往前推移，这种形式的流程会发生变化。图2是单式吸附器循环中各工序所需的时间对压力的典型关系曲线图。在下面的说明中，各阀门除非表明处于开启状态，否则都是处于关闭状态的。

时段1：

（a）阀1A和2A同时打开，开始在吸附器A中的吸附过程，同时阀1C和2C关闭，停止在吸附器C中的吸附过程。

（b）阀5C和5D打开，开始从吸附器C至吸附器D的均衡过程。在压力均衡过程中，令吸附器通过阀5C顺流降压到某一中间压力值。释放出来的气体直接流到吸附器D中，再次被加压（见图3和4），为该吸附器的部分再加压提供气体。在此工序过程中，杂质吸附面向前移到例如图1所示的料面24。在再加压的过程中，吸附器分两个阶段加压到吸附压力：

（1）压力均衡阶段，这时通过吸附器的阀5进入吸附器顶部的产品气体按上面（b）项所述的方式再次被加压;

（2）压力均衡阶段完成之后，加压继续进行，这时只有产品气体通过处于再加压中的吸附器的阀门5。再加压过程的最后部分在容器转换到吸附工序时进行的。

（c）部分产品流通过阀49、48和50转向，以便将产品在吸附器D中再加压。

（d）阀4B和37打开，开始吸附器B的逆流降压（排料）工序。在排料过程中，吸附器通过阀4B和37（逆流）从容器底部排料降压到废气流压力。杂质经脱附后排出，杂质吸附面就下降，譬如说与图1的料面28成正比。

时段2：

（a）吸附器A继续吸附。

（b）吸附器B继续排料。

（c）阀5C关闭，结束吸附器C和D之间的均衡过程。在其余工序过程中，吸附器C情况保持不变。

（d）吸附器D继续对产品进行再加压。

时段3：

（a）吸附器A继续吸附。

（b）吸附器D继续对产品进行再加压。

（c）用吸附器C顺流降压的最后阶段的流出物吹洗吸附器B。吸附器C通过阀3C、49和3B提供基本上干净的氢气（例如，百万分之30至100），干净的氢气吹洗吸附器B，并通过阀4B和37与脱附后的杂质一起排出。达到顺流降压所需的终止压力时，停止吹洗。例如参看图2。在此阶段期间，杂质吸附面向前移到降压吸附器顶部（例如图1中的料面26）。

（d）在时段3期间，检测装置32通过三通阀门130接收来自歧管118的顺流降压气体。杂质含量经测定后传送到控制装置134中。控制装置134计算杂质含量测定值与目标值之间的差值。若差值大于预定的容许值（例如5%），控制装置134就计算出新的循环时间，并通过改变时段予以执行。控制装置在杂质含量测定值与目标值之间的差值较大时进行较大的变动，差值较小时进行较小的变动。例如，差值为15%时，循环时间可能会变动5%。

若顺流降压气体中杂质含量测定值与目标值之间的差值是在预定容许值的范围内，则在时段4中测定产品杂质含量。

时段4：

（a）阀1D和2D同时打开，开始吸附器D中的吸附过程，同时阀1A和2A关闭，停止吸附器A中的吸附过程。

（b）阀5A和5B打开，开始从吸附器A至吸附器B的均衡过程。

（c）部分产品流通过阀49、48和5B转向，以便在吸附器B中对产品进行再加压。

（d）阀4C和7打开，开始吸附器C的排料。

（e）在时段4期间，若时段3中顺流降压气体中杂质含量测定值与目标值的差值在预定容许值范围内，则测定产品杂质含量。检测装置132通过三通阀130接收来自歧管138的产品气体。杂质含量测定值传送到控制装置134中，控制装置134则计算产品杂质含量测定值与最大容许值之间的差值。若差值大于预定容许值（例如3%），则改变顺流降压气体中的杂质含量。例如，差值为3%时，目标含量可能会变动10%。此新的目标含量用于时段6中。

时段5：

（a）吸附器D继续吸附。

（b）吸附器C继续排料。

（c）阀5A关闭，结束了吸附器A和B之间的均衡过程。在其余工序中，吸附器A情况保持不变。

（d）吸附器B继续对产品进行再加压。

时段6：

（a）吸附器D继续吸附。

（b）吸附器B继续对产品进行再加压。

（c）吸附器C用吸附器A顺流降压出来的流出物吹洗。吸附器A通过阀3A、34和3C提供干净氢气。干净氢气吹洗吸附器C并通过阀4C和37排出。

（d）吸附器A供应吹洗气体，直到压力降到顺流终止压力为止。

（e）在时段6期间，检测装置132通过三通阀130接收来自歧管118的顺流降压气体。信号传送到履行时段3中所述各项功能的控制装置134中。

时段7：

（a）阀1B和2B同时打开，开始吸附器B中的吸附过程，同时阀1D和2D关闭，使吸附器D中的吸附过程停下来。

（b）阀5C和5D打开，开始从吸附器D至吸附器C的均衡过程。

（c）部分产品流通过阀19、18和5C转向，以便产品在吸附器C中进行再加压。

（d）阀4A和37打开，吸附器A开始进入排料工序。

（e）在时段7期间，若杂质的测定值与目标值之间的差值在预定容许值范围内，则测定产品杂质含量。检测装置132通过三通阀130接收产品气体。杂质含量测定值传送到控制装置134，控制装置134即履行时段4中所述的各项功能。

时段8：

（a）吸附器B继续吸附。

（b）吸附器A继续排料。

（c）阀5D关闭，结束了吸附器D和C之间的均衡过程。在其它工序过程中，吸附器D情况保持不变。

（d）吸附器C继续对产品进行再加压。

时段9：

（a）吸附器B继续吸附。

（b）吸附器C继续对产品进行再加压。

（c）吸附器A由吸附器D进行吹洗。吸附器D通过阀3D、39和3A供应干净的氢气。干净氢气吹洗吸附器A并通过阀4A和37排出。

（d）吸附器D供应吹洗气体直到压力降至顺流终止压力为止。

（e）在时段9期间，检测装置132通过三通阀130接收来自歧管118的顺流降压气体。信号传送到履行时段3中所述各项功能的控制装置134。

时段10：

（a）阀1C和2C同时打开，开始吸附器C中的吸附过程，同时阀1B和2B关闭，使吸附器B中的吸附过程停下来。

（b）阀5A和5B打开，开始从吸附器B至吸附器A的均衡过程。

（c）部分产品流通过阀49、48和5A转向，以便在吸附器A中对产品进行再加压。

（d）阀4D和37打开，开始吸附器D的排料工序。

（e）在时段10期间，若杂质测定值与目标值之间的差值在预定容许值范围内，则测定产品杂质含量。检测装置132通过三通阀130接收产品气体。杂质含量测定值传送到控制装置134，控制装置134则履行时段4中所述的各项功能。

时段11：

（a）吸附器C继续吸附。

（b）吸附器D继续排料。

（c）阀5B关闭，结束了吸附器B与A之间的均衡过程。吸附器B在其余工序过程中情况保持不变。

（d）吸附器A继续对产品进行再加压。

时段12：

（a）吸附器C继续吸附。

（b）吸附器A继续对产品进行再加压。

（c）吸附器D由吸附器B吹洗。吸附器B通过阀3B、39和3D供应干净氢气。干净氢气吹洗吸附器D并通过阀4D和3排出。

（d）吸附器B供应吹洗气体直到压力降到顺流终止压力为止。在时段12终了时，系统返回到时段1，重复循环过程。

（e）在时段12期间，检测装置132通过三通阀130接收来自歧管118的顺流降压气体。信号传送到履行时段3中所述各项功能的控制装置134中。

此工艺可采用任何适当的吸附剂进行操作，如前面谈过的喜代永的专利提出的对产品流体中的杂质具有选择性的吸附剂，例如沸石分子筛、活性碳、硅胶、活性铝土等。

上述说明是为教导所属技术领域的普通技术人员如何实现本发明而编写的，我们不想一一详述熟练工人在阅读本说明书之后不言而喻可以进行的各种修改和更改。然而，这些显而易见的修改和更改都属于本发明在下述权利要求中规定的范围。

Claims (20)

1、一种控制包括顺流降压工序的压力变动式吸附过程中气体产品流杂质含量的方法，其特征在于，该方法包括：

检测所述顺流降压工序得出的流出物的性能；和

根据检测出的性能采取校正行动，所述行动能有效地改变产品气体中的杂质浓度，使其朝获得所希望产品纯度所需的方向转化。

2、根据权利要求1的方法，其特征在于，所测定的物理性能为所述流出物中的杂质浓度。

3、根据权利要求1的方法，其特征在于，所述校正行动包括改变供料速度。

4、根据权利要求1的方法，其特征在于，所述校正行动包括改变吸附工序的持续时间。

5、根据权利要求1的方法，其特征在于，所述校正行动包括改变顺流降压工序的终止压力。

6、根据权利要求1的方法，其特征在于，该方法还包括下列工序：检测产品气体流中的杂质含量;将产品气体流中杂质含量的检测值与基准值进行比较;根据产品气体流中杂质含量检测值与基准值的比较结果确定顺流降压流出物检测值的目标值。

7、一种控制包括顺流降压工序的压力变动式吸附过程中气体产品流中杂质含量的方法，其特征在于，该方法包括：

检测所述顺流降压工序得出的流出物的性能;

根据检测出的性能采取校正行动，所述行动能有效地改变产品气体中的杂质浓度，使其朝获得所希望产品纯度所需要的方向转化;

检测产品气体流的物理性能;

将检测出的产品气体流的物理性能与基准值进行比较;和

根据产品气体流中杂质含量检测值与基准值的比较结果确定所检测的顺流降压流出物性能的目标值。

8、根据权利要求7的方法，其特征在于，所检测的物理性能为所述流出物中的杂质浓度。

9、根据权利要求8的方法，其特征在于，所述校正行动包括改变吸附工序的持续时间。

10、根据权利要求8的方法，其特征在于，所述校正行动包括改变顺流降压工序的终止压力。

11、一种控制包括顺流降压工序的压力变动式吸附过程中气体产品流中杂质含量用的设备，其特征在于，该设备包括：

检测装置，用以检测从所述顺流降压工序中得出的流出物的性能;和

校正装置，用以根据所检测出的性能采取校正行动，所述行动能有效地改变产品气体中杂质的浓度，使其朝获取所希望的产品纯度所需的方向转化。

12、根据权利要求11的设备，其特征在于，所测定的物理性能为所述流出物中杂质的浓度。

13、根据权利要求11的设备，其特征在于，所述校正行动包括改变供料速度。

14、根据权利要求11的设备，其特征在于，所述校正行动包括改变吸附工序的持续时间。

15、根据权利要求11的设备，其特征在于，所述校正行动包括改变顺流降压工序的终止压力。

16、根据权利要求11的设备，其特征在于，该设备还包括检测产品气体流中杂质含量用的装置;比较产品气体流中杂质含量检测值与基准值用的装置;和用以根据产品气体流中杂质含量检测值与基准值的比较结果确定顺流降压流出物检测值的目标值的装置。

17、一种控制包括顺流降压工序的压力变动式吸附过程中气体产品流中杂质含量用的设备，其特征在于，该设备包括：

检测装置，用以检测从所述顺流降压工序中得出流出的物的性能;

校正装置，用以根据所检测出的性能采取校正行动，所述行动能有效地改变产品气体中杂质的浓度，使其朝获取所希望的产品纯度所需要的方向转化;

检测装置，用以检测产品气体流的物理性能;

比较装置，用以将产品气体流物理性能检测值与某一基准值进行比较;

目标值确定装置，用以根据产品气体流中杂质检测值与基准值的比较结果确定所检测的顺流降压流出物性能的目标值。

18、根据权利要求17的设备，其特征在于，所检测的物理性能为所述流出物中的杂质浓度。

19、根据权利要求18的设备，其特征在于，所述校正行动包括改变吸附工序的持续时间。

20、根据权利要求18的设备，其特征在于，所述校正行动包括改变顺流降压工序的终止压力。

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