CN2884873Y - 一种用于生物的连续离子注入复合处理生产设备 - Google Patents
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Abstract
一种生物的连续离子注入复合处理生产设备，主要由小真空室和大速率抽气的真空系统组成，真空系统采用机械泵+扩散泵配置，扩散泵个数为至少两个，每个扩散泵与真空室的接口分别配置在样品台四周不同位置的真空室壁上。在真空室壁上装1－4个金属蒸汽真空弧离子源，1－4个激光源，0－8个电子枪，将金属蒸汽真空弧源离子源、激光源、电子枪三种技术复合，形成一部整体设备，发挥它们各自的优势，使生物样品发出的气体能被迅速抽出真空室，保证离子源正常工作，一次完成生物样品的离子注入处理过程。本实用新型可实现生物样品的多种离子注入复合处理工艺，具有连续快速处理能力。
Description
发明目的本实用新型涉及一种离子注入设备，尤其是在离子束育种行业应用于生物样品离子注入复合处理的一种连续离子注入设备。
背景技术离子束育种技术经数十年发展，形成了各种各样的技术和设备，能满足大多数的离子束生物育种的需求：
金属蒸汽真空弧源离子束技术，是20世纪80年代后期国际上迅速发展起来的一种高新技术，该技术的特点是在不改变样品表面形状和尺寸的基础上，向样品表面引入各种金属离子，金属蒸汽真空弧源离子束区别于其他离子束技术的重要特点是它具有大束流、大束班，能快速进行大批量处理，特别适用于规模化应用。
电子枪和激光源能产生电子束和激光束，结合金属蒸汽真空弧源，它们可以对生物样品进行电子轰击和激光照射，增强离子注入的诱变效果。
但上述技术还存在以下问题：生物在真空中失水较快，如果在真空中再予以离子注入，则发汽失水更为严重。离子束处理过程中生物需置于真空中，由于生物在经受离子轰击时的发气量很大，致使现有设备的真空条件不能始终满足工作要求，不得不采取间歇的方式处理，即离子注入→生物发气破坏真空度→暂停离子注入并恢复真空度→离子注入→……。这样，对于有些生物(如一些种类的植物种子)，由于处于真空的时间过长，致使生物还未达到处理要求而失水死亡。
检索结果表明，有一些多种技术组合成一部设备的文献报道，如实用新型专利：多功能全方位增强沉积型离子注入机，发明专利：离子注入复合镀膜设备，等等。但这些技术设备没有涉及解决生物的离子注入时的发气问题。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种用于生物处理的连续离子注入设备，通过采用大速率抽气的真空系统来实现连续离子注入处理，以解决生物的离子注入时的发气问题。
本实用新型解决上述问题所采用的技术方案是：一种用于生物的连续离子注入复合处理生产设备，其主体部分由真空系统和小真空室组合构成，小真空室外型为圆柱体，内设有放置生物样品的样品台，样品台为公转和自转结构，可平移和倾斜，其特征在于：所述真空系统为由机械泵和两个以上的扩散泵配置构成的大抽气速率真空系统，每个扩散泵与真空室的接口分别配置在样品台四周不同位置的真空室壁上；在小真空室壁上安装有金属蒸汽真空弧源离子源、激光源和电子枪，分别向真空室内注入离子、发射光子和电子；所述设备还包括水冷系统、充气监控系统和测温系统。
本实用新型采用小真空室和大速率抽气的真空系统，将金属蒸汽真空弧源离子源、激光源、电子枪三种技术有机地复合，形成一种性能优越、功能齐全的生物离子束处理整体设备，发挥它们各自的优势。并且将真空系统接口置于样品台四周的多个临近位置，使生物样品发出的气体能被迅速抽出真空室，保证离子源正常工作，一次完成生物样品的离子注入处理过程。真空系统采用机械泵+扩散泵配置，扩散泵直径为300mm，扩散泵个数2个或以上。每个扩散泵与真空室的接口分别配置在样品台四周不同位置上。该装置能够在不破坏真空和连续离子注入的条件下，一次完成大批量生物样品离子注入过程。并且在这一过程中，3种技术设备进行各种排列组合的分步工作或同步工作。
本实用新型的有益效果是利用小真空室和大速率抽气的真空系统，可以在短时间内达到所需的真空度，并在离子注入处理时保持所需的真空度，保证生物体的活性；采用金属蒸汽真空弧源离子源、激光源、电子枪三种技术复合，有效地增强了离子注入对生物体的诱变效果。
附图说明下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1为本实用新型的第一个实施例构造的主视图。
图2为本实用新型的第一个实施例构造的剖视图。
图3为本实用新型的第二个实施例构造的主视图。
图4为本实用新型的第二个实施例构造的剖视图。
图中1.金属蒸汽真空弧离子源，2.激光源，3.电子枪，4.样品台，5.真空室门，6.真空室，7.扩散泵接口，8.扩散泵。
具体实施方式 本实用新型的目的是这样实现的：在真空室壁上装1-4金属蒸汽真空弧离子源1，1-4个激光源2，0-8个电子枪3。所有上述设备的中心线可以与水平面平行，也可以与水平面交一定角度。电子枪3(源)是空心阴极源或热灯丝源；金属蒸汽真空弧离子源1又称之为MEVVA源。整个设备还包括真空室6、真空室门5、样品台4、抽气系统、水冷系统、充气监控系统、测温系统等附带部分。
工作时，将待处理的生物样品放在真空室样品台4上，抽真空。在真空满足要求后，金属蒸汽真空弧离子源1、激光源2和电子枪3三种装置按不同的先后顺序轮流工作，也可同时工作，对生物样品进行处理。
在图1和图2所示的实施方案中，设备真空室上装有2个300mm扩散泵8，2个扩散泵接口7，2个金属蒸汽真空弧离子源1，2个激光源2，2个电子枪3。样品台4为公转和自转结构。如上所述采用各种技术工艺，可以完成生物样品的离子注入为主的复合处理。
在图3和图4所示的实施方案中，设备真空室上装有1个金属蒸汽真空弧离子源1，2个激光源2，2个电子枪3。样品台4可平移和倾斜。如上所述采用各种技术工艺，可以完成生物样品的多方位离子注入为主的复合处理。
Claims (5)
1.一种用于生物的连续离子注入复合处理生产设备，其主体部分由真空系统和小真空室组合构成，小真空室外型为圆柱体，内设有放置生物样品的样品台，样品台为公转和自转结构，可平移和倾斜，其特征在于：所述真空系统为由机械泵和两个以上的扩散泵配置构成的大抽气速率真空系统，每个扩散泵与真空室的接口分别配置在样品台四周不同位置的真空室壁上；在小真空室壁上安装有金属蒸汽真空弧源离子源、激光源和电子枪，分别向真空室内注入离子、发射光子和电子；所述设备还包括水冷系统、充气监控系统和测温系统。
2.根据权利要求1所述的用于生物的连续离子注入复合处理生产设备，其特征是：其金属蒸汽真空弧源离子源加速电压为1--60千伏可调，平均离子束流为1--100毫安可调，设备上可以装1--4个金属蒸汽真空弧离子源。
3.根据权利要求1所述的用于生物的连续离子注入复合处理生产设备，其特征是：其电子枪是空心阴极源或热灯丝源，输出电子电流0--8安培可调，设备上可以装0--8个电子枪。
4.根据权利要求1所述的用于生物的连续离子注入复合处理生产设备，其特征是：激光源可以是氦氖或红宝石型的激光源，设备上可以装1--4个激光源。
5.根据权利要求1所述的用于生物的连续离子注入复合处理生产设备，其特征是：金属蒸汽真空弧源离子源、激光源、电子枪均安装于真空室壁上，所有上述装置的中心线可以与水平面平行，也可以与水平面交一定角度。
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| CN 200620013189 CN2884873Y (zh) | 2006-04-13 | 2006-04-13 | 一种用于生物的连续离子注入复合处理生产设备 |
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| CN 200620013189 CN2884873Y (zh) | 2006-04-13 | 2006-04-13 | 一种用于生物的连续离子注入复合处理生产设备 |
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| CN2884873Y true CN2884873Y (zh) | 2007-04-04 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102047390A (zh) * | 2008-03-05 | 2011-05-04 | 瓦里安半导体设备公司 | 太阳能电池中合并植入的使用 |
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2006
- 2006-04-13 CN CN 200620013189 patent/CN2884873Y/zh not_active Expired - Fee Related
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