CN2854767Y - 微米级承压高低调整装置 - Google Patents

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Abstract

一种微米级承压高低调整装置,包括底座、梯形滑块机构、丝杆螺母机构和左、右限位块,在下滑块的下面与底座及上平面与上滑块之间均设有减磨板和导向键,螺母固定在下滑块上,精密螺杆支承在底座上,调节手轮安装在螺杆上,左右限位块设置在上滑块的左右两端,并固定在底座上。由于下滑块的上、下接触面均采用光滑平面与减磨板相接触的滑动结构形式,摩擦系数极小,即使上滑块承受大载荷其移动的阻力也不大,精密的丝杆螺母机构能确保调节时无间隙,精密螺杆的螺距及梯形滑块机构倾斜角度任意设定方案,能实现上滑块的微米升降,这种结构能适应高承压微米级调整,特别适合各类大型高精度设备的安装调试。

Description

微米级承压高低调整装置
技术领域:
本实用新型涉及一种机械设备高低调整装置,尤其涉及各类加工中心、各类精密数控机床、各类大型精密设备用的高低调整装置。
背景技术:
目前,各类加工中心、各类精密数控机床、各类大型精密设备所用的安装调整都是用机床调整垫铁,这类调整垫铁只能粗略地调节机床的高低,在实际安装调试过程中都必须与不同规格的铜皮配合使用,以达到精确调整机床高低的目的。这种机床调整垫铁无法实现微米级调节精度,同时在承受重载时更不能实现手工精细调节,这对大型精密设备的精密安装调试带来极大的困难,到目前为止尚未找到一种既能承受高压力,又能手动实现微米级调节设备高低的理想调节装置。
发明内容:
本实用新型的发明目的是克服现有机床调整垫铁存有的上述不足,提供一种微米级承压高低调整装置。
本实用新型所述微米级承压高低调整装置,由底座、下减磨板、下导向键、下滑块、精密螺母、精密螺杆、上滑块、上减磨板、上导向键、右限位块、左限位块、轴承盖、轴承、调节手轮组成,所述下减磨板设置在下滑块与底座之间,并固定在底座上,在底座与下滑块之间设有下导向键,下导向键固定在底座上,所述下滑块的下端面为光滑平面,上端面为右低左高的光滑斜面,在该斜面上固定有上导向键,在上滑块和下滑块之间设有上减磨板,精密螺母固定在下滑块上,精密螺杆与精密螺母相配合,精密螺杆的两端通过轴承、轴承盖支承在底座的左右立板上,调节手轮安装在精密螺杆上,左右限位块分别固定在底座的左右立板上,上滑块位于左右限位块之间。
由于下滑块的上、下接触面均采用光滑平面与减磨板相接触的滑动结构形式,下滑块在滑动过程中的磨擦系数极小,移动阻力小,在上滑块承受大载荷时其移动的阻力也不大,精密的丝杆螺母机构能确保下滑块向右移动时无间隙,同时,由于精密螺杆的螺距可在一定范围内任意设定,下滑块的上平面的倾斜角度也可人为设置,精密螺杆每转一圈可分为360度,因此,通过精密螺杆可实现上滑块的微米升降,这种结构能适应高承压微米级调整,特别适合各类大型高精度设备的安装调试,不仅安装方便、调节轻便,而且调整精度等级高,能实现微米级升降。
附图说明:
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为图1中A-A剖视图;
图3为图1的俯视图;
图中:1-底座;2-下减磨板;3-下导向键;4-下滑块;5-精密螺母6-精密螺杆;7-上滑块;8-上减磨板;9-上导向键;10-右限位块;11-左限位块;12-轴承盖;13-轴承;14-调节手轮;15、16、18-螺钉;17-沉头螺钉;
具体实施方式:
下面结合附图说明本实用新型具体实施方式:
本实用新型所述微米级承压高低调整装置,由底座1、下减磨板2、下导向键3、下滑块4、精密螺母5、精密螺杆6、上滑块7、上减磨板8、上导向键9、右限位块10、左限位块11、轴承盖12、轴承13、调节手轮14组成,所述下减磨板2设置在下滑块4与底座1之间,并由沉头螺钉17固定在底座1上,在底座1与下滑块4之间设有下导向键3,下导向键3通过螺钉15固定在底座1上,所述下滑块4的下端面为光滑平面,上端面为右低左高的光滑斜面,在该光滑斜面上固定有上导向键9,在上滑块7和下滑块4之间设有上减磨块8,上减磨板8固定在上滑块7的下端面上,精密螺母5通过螺钉16固定在下滑块4上,精密螺杆6与精密螺母5相配合,精密螺杆6的两端通过轴承13、轴承盖12支承在底座1的左右立板上,调节手轮14安装在精密螺杆6的左侧,左右限位块11、10通过螺钉18分别固定在底座1的左右立板上,上滑块7位于左右限位块11、10之间。
其调节方法如下:
转动调节手轮14精密螺杆6将随之转动,由于精密螺杆6轴向固定,与精密螺杆6配合的精密螺母5带动下滑块4向右移动,由于上滑块7设置左、右限位块11、10之间,当下滑块4向右移动时,上滑块7只能向上升,反之,上滑块7向下降落,由于调节手轮14每转一圈可分成360等份,上、下滑块7、4之间的配合角度可以人为设定,因此,上滑块7的上降能实现微米级调节,同时能承受高压力。

Claims (1)

1、一种微米级承压高低调整装置,其特征是:它包括底座(1)、下减磨板(2)、下导向键(3)、下滑块(4)、精密螺母(5)、精密螺杆(6)、上滑块(7)、上减磨板(8)、上导向键(9)、右限位块(10)、左限位块(11)、轴承盖(12)、轴承(13)、调节手轮(14),所述下减磨板(2)设置在下滑块(4)与底座(1)之间,并固定在底座(1)上,在底座(1)与下滑块(4)之间设有下导向键(3),下导向键(3)固定在底座(1)上,所述下滑块(4)的下端面为光滑平面,上端面为右低左高的光滑斜面,在该斜面上固定有上导向键(9),在上滑块(7)和下滑块(4)之间设有上减磨板(8),精密螺母(5)固定在下滑块(4)上,精密螺杆(6)与精密螺母(5)相配合,精密螺杆(6)的两端通过轴承(13)、支承在底座(1)的左右立板上,调节手轮(14)安装在精密螺杆(6)上,左限位块(11)、右限位块(10)分别固定在底座(1)的左右立板上,上滑块(7)位于左限位块(11)、右限位块(10)之间。
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EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

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Assignor: Li Zhongping

Contract fulfillment period: 2007.1.18 to 2015.1.17

Contract record no.: 2008320001016

Denomination of utility model: Micrometer pressure-bearing high-low regulating means and method of use thereof

Granted publication date: 20070103

License type: Exclusive license

Record date: 20081020

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Effective date: 20081020

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