CN2817997Y - 基板清洗装置 - Google Patents
基板清洗装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN2817997Y CN2817997Y CN 200520061163 CN200520061163U CN2817997Y CN 2817997 Y CN2817997 Y CN 2817997Y CN 200520061163 CN200520061163 CN 200520061163 CN 200520061163 U CN200520061163 U CN 200520061163U CN 2817997 Y CN2817997 Y CN 2817997Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- base plate
- cleaning device
- plate cleaning
- nozzle
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
本实用新型公开一基板清洗装置，其包括一用于承载基板的工作台和一支架，其中，该支架上设置有一用气体移除残留液体的气体喷嘴和一用液体清洗基板的液体喷嘴。该装置可快速且安全地排除位于基板表面的残留液体。
Description
【技术领域】
本实用新型是关于一种显影制程设备，特别是关于一种应用于显影制程的基板清洗装置。
【背景技术】
微影制程主要由光阻涂覆、曝光和显影所组成。涂覆制程是将光阻均匀的涂覆在基板表面；曝光制程是利用光阻感光的特性将光罩上的图案转移到光阻上面；显影制程是使用显影液将不必要的光阻去除，使图形完整的显现在基板上。
就显影制程而言，业界一般是利用玻璃和显影液喷嘴之间的相对移动来实现显影液涂覆至玻璃基板表面，然后静置一段时间待反应完成后，再将玻璃基板表面的显影液移除。
请参阅图1，是一现有技术的移除玻璃基板表面显影液的基板清洗装置1，其包括一工作台15、支架14。该工作台15边缘设置有多个可上下伸缩的伸缩杆12，该支架14固定于该工作台15上，其上有一喷嘴13，该喷嘴13是用于向基板11上喷射显影液。在喷嘴13向基板11喷射显影液时，伸缩杆12缩入工作台15内，待反应结束，伸缩杆12升起，使显影液从基板11上方流下，实现显影液从基板11上移除的动作。此种基板清洗装置1有如下缺陷：a.玻璃需要另行倾斜或顶起，容易造成碎片，安全性低。b.玻璃倾斜或顶起后，须等待显影液流下，才可执行下一步骤，增加了操作工时。
请参阅图2，为另一现有技术的移除玻璃基板表面显影液的基板清洗装置2，其包括一工作台25、支架24。该工作台25中央设置有多个可上下伸缩的伸缩杆22，该支架24固定于该工作台25上，其上有一喷嘴23，该喷嘴23是用于向基板21上喷射显影液。在喷嘴23向基板21喷射显影液时，伸缩杆22缩入工作台内，待反应结束，伸缩杆22升起，使显影液从基板21上方流下，实现显影液从基板21上移除的动作。该基板清洗装置2与基板清洗装置1区别在于其伸缩杆22设置在工作台25中央，相较基板清洗装置1其显影液移除时间减少，减少了部分操作时间，但仍然有易造成碎片的缺陷。
【实用新型内容】
为克服现有技术基板清洗装置安全性低和操作速度较慢的缺陷，有必要提供一种安全性高和操作速度快的基板清洗装置。
一种实施方式解决技术问题的技术方案是：提供一基板清洗装置，其包括一用于承载基板的工作台和一支架，其中，该支架上设置有一用气体移除残留液体的气体喷嘴和一用液体清洗基板的液体喷嘴。
相较现有技术，上述基板清洗装置利用气体和液体来清除基板表面的残留液体，无需抬起基板，降低了造成碎片的几率，提高了安全性，另外，也不用等待残留液体流下，节省了操作时间。
【附图说明】
图1是现有技术基板清洗装置的立体图。
图2是另一现有技术基板清洗装置的立体图。
图3是本实用新型基板清洗装置立体图。
图4是本实用新型基板清洗装置剖面图。
【具体实施方式】
请一起参阅图3和图4，图3是本实用新型基板清洗装置第一实施方式的立体图，图4是本实用新型基板清洗装置第一实施方式的剖面图。本实用新型基板清洗装置3包括一工作台36、一支架33、一喷嘴支撑桥37、一气体喷嘴31和一液体喷嘴32。该工作台36是用来承载基板30的，该支架33固定于工作台36上，喷嘴支撑桥37固定于支架33上，气体喷嘴31和液体喷嘴32分别位于喷嘴支撑桥37两侧，另外，气体喷嘴31和液体喷嘴32分别通过枢纽34、35与喷嘴支撑桥37连接，这样气体喷嘴31和液体喷嘴32可以以不同角度向基板30喷射气体和液体，其中该液体为去离子水，选择最佳的工作状态。当显影液将光阻去除后，该基板清洗装置3启动，气体喷嘴31和液体喷嘴32分别喷出气体和去离子水，而基板30在工作台上移动，先后经过气体喷嘴31和液体喷嘴32，即先由气体流将基板30表面的显影液吹掉，再使用去离子水清洗基板30表面。
该基板清洗装置3使用位置固定角度可调的气体喷嘴31和液体喷嘴32来清除基板30表面的显影液，无需抬起基板30，降低了造成碎片的几率，提高了安全性，另外，也不用等待显影液流下，可边喷射气体和去离子水边移动基板30，节省了操作时间。
Claims (5)
1.一基板清洗装置，其包括一用于承载基板的工作台和一支架，其特征在于：该支架上设置有一用气体移除残留液体的气体喷嘴和一用液体清洗基板的液体喷嘴。
2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：该支架中部有一喷嘴支撑桥，该喷嘴支撑桥位于该气体喷嘴和该液体喷嘴之间。
3.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：放置在工作台上的基板可相对该气体喷嘴及该液体喷嘴移动。
4.如权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于：该气体喷嘴通过一枢纽与该支撑桥连接。
5.如权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于：该液体喷嘴通过一枢纽与该支撑桥连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200520061163 CN2817997Y (zh) | 2005-07-02 | 2005-07-02 | 基板清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200520061163 CN2817997Y (zh) | 2005-07-02 | 2005-07-02 | 基板清洗装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN2817997Y true CN2817997Y (zh) | 2006-09-20 |
Family
ID=37004049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 200520061163 Expired - Lifetime CN2817997Y (zh) | 2005-07-02 | 2005-07-02 | 基板清洗装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN2817997Y (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105655232A (zh) * | 2014-11-25 | 2016-06-08 | 旺宏电子股份有限公司 | 基板处理方法、基板处理装置及其应用 |
-
2005
- 2005-07-02 CN CN 200520061163 patent/CN2817997Y/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105655232A (zh) * | 2014-11-25 | 2016-06-08 | 旺宏电子股份有限公司 | 基板处理方法、基板处理装置及其应用 |
| CN105655232B (zh) * | 2014-11-25 | 2019-08-23 | 旺宏电子股份有限公司 | 基板处理方法、基板处理装置及其应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1221331C (zh) | 多功能清洗模块及应用该模块的清洗设备 | |
| CN103611715B (zh) | 镜片多轴双面自动清洗机 | |
| CN102540770B (zh) | 显影方法、显影装置及具备该显影装置的涂敷显影处理系统 | |
| CN1848400A (zh) | 以多组夹指夹持晶片的装置的机械构造 | |
| US10173251B2 (en) | Cleaning device for cleaning a glass substrate and a semi-finished array substrate | |
| CN105759480A (zh) | 配向膜的制作方法及配向膜制作设备 | |
| CN2817997Y (zh) | 基板清洗装置 | |
| KR100897351B1 (ko) | 기판 현상 방법 및 장치 | |
| JP2010093265A (ja) | 処理液供給ユニットとこれを利用した基板処理装置及び方法 | |
| CN112570227B (zh) | 一种用于公路指示牌涂刷高反射率粉末涂料的设备 | |
| CN102764741B (zh) | 转印版清洗设备 | |
| CN1690860A (zh) | 显影液移除装置 | |
| CN117153738A (zh) | 一种MiniLED基板等离子清洗设备及清洗方法 | |
| CN207629458U (zh) | 叠片焊接装置及电池串返修机 | |
| CN101984508B (zh) | Led老化方法 | |
| CN100467140C (zh) | 涂布装置 | |
| CN1862384A (zh) | 浸没式光刻机浸液流场维持系统 | |
| CN204391074U (zh) | 半导体晶圆制造显影预对准装置 | |
| CN1279580C (zh) | 衬底处理装置和衬底处理方法 | |
| CN107966886B (zh) | 一种加热装置及光刻设备 | |
| CN105842886B (zh) | 玻璃分离方法及其设备 | |
| CN109807583A (zh) | 一种剪机刀片更换装置及更换方法 | |
| CN218358156U (zh) | 一种用于建筑工地的扬尘处理装置 | |
| CN105093691B (zh) | 光取向设备及其承载装置 | |
| KR20190091090A (ko) | 태양광 패널 모듈 세정 로봇 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Expiration termination date: 20150702 Granted publication date: 20060920 |
|
| EXPY | Termination of patent right or utility model |